JP5718154B2 - 干渉光計測装置 - Google Patents
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Description
また、請求項2に記載の干渉光計測装置は、請求項1記載の干渉光計測装置であって、光源からの光はパルス光である。制御部は、強反射位置に信号光を照射するときのパルス光のパルス幅を、他の位置に信号光を照射するときのパルス光のパルス幅より小さくするよう光源を制御することにより光量を低下させる。
また、請求項3に記載の干渉光計測装置は、請求項1記載の干渉光計測装置であって、光源からの光はパルス光である。制御部は、強反射位置に信号光を照射するときのパルス光の強度を、他の位置に信号光を照射するときのパルス光の強度より低くするよう光源を制御することにより光量を低下させる。
また、請求項4に記載の干渉光計測装置は、請求項1記載の干渉光計測装置であって、光源からの光はパルス光である。特定部は、走査部による走査に対応してパルス光に基づく信号光の強度を検出する検出部を有する。制御部は、強反射位置に照射する信号光の強度、及びそれ以前に検出された信号光の強度の比較を行い、強反射位置に照射される信号光の強度が、それ以前に検出された信号光の強度を超えたときに光源を制御することにより光量を低下させる。
また、請求項5に記載の干渉光計測装置は、光源と、干渉光学系と、走査部と、撮影光学系と、特定部と、制御部とを有する。光源は、光を出力する。干渉光学系は、光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被検眼による信号光の反射光と参照光とを重畳させて干渉光を生成して検出する。走査部は、被検眼に対する信号光の照射位置を走査する。撮影光学系は、干渉光学系における信号光の光路と同軸で被検眼の前眼部を撮影する。特定部は、撮影光学系による撮影画像に基づいて、信号光の反射光が強反射状態にあるときの走査部による照射位置である強反射位置を特定する。制御部は、特定された強反射位置に対して信号光を照射させるときに、信号光に基づく干渉光の干渉光学系による検出時間を短縮する。
また、請求項6に記載の干渉光計測装置は、請求項1から5のいずれかに記載の干渉光計測装置であって、特定部は、検出部を有する。検出部は、撮影画像における虹彩中心位置を検出する。特定部は、検出された虹彩中心位置に対応する走査部による照射位置を強反射位置として特定する。
また、請求項7に記載の干渉光計測装置は、請求項1から5のいずれかに記載の干渉光計測装置であって、特定部は、アライメント光学系を有する。アライメント光学系は、被検眼と撮影光学系及び干渉光学系とのアライメントを行うためのアライメント光を被検眼に対して照射する。撮影光学系は、被検眼に照射されたアライメント光を撮影する。特定部は、アライメント光の撮影画像に基づきアライメントがなされたときの干渉光学系の光軸上の位置を強反射位置として特定する。
図1から図7を参照して、本実施形態に係る干渉光計測装置の構成について説明する。
図1に示す眼底カメラユニット2には、被検眼Eの眼底Efの表面形態を表す2次元画像(眼底像)や角膜Ecの2次元画像を形成するための光学系が設けられている。2次元画像には、観察画像や撮影画像などが含まれる。観察画像は、たとえば、近赤外光を用いて所定のフレームレートで形成されるモノクロの動画像である。撮影画像は、たとえば、可視光をフラッシュ発光して得られるカラー画像である。
OCTユニット100には、眼底Efの断層像や角膜Ecを含む前眼部干渉像を取得するための光学系が設けられている(図2を参照)。この光学系は、従来のフーリエドメインタイプのOCT装置と同様の構成を有する。すなわち、この光学系は、低コヒーレンス光を参照光と信号光に分割し、眼底Efや角膜Ecを経由した信号光と参照光路を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成し、この干渉光のスペクトル成分を検出するように構成されている。この検出結果(検出信号)は演算制御ユニット200に送られる。OCTユニット100の光学系が本実施形態における「干渉光学系」に該当する。
演算制御ユニット200の構成について説明する。演算制御ユニット200は、CCDイメージセンサ120から入力される検出信号を解析して角膜EcのOCT画像を形成する。そのための演算処理は、従来のフーリエドメインタイプのOCT装置と同様である。
干渉光計測装置1の制御系の構成について図3を参照しつつ説明する。
干渉光計測装置1の制御系は、演算制御ユニット200の制御ユニット210を中心に構成される。制御ユニット210は、たとえば、前述のマイクロプロセッサ、RAM、ROM、ハードディスクドライブ、通信インターフェイス等を含んで構成される。
画像形成部220は、CCDイメージセンサ120からの検出信号に基づいて、角膜Ecの断層像の画像データを形成する。この処理には、従来のフーリエドメインタイプの光コヒーレンストモグラフィと同様に、ノイズ除去(ノイズ低減)、フィルタ処理、FFT(Fast Fourier Transform)などの処理が含まれている。
画像処理部230は、画像形成部220により形成された画像に対して各種の画像処理や解析処理を施す。たとえば、画像処理部230は、画像の輝度補正や分散補正等の各種補正処理を実行する。
表示部240は、前述した演算制御ユニット200の表示デバイスを含んで構成される。操作部250は、前述した演算制御ユニット200の操作デバイスを含んで構成される。また、操作部250には、干渉光計測装置1の筐体や外部に設けられた各種のボタンやキーが含まれていてもよい。たとえば眼底カメラユニット2が従来の眼底カメラと同様の筺体を有する場合、操作部250は、この筺体に設けられたジョイスティックや操作パネル等を含んでいてもよい。また、表示部240は、眼底カメラユニット2の筺体に設けられたタッチパネルモニタなどの各種表示デバイスを含んでいてもよい。
特定部260は、演算制御ユニット200内に設けられている。特定部260は、撮影光学系30による撮影画像に基づいて、信号光LSの反射光が強反射状態にあるときの走査部による照射位置である強反射位置を特定する。
