JP5650482B2

JP5650482B2 - 眼科撮影装置

Info

Publication number: JP5650482B2
Application number: JP2010223123A
Authority: JP
Inventors: 昌明羽根渕
Original assignee: Nidek Co Ltd
Current assignee: Nidek Co Ltd
Priority date: 2010-09-30
Filing date: 2010-09-30
Publication date: 2015-01-07
Anticipated expiration: 2030-09-30
Also published as: JP2012075641A

Description

本発明は、被検者眼の断層像を得る眼科撮影装置に関する。

フーリエドメイン型光コヒーレンストモグラフィを用いて横断方向に異なる測定位置に関して被検者眼の深さプロファイルを得て断層像を得る装置が知られている。また、このような装置において、角膜からの反射光と合成させるための参照光を生成する参照光学系を持ち、眼底反射による干渉信号と角膜反射による干渉信号を検出して眼軸長を測定する装置が開示されている（特許文献１参照）。

例えば、特許文献１の装置の場合、光路長を変更するために光軸方向に移動される光学部材の位置と、深さプロファイルに含まれる角膜と眼底の信号から被検者眼の眼軸長を測定している。

特開２００７−３１３２０８号公報

しかしながら、上記のような装置の場合、ある深さプロファイルの中に眼底と前眼部からの情報が含まれることになるため、眼底からの反射光による干渉信号と前眼部からの反射光による干渉信号が適正に分離されず、測定精度が低下する可能性がある。例えば、水晶体からの反射光は、眼軸長測定においてノイズ光となりうる。

本発明は、上記問題点を鑑み、光コヒーレンストモグラフィーを用いて被検者眼の断層像を得る装置において、眼軸長測定を好適に行うことができる眼科撮影装置を提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。

（１）
光源から出射された光束を測定光束と第１参照光束に分割し、測定光束を被検者眼眼底に導き，第１参照光束を第１参照光学系に導いた後、前記眼底で反射した測定光束と第１参照光束との合成により得られる干渉光を受光する干渉光学系と、
前記測定光束又は前記第１参照光束の光路中に配置された光学部材を駆動させて測定光束と前記第１参照光束との光路長差を変更する光路長変更手段と、
前記干渉光のスペクトルを検出する検出ユニットと、を備え、横断方向に異なる測定位置に関し，前記スペクトルを深さプロファイルに変換処理して眼底断層画像を得る眼科撮影装置において、
前記測定光束を分割して前記測定光束による角膜反射光と合成される第２参照光束を生成する第２参照光学系と、
前記検出ユニットからの出力信号に基づいて、前記角膜反射光と前記第２参照光束による深さプロファイルを取得する演算手段と、
を備えることを特徴とする。
（２）
光源から出射された光束を測定光束と第１参照光束に分割し、測定光束を被検者眼前眼部に導き，第１参照光束を第１参照光学系に導いた後、前記前眼部で反射した測定光束と第１参照光束との合成により得られる干渉光を受光する干渉光学系と、
前記干渉光のスペクトルを検出する検出ユニットと、を備え、横断方向に異なる測定位置に関し，前記スペクトルを深さプロファイルに変換処理して前眼部断層画像を得る眼科撮影装置において、
前記測定光束を分割して前記測定光束による眼底反射光と合成される第２参照光束を生成する第２参照光学系と、
前記測定光束又は前記第２参照光束の光路中に配置された光学部材を駆動させて測定光束と前記第２参照光束との光路長差を変更する光路長変更手段と、
前記検出ユニットからの出力信号に基づいて、前記眼底反射光と前記第２参照光束による深さプロファイルを取得する演算手段と、
を備えることを特徴とする。

光コヒーレンストモグラフィーを用いて被検者眼の断層像を得る装置において、眼軸長測定を好適に行うことができる。

本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本実施形態に係る眼科撮影装置の外観側面図である。なお、本実施形態においては、被検者眼（眼Ｅ）の軸方向をＺ方向（光軸Ｌ１方向）、水平方向をＸ方向、鉛直方向をＹ方向として説明する。

