JP2014226173A - 光断層画像生成装置及び光断層画像生成装置を制御する方法、そのプログラム、記憶媒体 - Google Patents
光断層画像生成装置及び光断層画像生成装置を制御する方法、そのプログラム、記憶媒体 Download PDFInfo
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Abstract
Description
このように、常に同じ場所に出るわけではないという複雑性が、自動調整機能の実装を複雑にし、精度を低下させる要因となる。
(2) (1)の光断層画像生成装置において、前記光干渉受光手段に受光された干渉信号に基づいて前記表示手段における被検物の断層画像の有無及びその位置を解析する解析手段を有することを特徴とする。
(3) (1)〜(2)の光断層画像生成装置において、前記解析手段が解析した被検物の断層画像の有無及びその位置に基づいて前記参照用光束の光路長を変更して前記表示手段の所定位置に被検物の断層画像を表示することを特徴とする。
(4) (1)〜(3)の光断層画像生成装置において、前記表示手段に表示された被検物の断層画像に基づいて、前記集光用レンズ位置変更手段を制御することを特徴とする。
(5) (1)〜(4)の光断層画像生成装置において、前記走査制御手段は被検物に照射される前記測定用光束の軌跡が閉曲線あるいはその一部を形成するように前記走査手段を制御することを特徴とする。
(6) (5)の光断層画像生成装置において、閉曲線は円環であることを特徴とする。
(7) 被検眼に光束を照射する光源と、前記光束を測定用光束と参照用光束に分離する手段と、前記測定用光束を被検眼の所定位置に照射するために測定用光束を2次元方向に走査する走査手段と、前記走査手段を制御する走査制御手段と、測定光を被検物に集光するための集光用レンズの位置を変更する集光用レンズ位置変更手段と、被検物によって変化する前記測定用光束の光路長と前記参照用光束の光路長を合わせるため、前記参照用光束の光路長を変更する参照用光束光路長変更手段と、前記測定用光束の被検物における反射光と前記参照用光束を干渉させて受光する干渉光受光手段と、受光した干渉光信号に基づいて前記測定用光束の照射部位における断層画像を生成する断層画像生成手段と、前記測定用光束が照射される部位の正面画像を生成する正面画像生成手段と、生成された断層画像あるいは正面画像を表示する表示手段と、前記表示手段に表示された正面画像に測定用光束を照射する基準位置を設定する照射基準位置設定手段とを有する光断層画像生成装置の制御方法であって、前記測定用光束が前記集光用レンズの中央領域を避けるように前記走査手段を制御する走査制御工程と、前記光干渉受光手段に受光された干渉信号に基づいて前記表示手段における被検物の断層画像の有無及びその位置を解析する解析工程と、前記解析工程が解析した被検物の断層画像の有無及びその位置に基づいて前記参照用光束の光路長を変更して前記表示手段の所定位置に被検物の断層画像を表示する断層画像表示工程と、前記断層画像表示工程によって表示された被検物の断層画像に基づいて前記集光用レンズ位置変更手段を制御する工程と、を有することを特徴とする。
(8) (7)の光断層画像生成装置の制御方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
(9) (8)のプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能であることを特徴とする記憶媒体。
前眼部アライメントは、本発明に関わる光干渉断層撮影装置に限らず多くの眼科装置において行なわれているものであり、ここではその構成や手順についての具体的な記載は省略するが、モニタ等に表示された被検眼前眼部像とアライメント用光束の反射像を観察しながら適切な位置関係となるように操作が行われる。
前眼部アライメントの完了後、測定光が対物レンズ109の中心近傍を通らない走査を行なうレンズ中心回避走査モードに移行する。このモードに移行すると、制御装置200はガルバノミラーユニット106に対物レンズ109の中心を回避するように測定光束の走査を制御する。
S21において、走査モードがレンズ中心回避モードに切換ると、断層像取得部100は制御装置200からに断層像の取得を指示する制御信号を受け、被検眼Eの断層像を取得する。
前述したプリズムの移動が完了すると、自動的に網膜断層画像の合焦調整を自動的に行う。合焦の調整は、対物レンズの移動によって行う。対物レンズ109がどこに位置するときに合焦状態となるかを評価するためには、参照光路長の調整同様、対物レンズ109の位置を変更して取得される複数の断層像を比較することが必要となる。従って、対物レンズ109の移動制御に必要な開始、終了位置ならびに断層像取得間隔(移動量あるいは時間)等の条件は予め設定されている。対物レンズの位置を、初期位置から最終位置まで移動させながら取得された複数の断層像は制御装置200の記憶部203に記憶され、演算部202によって断層像を解析することにより、断層像の取得に最適な対物レンズの位置が算出される。最適位置の算出には、輝度ピーク等を利用する公知の方法で行われる。
(S31)
上記手順により断層像の取得に適する光学配置に変更された後、制御装置200はガルバノミラーユニット106の制御を、対物レンズ中心を通過する通常の走査を行なうモードに変更する。
通常走査による断層像を取得する。図8は、基準位置CPSCANを中心とする四角領域を直線状走査する状態を示したものである。この例は、直線状走査を行なうものであるが必ずしもこれに拘るものではなく、円環状走査による断層像を取得する構成としても良い。
Er 眼底部(眼底網膜)
Rt 網膜表面
101 波長走査光源
102 偏波コントローラ
103 アイソレータ
104 第1のファイバーカプラ
105 コリメータレンズ
106 ガルバノミラーユニット
107 ガルバノドライバ
108 レンズ
109 対物レンズ
112 コリメータレンズ
113 ディレイラインユニット
113−1 ガルバノミラーユニット(ディレイラインユニット内)
113−2 プリズム(ディレイラインユニット内)
114 コリメータレンズ