ここで、信号光LSの走査及びOCT画像について説明しておく。
次に図4〜図7を参照して、本実施形態に係る干渉光計測装置1の動作について説明する。ここでは、光源ユニット101から照射される光がパルス光であるとして説明を行う。干渉光計測装置1は走査点Pn(n=1〜k。図示なし)に向けて順次に信号光LSを照射し、検出された信号光LSの反射光に基づいて、所定の撮影範囲(走査点P1〜Pkが含まれる領域)における画像を取得することができる。また、以下の説明において、被検眼Eは固定された状態にあるものとする。
以上のような干渉光計測装置1の作用及び効果について説明する。
上記実施形態では、虹彩中心位置に対応する走査部による照射位置を強反射位置として特定したが、強反射位置の特定はこれに限られない。たとえば、特定部260は、アライメント光学系50を用いて強反射位置を特定することが可能である。本変形例では、アライメント光学系50も特定部260に含まれる。
以上のような干渉光計測装置1の作用及び効果について説明する。
実施形態における制御部211は、強反射位置に対して信号光LSを照射させるときに、光源を制御して低コヒーレンス光L0の光量を低下させる制御を行っているが、制御の方法についてはこれに限られない。
以上のような干渉光計測装置1の作用及び効果について説明する。
以上に説明した構成は、この発明を好適に実施するための一例に過ぎない。よって、この発明の要旨の範囲内における任意の変形を適宜に施すことが可能である。
2 眼底カメラユニット
3 表示装置
10 照明光学系
11 観察光源
15 撮影光源
30 撮影光学系
31 合焦レンズ
35、38 CCDイメージセンサ
39 LCD
43、44 ガルバノミラー
50 アライメント光学系
60 フォーカス光学系
70 走査駆動部
80 合焦駆動部
90 検出光学系
91 ビームスプリッタ
92 検出部
100 OCTユニット
101 光源ユニット
114 参照ミラー
118 回折格子
120 CCDイメージセンサ
130 参照駆動部
200 演算制御ユニット
210 制御ユニット
211 制御部
212 記憶部
220 画像形成部
230 画像処理部
240 表示部
250 操作部
260 特定部
261 検出部
E 被検眼
Ef 眼底
Ec 角膜
K 観察画像
H 撮影画像
G 断層像
Claims (7)
- 光源と、
前記光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被検眼による前記信号光の反射光と参照光路を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成して検出する干渉光学系と、
前記被検眼に対する前記信号光の照射位置を走査する走査部と、
前記干渉光学系における前記信号光の光路と同軸で前記被検眼の前眼部を撮影する撮影光学系と、
前記撮影光学系による撮影画像に基づいて、前記信号光の反射光が強反射状態にあるときの前記走査部による前記照射位置である強反射位置を特定する特定部と、
前記強反射位置に対して前記信号光を照射させるときに、前記光源を制御して前記光の光量を低下させる制御部と、
を有することを特徴とする干渉光計測装置。 - 前記光はパルス光であって、
前記制御部は、前記強反射位置に前記信号光を照射するときの前記パルス光のパルス幅を、他の位置に前記信号光を照射するときの前記パルス光のパルス幅より小さくするよう前記光源を制御することにより前記光量を低下させることを特徴とする請求項1に記載の干渉光計測装置。 - 前記光はパルス光であって、
前記制御部は、前記強反射位置に前記信号光を照射するときの前記パルス光の強度を、他の位置に前記信号光を照射するときの前記パルス光の強度より低くするよう前記光源を制御することにより前記光量を低下させることを特徴とする請求項1に記載の干渉光計測装置。 - 前記光はパルス光であって、
前記特定部は、
前記走査部による走査に対応して前記パルス光に基づく信号光の強度を検出する検出部を有し、
前記制御部は、前記強反射位置に照射する前記信号光の強度、及びそれ以前に検出された前記信号光の強度の比較を行い、前記強反射位置に照射される前記信号光の強度が、それ以前に検出された前記信号光の強度を超えたときに前記光源を制御することにより前記光量を低下させることを特徴とする請求項1記載の干渉光計測装置。 - 光源と、
前記光源からの光を信号光と参照光とに分割し、被検眼による前記信号光の反射光と参照光路を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成して検出する干渉光学系と、
前記被検眼に対する前記信号光の照射位置を走査する走査部と、
前記干渉光学系における前記信号光の光路と同軸で前記被検眼の前眼部を撮影する撮影光学系と、
前記撮影光学系による撮影画像に基づいて、前記信号光の反射光が強反射状態にあるときの前記走査部による前記照射位置である強反射位置を特定する特定部と、
前記強反射位置に対して前記信号光を照射させるときに、当該信号光に基づく干渉光の前記干渉光学系による検出時間を短縮する制御部と、
を有することを特徴とする干渉光計測装置。 - 前記特定部は、
前記撮影画像における虹彩中心位置を検出する検出部を有し、
前記検出された虹彩中心位置に対応する前記走査部による前記照射位置を前記強反射位置として特定することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の干渉光計測装置。 - 前記特定部は、
前記被検眼と前記撮影光学系及び前記干渉光学系とのアライメントを行うためのアライメント光を前記被検眼に対して照射するアライメント光学系を有し、
前記撮影光学系は、前記被検眼に照射されたアライメント光を撮影し、
前記アライメント光の撮影画像に基づきアライメントがなされたときの前記干渉光学系の光軸上の位置を強反射位置として特定することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の干渉光計測装置。
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