本装置は、基台１と、基台１に対して左右方向（Ｘ方向）及び前後（作動距離）方向（Ｚ方向）に移動可能な移動台２と、移動台２に対して３次元方向に移動可能に設けられ後述する光学系を収納する筐体としての装置本体３と、被検者の顔を支持するために基台１に固設された顔支持ユニット５を備える。装置本体３は、移動台２に設けられたＸＹＺ駆動部６により、被検眼Ｅに対して左右方向、上下方向（Ｙ方向）及び前後方向に相対的に移動される。移動台２は、ジョイスティック４の操作により基台１上をＸＺ方向に移動される。また、回転ノブ４ａを回転操作することにより、ＸＹＺ駆動部６がＹ駆動し装置本体３がＹ方向に移動される。なお、装置本体３の検者側には、眼底断層像及び前眼部観察像等を表示するモニタ７５が設けられている。

図２は、装置本体に収納される光学系及び制御系の概略構成図である。本光学系は、眼Ｅの断層像を得るＯＣＴ光学系（干渉光学系）１００と、眼Ｅにアライメント指標を投影する指標投影光学系１５０と、前眼部Ｅａの正面像を観察するための観察光学系２００と、を備える。ダイクロイックミラー２０１は、ＯＣＴ光学系１００の測定光を透過する一方、投影光学系１５０によって照射された前眼部からの光を反射する。これらの光学系は、装置本体３に内蔵され、前述のアライメント用移動機構（手動又は電動）により、眼Ｅに対して三次元的に移動される。

ＯＣＴ光学系１００は、光源１０２から出射された光束をカップラー１０４によって測定光束と参照光束に分割する。そして、干渉光学系１００は、測定光学系１０６を介して測定光束を眼Ｅの眼底Ｅｆに導き，また、参照光束を第１参照光学系１１０（以下、参照光学系１１０）に導く。その後、眼底Ｅｆで反射した測定光束と参照光束との合成により得られる干渉光を検出器（受光素子）１２０に受光させる。

ＯＣＴ光学系１００は、干渉光のスペクトル強度を検出器１２０によって検出し、１回の検出で所定範囲における深さプロファイルを取得可能なフーリエドメインＯＣＴであり、例えば、ＳＤ−ＯＣＴ（スペクトラルドメインＯＣＴ）、ＳＳ−ＯＣＴ（スウィプト・ソース・ＯＣＴ）が考えられる。

ＳＤ−ＯＣＴの場合、光源１０２として低コヒーレント光源（広帯域光源）が用いられ、検出器１２０には、干渉光を周波数成分に分光する分光光学系（スペクトルメータ）が設けられる。スペクトルメータは、例えば、回折格子とラインセンサからなる。

ＳＳ−ＯＣＴの場合、光源１０２として出射波長を時間的に高速で変化させる波長走査型光源（波長可変光源）が用いられ、検出器１２０として、例えば、単一の受光素子が設けられる。光源１０２は、例えば、光源、ファイバーリング共振器、及び波長選択フィルタによって構成される。そして、波長選択フィルタとして、例えば、回折格子とポリゴンミラーの組み合わせ、ファブリー・ペローエタロンを用いたものが挙げられる。

光源１０２の出射波長について、眼底断層像の撮影には、λ＝８００〜１１００ｎｍの間に中心波長に持つ光を発生する光源が用いられることが好ましい。検出器１２０において、例えば、単一の受光手段が設けられる。平衡検出、偏光検出のために複数の受光手段が用いられるようにしてもよい。

ここで、カップラー１０４からの測定光束は、光ファイバーを通過した後、端部２４から空気中へ出射される。その光束は、コリメータレンズ２２によってコリメートされ、ビームスプリッタ１８及び視度補正レンズ１６を通過し、一対のガルバノミラー１２、１４を介して、ダイクロイックミラー２０１を透過した後、対物レンズ１０を介して眼底Ｅｆに集光される。そして、眼底Ｅｆで反射された光は、対物レンズ１０〜コリメータレンズ２２の光路を介して端部２４に戻され、カップラー１０４を介して検出器１２０に向かう。

ガルバノミラー１２、１４は被検眼瞳孔と略共役な位置に配置され、その反射角度が駆動機構５０によって任意に調整される。なお、本実施形態では、ガルバノミラー１２とガルバノミラー１４との中間位置に瞳孔共役位置が設けられ、その近傍にガルバノミラー１２、１４が配置されている。