115 偏波コントローラ
116 第2のファイバーカプラ
117 作動増幅検出器
200 制御装置
201 A/D変換部
202 演算部
203 記憶部
500 モニタ
510 前眼部観察像
520 眼底観察像
530 断層像
CPSCAN 基準位置
Claims (9)
- 被検眼に光束を照射する光源と、
前記光束を測定用光束と参照用光束に分離する手段と、
前記測定用光束を被検眼の所定位置に照射するために測定用光束を2次元方向に走査する走査手段と、
前記走査手段を制御する走査制御手段と、
測定光を被検物に集光するための集光用レンズの位置を変更する集光用レンズ位置変更手段と、
被検物によって変化する前記測定用光束の光路長と前記参照用光束の光路長を合わせるため、前記参照用光束の光路長を変更する参照用光束光路長変更手段と、
前記測定用光束の被検物における反射光と前記参照用光束を干渉させて受光する干渉光受光手段と、
受光した干渉光信号に基づいて前記測定用光束の照射部位における断層画像を生成する断層画像生成手段と、
前記測定用光束が照射される部位の正面画像を生成する正面画像生成手段と、
生成された断層画像あるいは正面画像を表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された正面画像に測定用光束を照射する基準位置を設定する照射基準位置設定手段とを有する光断層画像生成装置において、
前記走査制御手段は前記測定用光束が前記集光用レンズの中央領域を避けるように前記走査手段を制御することを特徴とする光断層画像生成装置。 - 前記光干渉受光手段に受光された干渉信号に基づいて前記表示手段における被検物の断層画像の有無及びその位置を解析する解析手段を有することを特徴とする請求項1に記載の光断層画像生成装置。
- 前記解析手段が解析した被検物の断層画像の有無及びその位置に基づいて前記参照用光束の光路長を変更して前記表示手段の所定位置に被検物の断層画像を表示することを特徴とする請求項1又は2に記載の光断層画像生成装置。
- 前記表示手段に表示された被検物の断層画像に基づいて前記集光用レンズ位置変更手段を制御することを特徴とする請求項1乃至3に記載の光断層画像生成装置。
- 前記走査制御手段は被検物に照射される前記測定用光束の軌跡が前記基準位置から所定距離離れた閉曲線あるいはその一部となるように前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至4に記載の光断層画像生成装置。
- 前記閉曲線は前記基準位置を中心とする円環であることを特徴とする請求項5に記載の光断層画像生成装置。
- 被検眼に光束を照射する光源と、
前記光束を測定用光束と参照用光束に分離する手段と、
前記測定用光束を被検眼の所定位置に照射するために測定用光束を2次元方向に走査する走査手段と、
前記走査手段を制御する走査制御手段と、
測定光を被検物に集光するための集光用レンズの位置を変更する集光用レンズ位置変更手段と、
被検物によって変化する前記測定用光束の光路長と前記参照用光束の光路長を合わせるため、前記参照用光束の光路長を変更する参照用光束光路長変更手段と、
前記測定用光束の被検物における反射光と前記参照用光束を干渉させて受光する干渉光受光手段と、
受光した干渉光信号に基づいて前記測定用光束の照射部位における断層画像を生成する断層画像生成手段と、
前記測定用光束が照射される部位の正面画像を生成する正面画像生成手段と、
生成された断層画像あるいは正面画像を表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された正面画像に測定用光束を照射する基準位置を設定する照射基準位置設定手段とを有する光断層画像生成装置の制御方法であって、
前記測定用光束が前記集光用レンズの中央領域を避けるように前記走査手段を制御する走査制御工程と、
前記光干渉受光手段に受光された干渉信号に基づいて前記表示手段における被検物の断層画像の有無及びその位置を解析する解析工程と、
前記解析工程が解析した被検物の断層画像の有無及びその位置に基づいて前記参照用光束の光路長を変更して前記表示手段の所定位置に被検物の断層画像を表示する断層画像表示工程と、
前記断層画像表示工程によって表示された被検物の断層画像に基づいて前記集光用レンズ位置変更手段を制御する工程と、を有することを特徴とする光断層画像生成装置の制御方法。 - 請求項7に記載の光断層画像の生成方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項8に記載のプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能であることを特徴とする記憶媒体。
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JP2019132638A (ja) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 光画像計測装置 |
US11054240B2 (en) | 2017-06-07 | 2021-07-06 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. | Light interference unit and light interference measurement device |
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JP2012213489A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Nidek Co Ltd | 眼底撮影装置 |
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-
2013
- 2013-05-20 JP JP2013105691A patent/JP2014226173A/ja active Pending
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