JP2011014935A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5789400B2 (ja) 2011-04-12 2015-10-07 東京エレクトロン株式会社 液処理方法及び液処理装置
JP6318012B2 (ja) * 2014-06-04 2018-04-25 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法
JP6575538B2 (ja) * 2017-01-23 2019-09-18 信越半導体株式会社 半導体ウェーハの洗浄方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000061363A (ja) * 1998-08-18 2000-02-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置の処理液吐出ノズル
JP2001334221A (ja) * 2000-05-26 2001-12-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
JP2002289568A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置およびそれに用いる超音波振動エレメント
JP2003197590A (ja) * 2001-12-21 2003-07-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP4197612B2 (ja) * 2002-12-25 2008-12-17 芝浦メカトロニクス株式会社 処理液の供給装置及びスピン処理装置
WO2005036623A1 (ja) * 2003-10-08 2005-04-21 Zao Nikon Co., Ltd. 基板搬送装置及び基板搬送方法、露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
JP4101740B2 (ja) * 2003-12-09 2008-06-18 東京エレクトロン株式会社 塗布・現像装置及びレジストパターンの形成方法

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