これにより、光源１０２から出射された光束はその反射（進行）方向が変化され、眼底上で任意の方向に走査される。すなわち、ガルバノミラー１２、１４は、眼底上でＸＹ方向（横断方向）に測定光を走査させる光走査部（光スキャナ）として用いられる。これにより、横断方向に関する測定位置が変更される。

光走査部としては、ミラーの他、光の進行（偏向）方向を変化させる音響光学素子（ＡＯＭ）等が用いられる。なお、後述する眼軸長測定時においては、例えば、測定光の走査が停止され、測定光束の主光線がレンズ１０の光軸と平行となるように進行方向が設定される。これにより、取得されるＡスキャン信号が安定される。

視度補正レンズ１６は、駆動機構５２により光軸方向に移動可能であり、被検眼の視度の補正に用いられる。また、光路差変更光学部材としてのコリメータレンズ２２及び端部２４は、駆動機構５５により光軸方向に移動され、これにより、測定光の光路長と参照光の光路長との光路差が変更される。そして、眼底断層像を得る場合、眼底に照射された測定光の光路長と、参照光の光路長とが一致されるように光路差が調整される。光路差を変更するための構成は、参照光学系１１０に設けられてもよい。

参照光学系１１０は、測定光による眼底反射光と合成される参照光（第１参照光）を生成する。参照光学系１１０は、図２のような透過型の参照光学系であり、例えば、光ファイバー１１１によって形成される。参照光学系１１０は、カップラー１０４からの光を戻さずに、検出器１２０へと導く。これにより、参照光学系１１０の構成を簡素化できる。なお、参照光と測定光との分散ミスマッチを解消するためにソフトウェアによる分散補正処理を行うのが好ましい。

なお、図２において、点線Ｚ１は、測定光の光路において第１参照光の光路長と等価な位置を示している。なお、参照光学系１１０について、上記透過型に限るものではなく、反射型の参照光学系であってもよく、例えば、参照ミラーが光軸方向に移動されることにより測定光と参照光の光路差が調整される。

前述のように生成される第１参照光と眼底からの反射光は干渉光として合成された後、検出器１２０によって検出される。そして、検出器１２０によって検出された干渉光のスペクトルデータが制御部７０へと入力され、フーリエ変換を用いて周波数が解析されることで、眼Ｅの深さ方向における情報（Ａスキャン信号：深さプロファイル）が計測可能となる。

＜眼軸長測定光学系＞
第２参照光学系３００は、ビームスプリッタ（例えば、ハーフミラー）１８、全反射ミラー１９、集光レンズ２０、参照ミラー２１を備え、測定光による角膜反射光と合成される第２参照光を生成する。コリメータレンズ２２からの光は、ビームスプリッタ１８によって測定光と第２参照光に分割される。そして、ビームスプリッタ１８に反射された参照光は、全反射ミラー１９及び集光レンズ２０を介して参照ミラー２１によって反射される。そして、参照ミラー２１による反射光は、ビームスプリッタ１８まで戻され、測定光と同様の光路を経て検出器１２０によって検出される。一方、光源１０２から発せられた測定光による角膜反射光は、対物レンズ１０〜コリメータレンズ２２の光路を介して端部２４に戻され、カップラー１０４を介して検出器１２０に向かう。

コリメータレンズ２２及び端部２４は、測定光と第２参照光の共通光路に配置されている。よって、測定光の光路長（光源１０２〜角膜、角膜〜検出器１２０）と第２参照光の光路長（光源１０２〜参照ミラー２１、参照ミラー２１〜検出器１２０）の光路差は、コリメータレンズ２２及び端部２４、又はレンズ１６が移動されても変化されない。

図２において、点線Ｚ２は、測定光の光路において第２参照光の光路長と等価な位置を示している。ビームスプリッタ１８から参照ミラー２１までの距離と、ビームスプリッタ１８から点線Ｚ２までの距離は等しい。すなわち、点線Ｚ２の位置はビームスプリッタ１８からの光路長について参照ミラー２１と等しい。

