JP2010279576A5 - 撮像装置、撮像装置の制御方法、ｏｃｔによる断層画像の形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、ＯＣＴによる断層画像の形成方法に関し、特に眼科診療等に用いられる撮像装置、撮像装置の制御方法、ＯＣＴによる断層画像の形成方法に関するものである。

本発明は、上記課題に鑑み、被検査物の撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分だけ他の部分よりも分解能を上げることによって、撮像時間の短縮化を図り、効率的な断層画像の取得が可能となる撮像装置、撮像装置の制御方法、ＯＣＴによる断層画像の形成方法の提供を目的とする。

本発明は、つぎのように構成した撮像装置、撮像装置の制御方法、ＯＣＴによる断層画像の形成方法を提供するものである。
本発明の撮像装置は、走査手段を介して測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物を撮像する撮像装置であって、
前記被検査物における前記測定光のスポット径の大きさを変更する径変更手段と、
前記走査手段により前記測定光を、前記被検査物を撮像する撮像領域の一部の領域で走査する場合には、該撮像領域の他の領域で走査する場合に比べて、前記被検査物における前記測定光のスポット径を小さくするように、前記径変更手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の撮像装置の制御方法は、走査手段を介して測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物を撮像する撮像装置の制御方法であって、
前記走査手段により前記測定光を、前記被検査物を撮像する撮像領域の一部の領域で走査する場合には、該撮像領域の他の領域で走査する場合に比べて、前記被検査物における前記測定光のスポット径を小さくするように、前記被検査物における前記測定光のスポット径の大きさを変更する工程を有することを特徴とする。
また、本発明の断層画像の形成方法は、光源からの光を被検査物に照射し、前記被検査物からの反射または散乱した戻り光と参照光との合成による干渉光を用い、前記被検査物の断層画像を形成するＯＣＴによる断層画像の形成方法であって、
前記被検査物に対する撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分に対して、その必要性に応じて他の部分よりも高い解像度で撮像する工程を有し、
前記高解像度で撮像することが必要な部分を撮像するときには、前記光源からの光によるビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、
深さ方向に対して、前記他の部分を撮像するときよりも多い撮像回数で撮像することを特徴とする。

本発明によれば、被検査物の撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分だけ他の部分よりも分解能を上げることによって、撮像時間の短縮化を図り、効率的な断層画像の取得が可能となる撮像装置、撮像装置の制御方法、ＯＣＴによる断層画像の形成方法を実現することができる。

Claims (17)

1. 走査手段を介して測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物を撮像する撮像装置であって、
   前記被検査物における前記測定光のスポット径の大きさを変更する径変更手段と、
   前記走査手段により前記測定光を、前記被検査物を撮像する撮像領域の一部の領域で走査する場合には、該撮像領域の他の領域で走査する場合に比べて、前記被検査物における前記測定光のスポット径を小さくするように、前記径変更手段を制御する制御手段と、
   を有することを特徴とする撮像装置。
2. 前記被検査物の深さ方向に前記測定光の焦点位置を変更する焦点位置変更手段を有し、
   前記走査手段により前記測定光を前記一部の領域で走査する場合には、前記被検査物を異なる焦点位置で複数回撮像することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
3. 前記制御手段が、前記走査手段により前記測定光を前記他の領域で走査する場合には、前記一部の領域で走査する場合に比べて、前記被検査物を撮像する回数を少なくするように、前記焦点位置変更手段を制御することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
4. 前記走査手段により前記測定光を前記一部の領域で走査する場合には、前記被検査物の深さ方向に前記測定光の焦点位置を前記測定光のスポット径に対応する距離変更して、前記被検査物を異なる焦点位置で複数回撮像することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の撮像装置。
5. 前記走査手段は、前記測定光を前記被検査物上で略同心円状に走査し、
   前記一部の領域は、前記被検査物における前記略同心円の中心部であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
6. 前記走査手段は、前記測定光を前記被検査物上でラスタ走査することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の撮像装置。
7. 前記測定光に対応する参照光と前記戻り光とを合波した光に基づく前記被検査物の複数の断層画像から、３次元断層画像を取得する取得手段を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の撮像装置。
8. 前記径変更手段は、前記測定光の光路に設けられ、開口数を変更可能な可変エクスパンダであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
9. 前記被検査物は、被検眼であり、
   前記一部の領域は、前記被検眼の眼底の黄斑を含むことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の撮像装置。
10. 走査手段を介して測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物を撮像する撮像装置の制御方法であって、
    前記走査手段により前記測定光を、前記被検査物を撮像する撮像領域の一部の領域で走査する場合には、該撮像領域の他の領域で走査する場合に比べて、前記被検査物における前記測定光のスポット径を小さくするように、前記被検査物における前記測定光のスポット径の大きさを変更する工程を有することを特徴とする撮像装置の制御方法。
11. 前記走査手段により前記測定光を前記一部の領域で走査する場合には、前記被検査物を異なる焦点位置で複数回撮像する工程を有することを特徴とする請求項１０に記載の撮像装置の制御方法。
12. 請求項１０または請求項１１に記載の撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータで実行させることを特徴とするプログラム。
13. 光源からの光を被検査物に照射し、前記被検査物からの反射または散乱した戻り光と参照光との合成による干渉光を用い、前記被検査物の断層画像を形成するＯＣＴによる断層画像の形成方法であって、
    前記被検査物に対する撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分に対して、その必要性に応じて他の部分よりも高い解像度で撮像する工程を有し、
    前記高解像度で撮像することが必要な部分を撮像するときには、前記光源からの光によるビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、深さ方向に対して、前記他の部分を撮像するときよりも多い撮像回数で撮像することを特徴とするＯＣＴによる断層画像の形成方法。
14. 前記工程は、前記ビームを同心円状に走査する工程を含み、
    前記同心円状に走査する工程においては、同心円の外周から中心までの距離に応じて前記スポット径を大きいスポット径から小さいスポット径に変えることにより、同心円の外周から中心に向かうにしたがって解像度を上げ、
    小さいスポット径のときほど、より多い撮像回数で、深さ方向に対して異なる深さで撮像することを特徴とする請求項１３に記載のＯＣＴによる断層画像の形成方法。
15. 前記同心円状に走査する工程において、同心円状の走査が同心円状にスキャンを行うスキャン光学系を用いて行われることを特徴とする請求項１４に記載のＯＣＴによる断層画像の形成方法。
16. 前記工程は、前記ビームをラスタスキャンにより走査する工程を含み、
    前記ラスタスキャンにより走査する工程においては、ビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、
    前記高解像度で撮像することが必要な部分の深さ方向に対する範囲を多層に分けて、複数回撮像することを特徴とする請求項１３に記載のＯＣＴによる断層画像の形成方法。
17. 請求項１３から１６のいずれか１項に記載のＯＣＴによる断層画像の形成方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。