JP2013062436A5 - - Google Patents
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Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011200968A JP5682521B2 (ja) | 2011-09-14 | 2011-09-14 | 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び記憶媒体 |
| KR1020120090019A KR101805931B1 (ko) | 2011-09-14 | 2012-08-17 | 주연부 도포 장치, 주연부 도포 방법 및 기억 매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011200968A JP5682521B2 (ja) | 2011-09-14 | 2011-09-14 | 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013062436A JP2013062436A (ja) | 2013-04-04 |
| JP2013062436A5 true JP2013062436A5 (enExample) | 2013-10-03 |
| JP5682521B2 JP5682521B2 (ja) | 2015-03-11 |
Family
ID=48179319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011200968A Active JP5682521B2 (ja) | 2011-09-14 | 2011-09-14 | 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び記憶媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5682521B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101805931B1 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6002115B2 (ja) | 2013-11-18 | 2016-10-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 |
| JP6439766B2 (ja) | 2016-09-23 | 2018-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像方法及び塗布、現像装置 |
| JP6820767B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2021-01-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 周縁塗布装置及び周縁塗布方法 |
| JP6765009B2 (ja) * | 2017-05-12 | 2020-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP6597872B2 (ja) * | 2018-11-13 | 2019-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法 |
| JP7469145B2 (ja) * | 2020-05-29 | 2024-04-16 | 株式会社Screenホールディングス | 周縁部塗布装置および周縁部塗布方法 |
| JP7499652B2 (ja) | 2020-09-04 | 2024-06-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP7608106B2 (ja) | 2020-10-05 | 2025-01-06 | キオクシア株式会社 | 半導体製造装置 |
| KR20230130032A (ko) | 2021-01-12 | 2023-09-11 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 도포 처리 장치, 도포 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
| JP7536671B2 (ja) | 2021-01-29 | 2024-08-20 | キオクシア株式会社 | 基板処理装置 |
| JP7547247B2 (ja) * | 2021-03-09 | 2024-09-09 | キオクシア株式会社 | 半導体製造装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5395803A (en) * | 1993-09-08 | 1995-03-07 | At&T Corp. | Method of spiral resist deposition |
| JP2003211057A (ja) * | 2002-01-28 | 2003-07-29 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液状物体の塗布方法及び塗布装置と円板状物体の貼り合わせ方法及び貼り合わせ装置 |
| JP2005111295A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-28 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
| JP2007058200A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-03-08 | Hoya Corp | マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 |
-
2011
- 2011-09-14 JP JP2011200968A patent/JP5682521B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-17 KR KR1020120090019A patent/KR101805931B1/ko active Active
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