第２参照光学系３００は、アライメント完了時において、干渉信号の検出可能範囲（断層画像の撮像可能範囲）に角膜Ｅｃが含まれるように光路長が固定されている。フーリエドメインＯＣＴの場合、測定光と参照光との光路長が一致する深度位置（Ｚ１、Ｚ２）から所定距離Ｚａまでの干渉信号が得られる。そこで、装置本体３が眼Ｅに対してＺ方向に移動され、Ｚ方向のアライメントが適正に調整されると、測定光による角膜反射光と第２参照光との干渉が生じ、その干渉光による干渉信号がＡスキャン信号として検出されるようになる（図４のピークＡＣ，ＰＣ参照）。

この場合、測定光学系１０６と第１参照光学系１１０との分散ミスマッチと、測定光学系１０６と第２参照光学系３００との分散ミスマッチと、がほぼ等しくなるように第２参照光学系３００の分散量が調整されるのが好ましい。例えば、第２参照光学系３００の光路中に分散補正部材（例えば、ガラス）が設けられる。

これにより、測定光と参照光との分散ミスマッチをソフトウェアによる分散補正処理によって解消したとき、角膜信号と眼底信号の両方を精度よく検出できる。

＜アライメント指標投影光学系＞
図２の説明に戻る。角膜Ｅｃに指標を投影するための投影光学系１５０には、図２の左上の点線内の図に示すように、光軸を中心として同心円上に４５度間隔で近赤外光源が複数個配置されており、光軸Ｌ１を通る垂直平面を挟んで左右対称に配置された赤外光源１５１とコリメーティングレンズ１５２を持つ第１指標投影光学系（０度、及び１８０）と、第１指標投影光学系とは異なる位置に配置され６つの近赤外光源１５３を持つ第２指標投影光学系と、を備える。なお、図２の本図には、便宜上、第１指標投影光学系（０度、及び１８０度）と、第２指標投影光学系の一部のみ（４５度、１３５度）が図示されている。光源１５１は前眼部照明を兼ねる。

＜前眼部観察光学系＞
眼Ｅを撮像し前眼部像を得るために配置された観察光学系２００は、対物レンズ１０、ダイクロイックミラー２０１、結像レンズ２０２、二次元撮像素子（二次元受光素子）２０４を備える。

投影光学系１５０による前眼部反射光及びアライメント光束は、対物レンズ１０を介してダイクロイックミラー２０１によって反射された後、結像レンズ２０２を介して二次元撮像素子２０４により受光される。二次元撮像素子２０４の出力は制御部７０に送信され、モニタ７５には二次元撮像素子２０４によって撮像された前眼部像が表示される（図３参照）。

なお、本実施形態において、投影光学系１５０及び観察光学系２００は、眼Ｅに対して装置本体３を所定の位置関係に誘導させるためのアライメント検出光学系として用いられる。例えば、投影光学系１５０及び観察光学系２００は、眼Ｅと装置本体３を所定の適正作動距離に誘導するために利用される。

本実施形態において、アライメント検出光学系は、ＯＣＴ光学系１００によって取得される深さプロファイルの所定の深さ領域に角膜が検出されるように適正作動距離が設定されている。なお、Ｚ方向について眼Ｅに対する装置本体３のアライメント状態を検出する構成としては、眼Ｅに対して斜めからアライメント光を投光し、その反射光を斜め反対方向から受光してＺアライメントを検出するようにしてもよい。

＜制御系＞
制御部７０は、装置全体の制御、測定、断層像の処理などを行う。制御部７０は、モニタ７５に接続され、その表示画像を制御する。また、制御部７０には、メモリ（記憶部）７２、各種操作を行うための操作部７４、駆動機構５０、５２、５４、光源１０２、検出器１２０、撮像素子２０４、駆動部６、ジョイスティック４などが接続されている。

制御部７０は、撮像素子２０４から出力される撮像信号に基づいて眼Ｅと装置本体３（測定光学系１０６全体）に対するアライメント状態を検出し、その検出結果をモニタ７５に出力する。また、制御部７０は、アライメント検出結果（例えば、アライメントずれ量）が所定の許容範囲を満たすように駆動部６の駆動を制御し、眼Ｅに対して装置（測定光学系１０６）を自動的に移動させる自動アライメントを行うようにしてもよい。

