JP2012070002A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012070002A5
JP2012070002A5 JP2011279879A JP2011279879A JP2012070002A5 JP 2012070002 A5 JP2012070002 A5 JP 2012070002A5 JP 2011279879 A JP2011279879 A JP 2011279879A JP 2011279879 A JP2011279879 A JP 2011279879A JP 2012070002 A5 JP2012070002 A5 JP 2012070002A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
developer
discharge port
nozzle
onto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011279879A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5212538B2 (ja
JP2012070002A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011279879A priority Critical patent/JP5212538B2/ja
Priority claimed from JP2011279879A external-priority patent/JP5212538B2/ja
Publication of JP2012070002A publication Critical patent/JP2012070002A/ja
Publication of JP2012070002A5 publication Critical patent/JP2012070002A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5212538B2 publication Critical patent/JP5212538B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2011279879A 2011-12-21 2011-12-21 現像方法、現像装置及び記憶媒体 Active JP5212538B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011279879A JP5212538B2 (ja) 2011-12-21 2011-12-21 現像方法、現像装置及び記憶媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011279879A JP5212538B2 (ja) 2011-12-21 2011-12-21 現像方法、現像装置及び記憶媒体

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007197889A Division JP4900116B2 (ja) 2007-07-30 2007-07-30 現像方法、現像装置及び記憶媒体

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012070002A JP2012070002A (ja) 2012-04-05
JP2012070002A5 true JP2012070002A5 (enExample) 2012-08-16
JP5212538B2 JP5212538B2 (ja) 2013-06-19

Family

ID=46166793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011279879A Active JP5212538B2 (ja) 2011-12-21 2011-12-21 現像方法、現像装置及び記憶媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5212538B2 (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5841492B2 (ja) * 2012-05-22 2016-01-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 現像処理装置
JP5841493B2 (ja) * 2012-05-22 2016-01-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ 現像処理装置
TWI544291B (zh) 2012-05-22 2016-08-01 斯克林半導體科技有限公司 顯像處理裝置
US20140261572A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Dainippon Screen Mfg.Co., Ltd. Substrate treatment apparatus and substrate treatment method
JP6103429B2 (ja) * 2013-03-15 2017-03-29 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
KR102201884B1 (ko) * 2013-12-27 2021-01-12 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR102256692B1 (ko) * 2013-12-30 2021-05-25 세메스 주식회사 기판 처리 시스템 및 방법
JP6352230B2 (ja) * 2015-10-09 2018-07-04 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
KR102553224B1 (ko) 2020-07-20 2023-07-10 세메스 주식회사 기판 처리 장치, 그리고 기판 처리 방법
TW202439041A (zh) * 2022-12-06 2024-10-01 日商東京威力科創股份有限公司 顯影處理方法及顯影處理裝置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62137826A (ja) * 1985-12-11 1987-06-20 Toshiba Corp 半導体ウエハへの処理液塗布装置
JPH10106918A (ja) * 1996-09-26 1998-04-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液吐出ノズルおよび基板処理装置
JPH1133439A (ja) * 1997-07-22 1999-02-09 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 処理液吐出ノズル、基板処理装置および処理液供給方法
JPH11111603A (ja) * 1997-10-07 1999-04-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板現像方法及びその装置
JP2000138148A (ja) * 1998-10-29 2000-05-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法及び基板処理装置
JP3545676B2 (ja) * 2000-05-10 2004-07-21 東京エレクトロン株式会社 現像処理装置及び現像処理方法
JP2002085854A (ja) * 2000-09-14 2002-03-26 Sentai:Kk インターネット上での男女ペア仮想子育てゲーム
JP4044300B2 (ja) * 2001-04-27 2008-02-06 株式会社神戸製鋼所 ウェハ等の処理設備および処理方法
JP3990885B2 (ja) * 2001-09-05 2007-10-17 東京エレクトロン株式会社 現像装置及び現像方法
JP3725809B2 (ja) * 2001-09-19 2005-12-14 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP2003203837A (ja) * 2001-12-28 2003-07-18 Tokyo Electron Ltd 基板処理方法及び基板処理装置
JP4312997B2 (ja) * 2002-06-04 2009-08-12 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及びノズル
JP3464212B1 (ja) * 2002-06-26 2003-11-05 沖電気工業株式会社 塗布液の塗布装置及び塗布液の塗布方法
JP4369325B2 (ja) * 2003-12-26 2009-11-18 東京エレクトロン株式会社 現像装置及び現像処理方法
JP4947711B2 (ja) * 2006-04-26 2012-06-06 東京エレクトロン株式会社 現像処理方法、現像処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP4900117B2 (ja) * 2007-07-30 2012-03-21 東京エレクトロン株式会社 現像装置、現像方法及び記憶媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012070002A5 (enExample)
JP2009177133A (ja) 半導体ウェハコーティング装置及び半導体ウェハコーティング方法
TWI390363B (zh) 顯像裝置、顯像方法及記憶媒體
JP5212538B2 (ja) 現像方法、現像装置及び記憶媒体
JP2014209605A5 (enExample)
TWI692827B (zh) 膜處理單元、基板處理裝置及基板處理方法
JP5315320B2 (ja) 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理装置
KR102168007B1 (ko) 현상 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
TW201631633A (zh) 基板處理方法、基板處理裝置及記憶媒體
KR20210123250A (ko) 현상 방법
JP2011082200A5 (enExample)
TWI635436B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
TWI722543B (zh) 膜形成方法及膜形成裝置
KR100778326B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 패턴 형성 방법
JP2012165000A5 (ja) 基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体
JP2007220956A (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
KR20140113330A (ko) 기판 세정 건조 방법 및 기판 현상 방법
JP7308105B2 (ja) 現像処理方法及び現像処理装置
JP2001284206A5 (enExample)
JP6370282B2 (ja) 現像処理方法及び現像処理装置
JP2012070003A5 (enExample)
JP2019169624A (ja) 現像方法
JP6077311B2 (ja) ネガティブ現像処理方法およびネガティブ現像処理装置
JP2012142617A5 (ja) 基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体
TWI848169B (zh) 基板處理方法、記憶媒體及基板處理裝置