以上のような構成を備える眼科撮影装置の動作について説明する。はじめに、眼軸長を測定する場合について説明する。検者は、前眼部像がモニタ７５に現れるようにジョイスティック４を操作して装置本体３を移動させる。アライメント指標像Ｍａ〜Ｍｈが撮像素子２０４に検出されると、制御部７０は、指標像Ｍａ〜Ｍｈによって形成されるリング中心のＸＹ座標を略角膜頂点位置として検出し、頂点位置に対応するアライメント指標Ａ１をモニタ７５上に電子的に表示する（図３（ａ）参照）。そして、検者は、アライメントとなるレチクルＬＴ内に指標Ａ１が収まるようにアライメントを調整する（図３（ｂ）参照）。

また、制御部７０は、無限遠の指標像Ｍａ，Ｍｅの間隔と有限遠の指標像Ｍｈ，Ｍｆの間隔とを比較することによりＺ方向のアライメント偏位量を求める（詳しくは、特開平６−４６９９９号参照）。そして、制御部７０は、インジケータＧをモニタ７５上に表示し、アライメントずれに基づいてインジケータＧの本数を増減させる。そして、検者は、インジケータＧがアライメント完了を示すように装置本体３を前後に移動させる。これにより、アライメントが完了される。

所定のトリガ信号が出力されると、制御部７０は、光源１０２から光を出射させる。そして、光源１０２からの光（測定光）は、眼Ｅの眼底、角膜に向けて出射され、その反射光が検出器１２０に導光される。また、光源１０２からの光（参照光）は、第１参照光学系１１０及び第２参照光学系３００の光路を介して検出器１０２に導光される。

アライメントが完了されると、角膜反射光と第２参照光による干渉信号は、コリメータレンズ２２及び端部２４の位置、又はレンズ１６の位置に関係なく、Ａスキャン信号として検出される（図４（ａ）参照）。干渉信号ＡＣは角膜前面に対応し、干渉信号ＰＣは角膜後面に対応する。

一方、眼底反射光と第１参照光による干渉信号の検出位置は、眼Ｅの眼軸長によって異なる。前述の所定距離Ｚａから眼底Ｅｆが外れていれば干渉信号は検出されない。制御部７０は、駆動機構５５の駆動を制御し、レンズ２２及び端部２４を連続的又は所定のステップにて段階的に移動させ、スペクトルデータを逐次検出し、各位置にてＡスキャン信号を得る。そして、制御部７０は、眼底反射光と第１参照光による干渉信号がＡスキャン信号として検出されるように駆動機構５５の駆動を制御する。

そして、測定光と第１参照光との光路差が少なくなり、検出範囲Ｚａ内に眼底Ｅｆが含まれるようになると、眼底反射光と第１参照光による干渉信号が検出される（図４（ｂ）参照）。ＡＲは網膜表面に対応する干渉信号であり、ＰＲは網膜後面に対応する干渉信号である。

制御部７０は、各位置にて取得されたＡスキャン信号をモニタリングし、眼底に対応する干渉信号が取得されたＡスキャン信号を特定する。この場合、制御部７０は、干渉信号の輝度値などを利用して眼底干渉信号の有無を判定する。このとき、角膜の信号と眼底の信号が所定量分離された状態のＡスキャン信号を特定することにより、角膜位置と眼底位置を精度良く検出できる。なお、制御部７０は、眼底の信号を含むＡスキャン信号が取得された位置にて駆動機構５５の駆動を停止するようにしてもよい。

そして、制御部７０は、角膜と眼底に対応する干渉信号を含むＡスキャン信号が取得されたときの端部２４の位置情報と、そのＡスキャン信号における干渉信号ＡＣと干渉信号ＰＲとの位置情報に基づいて眼軸長を演算する。そして、制御部７０は、測定結果をモニタ７５上に表示する。

図５は眼軸長を求める際の参考図である。ここで、図５に示すように、ある基準面（例えば、レンズ１０の前面）から深度位置Ｚ１までの距離がＺ₁、基準面から深度位置Ｚ２までの距離がＺ₂、深度位置Ｚ１から干渉信号ＰＲまでの距離がＺ_R、深度位置Ｚ２から干渉信号ＡＣまでの距離がＺ_Cとする。この場合、端部２４の位置により深度位置Ｚ１、Ｚ２が一義的に決定される。これにより、距離Ｚ₁、距離Ｚ₂が求まる。そして、Ａスキャン信号における干渉信号ＡＣ、干渉信号ＰＲの位置により距離Ｚ_R、距離Ｚ_Cが求まる。したがって、眼軸長ＡＬは、ＡＬ＝Ｚ_R−Ｚ_C＋Ｚ₁−Ｚ₂により求められる。

以上示したように、測定光学系１０６と第１参照光学系１１０を用いて眼底断層像を撮像する眼底用ＯＣＴにおいて、測定光学系１０６の光路中における光路長変更部材（レンズ２２及び端部２４）と眼Ｅとの間に測定光による角膜反射光と合成される第２参照光を生成する第２参照光学系３００を設け、眼底と角膜に対応する干渉信号を含むＡスキャン信号を取得して眼軸長を測定することにより、眼底断層像の取得と精度の良い眼軸長測定を簡単な構成で行うことができる。

また、上記アライメント光学系を用いた誘導により深さプロファイルにおける所定の深さ領域にて角膜に対応する干渉信号が取得されるため、前眼部反射光による干渉信号と眼底反射光による干渉信号とが好適に分離され、安定した眼軸長測定が可能となる。この場合、例えば、深さプロファイルにおける中間位置よりも深い位置に角膜干渉信号が検出されるように、アライメント誘導における適正作動距離が設定されるのが好ましい。

なお、上記構成において、高輝度の眼底断層像を得ようとすると、眼底用の参照光（第１参照光）の輝度レベルは、例えば、検出器１２０の階調の９割近くに達する。したがって、眼底に比べて反射の強い角膜ピークが検出器１２０に入射されると、検出器１２０の検出において輝度の飽和が生じる可能性がある。

そこで、前述のように眼軸長を測定する場合、眼底断層像を撮影するときより光源１０２の出射光量又は検出器１２０のゲインの少なくともいずれかを下げることが好ましい。これにより、第１参照光の光量が減衰される。また、眼軸長測定において、参照光学系１１０に配置された光減衰器（例えば、アッテネーター）により第１参照光の光量を低下させるようにしてもよい。このようにすれば、眼軸長測定時において干渉信号を精度良く検出できる。

また、フーリエドメインＯＣＴにより得られる干渉光の信号強度は、測定光と参照光との光路長が一致する深度位置（Ｚ１、Ｚ２参照）での感度が最も高く、この深度位置から離れるにしたがって感度が低下していく。そこで、第２参照光学系３００は、角膜に対応する干渉信号が眼底に対応する干渉信号より深い位置に現れるように光路長が設定されていることが好ましい。これにより、角膜ピーク高さと眼底ピーク高さの差が少なくなり（好ましくは一定）、干渉信号の検出が容易となる。

＜眼底断層像の取得＞
眼軸長の測定完了後、眼底断層像を撮影する場合、制御部７０は、駆動機構５０の駆動を制御して眼底Ｅｆ上で測定光を走査させ、検出器１２０から出力される受光信号に基づいて画像処理により断層像を形成させる（図６参照）。取得された断層像は、モニタ７５に静止画又は動画として出力される他、メモリ７２に記憶される。

制御部７０は、測定光を眼Ｅ上で所定の横断方向に走査することにより断層画像を取得できる。さらに、制御部７０は、測定光をＸＹ方向に２次元的に走査することにより、眼Ｅの３次元画像を取得できる。

なお、上記構成によれば、眼軸長測定の段階において、眼底断層像が感度の高い位置に誘導されているため、解像度の高い眼底断層像がスムーズに取得される。

このとき、制御部７０は、第２参照光学系３００による参照光の発生を停止させ、第２参照光の検出器１２０への受光を防止するのが好ましい。例えば、断層撮影時において、ハーフミラー１８からミラー２１との間に遮光部材４００を挿入する駆動部を設けるようなことが考えられる。また、参照光学系３００の一部（例えば、ハーフミラー１８）を測定光路から退避させる駆動機構などが考えられる。これにより、角膜反射光による干渉信号の発生を防止できるため、良好な眼底断層像が得られる。

なお、上記説明においては、眼軸長測定、断層撮影の順に行うものとしたが、これに限るものではなく、断層撮影、眼軸長測定の順に行うようにしてもよい。この場合、例えば、断層撮影時においては、遮光部材４００が光路に挿入され、眼軸長測定時においては、遮光部材４００が光路から離脱される。また、眼軸長測定モードと断層撮影モードをモード切換スイッチにより切換えられるようにしてもよい。

なお、以上の説明においては、測定光を分割して第２参照光学系を設けたが、これに限るものではなく、測定光による角膜反射光と合成される第２参照光束が生成されればよい。例えば、第１参照光を分割して第２参照光学系を設けるようにしてもよい。

なお、以上の説明においては、角膜への投影指標を用いて眼Ｅに対するアライメントが行われるものとしたが、これに限るものではない。例えば、制御部７０は、眼Ｅに対する装置本体のアライメント段階において、光源１０２から光を出射させ、検出器１０２からの出力信号に基づいてＡスキャン信号を得る。そして、制御部７０は、得られるＡスキャン信号をモニタ７５上に表示する（図４参照）。

ここで、検者は、モニタ７５上に表示されるＡスキャン信号を見ながら、角膜に対応する干渉信号が所定の位置に現れるように装置本体３をＺ方向に移動させる。このとき、干渉信号を用いたアライメントの基準となるマーカＫが電子的に表示されることによりアライメントがスムーズに行われる。なお、マーカは、光路長一致位置から離れた位置にて表示されるのが好ましい。これにより、Ｚアライメントを精度良く行うことができる。

また、制御部７０は、眼軸長測定に用いるＡスキャン信号として特定された信号をモニタ７５上に表示するようにしてもよい。ここで、操作部７４の操作信号に基づいて端部２４が移動されることにより、検者は、角膜の信号と眼底の信号の分離が可能である。

なお、上記説明においては、角膜の干渉信号を利用して検者の目視によりＺ方向のアライメントが行われる構成としたが、制御部７０は、取得されるＡスキャン信号に基づいて眼Ｅに対する装置本体３のＺ方向のアライメント状態を検出し、その検出結果に基づいて駆動部６の駆動を制御して装置本体３を前後方向に移動させるようにしてもよい。これにより、Ｚ方向のアライメントが干渉信号により自動的に行われる。

例えば、制御部７０は、Ａスキャン信号における角膜信号を検出し、所定の深さ領域（例えば、光路長一致位置から離れた所定範囲）に角膜信号が位置されるように駆動部６の駆動を制御する。そして、制御部７０は、所定のアライメント条件を満たしたら測定開始のトリガ信号を発し、眼軸長を測定する。これにより、例えば、ＳＤ−ＯＣＴを用いた眼軸長測定がスムーズに行われる。なお、断層像の撮影する際においても、上記制御の適用は可能である。

また、Ａスキャン信号に基づいてＺ方向のアライメント状態を検出することにより、例えば、角膜へ指標を投影する構成を用いずにＺアライメントを行うことも可能である。なお、制御部７０は、角膜に投影されたアライメント指標を用いてラフなアライメント誘導を行い、干渉信号を用いて精密なアライメント誘導を行うようにしてもよい。

また、制御部７０は、アライメント完了後においても、干渉信号を用いた自動アライメントを継続するようにしてもよい。例えば、制御部７０は、アライメント完了後、角膜の干渉信号の検出位置が所定のアライメント条件から外れたとき、再度、駆動部６の駆動を制御し、装置本体３を移動させる。

なお、前述のアライメント輝点からＸＹ方向のアライメント状態を検出し、その検出結果に基づいて駆動部６の駆動を制御することにより、干渉信号を用いたＺアライメントと前眼部像を用いたＸＹアライメントを並行させるようにしてもよい。なお、ＸＹアライメントについて、前眼部像の特徴部位（例えば、瞳孔中心）を画像処理により抽出し、その位置情報に基づいてアライメント状態が検出されるようにしてもよい。

また、上記説明においては、眼軸長測定時には、測定光の走査を停止させるものとしたが、これに限るものではなく、測定光の走査を行うようにしてもよい。

また、ＯＣＴ光学系１００が角膜Ｅｃにアライメント指標を投影するための投影光学系として兼用されるようにしてもよい。例えば、測定光の走査が停止された状態であれば、測定光の角膜反射がアライメント中心輝点となりうる。また、上記電子アライメント指標Ａ２は、アライメントが完了されたときにモニタ７５上に表示されるようにしてもよい。

なお、上記第２参照光学系３００について、第１参照光学系１１０と同様にファイバーで構成されるようにしてもよい（図７参照）。なお、図７において、図２と同じ番号を付したものについては、特段の説明がない限り、同様の機能・構成を有するものとする。

図７において、ビームスプリッタ１８で反射された参照光は、コリメータレンズ３０２、光ファイバー３０４を介してファイバーミラーレフラクター（反射器）３０６によって反射される。そして、参照ミラー２１による反射光は、ビームスプリッタ１８まで戻され、測定光と同様の光路を経て検出器１２０によって検出される。この場合、測定光学系１０６と第１参照光学系１１０との分散ミスマッチと、測定光学系１０６と第２参照光学系３００との分散ミスマッチと、がほぼ等しくなるように第２参照光学系３００の分散量が調整される（光ファイバー３０４の長さが調整されればよい）。

なお、上記説明においては、眼底撮影用のＯＣＴに眼軸長測定機能を設けた場合の構成について説明したが、前眼部撮影用のＯＣＴに眼軸長測定機構を設けた装置においても、本発明の適用が可能である。

この場合、前眼部上に測定光が集光されるように測定光学系１０６が設定される。また、第１参照光学系１００は、測定光による前眼部反射光と合成される第１参照光束を生成するように設定される。第２参照光学系３００は、測定光による眼底反射光と合成される第２参照光束を生成するように設定される。

本実施形態に係る眼科撮影装置の外観側面図である。装置本体に収納される光学系及び制御系の概略構成図である。前眼部観察画面の一例を示す図である。眼軸長を測定する際に検出される深さプロファイルの一例を示す図である。眼軸長を求める際の参考図である。眼底断層画像の一例を示す図である。第２参照光学系の変容例を示す図である。

３装置本体
６駆動部
１２、１４ガルバノミラー
２２コリメータレンズ
２４端部
７０制御部
１００干渉光学系
１０６測定光学系
１１０第１参照光学系
１１１光ファイバー
１２０検出器
１５０投影光学系
２００観察光学系
３００第２参照光学系
３０４光ファイバー

Claims

光源から出射された光束を測定光束と第１参照光束に分割し、測定光束を被検者眼眼底に導き，第１参照光束を第１参照光学系に導いた後、前記眼底で反射した測定光束と第１参照光束との合成により得られる干渉光を受光する干渉光学系と、
前記測定光束又は前記第１参照光束の光路中に配置された光学部材を駆動させて測定光束と前記第１参照光束との光路長差を変更する光路長変更手段と、
前記干渉光のスペクトルを検出する検出ユニットと、を備え、横断方向に異なる測定位置に関し，前記スペクトルを深さプロファイルに変換処理して眼底断層画像を得る眼科撮影装置において、
前記測定光束を分割して前記測定光束による角膜反射光と合成される第２参照光束を生成する第２参照光学系と、
前記検出ユニットからの出力信号に基づいて、前記角膜反射光と前記第２参照光束による深さプロファイルを取得する演算手段と、
を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
光源から出射された光束を測定光束と第１参照光束に分割し、測定光束を被検者眼前眼部に導き，第１参照光束を第１参照光学系に導いた後、前記前眼部で反射した測定光束と第１参照光束との合成により得られる干渉光を受光する干渉光学系と、
前記干渉光のスペクトルを検出する検出ユニットと、を備え、横断方向に異なる測定位置に関し，前記スペクトルを深さプロファイルに変換処理して前眼部断層画像を得る眼科撮影装置において、
前記測定光束を分割して前記測定光束による眼底反射光と合成される第２参照光束を生成する第２参照光学系と、
前記測定光束又は前記第２参照光束の光路中に配置された光学部材を駆動させて測定光束と前記第２参照光束との光路長差を変更する光路長変更手段と、
前記検出ユニットからの出力信号に基づいて、前記眼底反射光と前記第２参照光束による深さプロファイルを取得する演算手段と、
を備えることを特徴とする眼科撮影装置。
前記第１参照光学系は、光ファイバーによって形成された透過型の参照光学系であることを特徴とする請求項１又は２の眼科撮影装置。
前記演算手段は、さらに、深さプロファイルにおいて被検者眼の角膜と眼底が得られたときの前記光学部材の駆動情報と、深さプロファイルにおける角膜位置と眼底位置とに基づいて被検者眼の眼軸長を測定することを特徴とする請求項１〜３のいずれかの眼科撮影装置。