JP2011014935A5 - - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 27
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
本発明の基板洗浄装置は、基板を水平に保持する回転自在な基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の表面に洗浄液を供給するための洗浄液ノズルと、
前記基板が回転しているときに、この洗浄液ノズルからの洗浄液の供給位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させるための駆動部と、を備え、
前記洗浄液ノズルにおける基板と対向する部位は、基板の周縁側に開口端が形成されると共に基板の周縁側に向けてその幅が拡大されて平面形状がＶ字状に形成された凹部と、この凹部を囲むように形成され、洗浄液を拘束するための液押さえ面部と、前記凹部のＶ字状の天井面における根元側に開口する洗浄液の吐出口と、により構成されていることを特徴とする。
この基板保持部に保持された基板の表面に洗浄液を供給するための洗浄液ノズルと、
前記基板が回転しているときに、この洗浄液ノズルからの洗浄液の供給位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させるための駆動部と、を備え、
前記洗浄液ノズルにおける基板と対向する部位は、基板の周縁側に開口端が形成されると共に基板の周縁側に向けてその幅が拡大されて平面形状がＶ字状に形成された凹部と、この凹部を囲むように形成され、洗浄液を拘束するための液押さえ面部と、前記凹部のＶ字状の天井面における根元側に開口する洗浄液の吐出口と、により構成されていることを特徴とする。
この場合、前記液押さえ面部は基板の回転方向に沿って順次高さが低くなるように形成されていてもよいし、また前記液押さえ面部は、第１の高さの面部とこの第１の高さの面部に段部を介して連続し、第１の高さよりも低い第２の高さの面部と含む構成であってもよい。
本発明の基板洗浄方法は、基板と対向する部位が、基板の周縁側に開口端が形成されると共に基板の周縁側に向けてその幅が拡大されて平面形状がＶ字状に形成された凹部と、この凹部を囲むように形成され、洗浄液を拘束するための液押さえ面部と、前記凹部のＶ字状の天井面における根元側に開口する洗浄液の吐出口と、により構成されている洗浄液ノズルを用い、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら洗浄液ノズルの前記吐出口から洗浄液を基板の表面に吐出させて洗浄液を前記凹部内に拘束し、拘束された洗浄液を凹部の開口端から外側に移動させると共に、洗浄液の吐出位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させる工程と、を備えたことを特徴とする。
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
次いで基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら洗浄液ノズルの前記吐出口から洗浄液を基板の表面に吐出させて洗浄液を前記凹部内に拘束し、拘束された洗浄液を凹部の開口端から外側に移動させると共に、洗浄液の吐出位置が基板の中央部から周縁に向かって移動するように洗浄液ノズルを移動させる工程と、を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、洗浄液ノズルから吐出された洗浄液を、吐出口と同じ高さかそれよりも低い位置に形成された液押さえ面部により拘束することにより、液の塊ができるので、低回転でも遠心力が大きくなってその液の塊が外に向かう作用が大きくなり、液流が同じ半径位置に滞留することがなく、確実に水滴を除去しながら速やかに洗浄処理を行うことができる。
Priority Applications (1)
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| JP2010233604A JP5061229B2 (ja) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 |
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| JP2005249613A Division JP4734063B2 (ja) | 2005-08-30 | 2005-08-30 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011014935A JP2011014935A (ja) | 2011-01-20 |
| JP2011014935A5 true JP2011014935A5 (ja) | 2011-12-08 |
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|---|---|---|---|
| JP2010233604A Active JP5061229B2 (ja) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法。 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5061229B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5789400B2 (ja) | 2011-04-12 | 2015-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法及び液処理装置 |
| JP6318012B2 (ja) | 2014-06-04 | 2018-04-25 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理方法 |
| JP6575538B2 (ja) * | 2017-01-23 | 2019-09-18 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウェーハの洗浄方法 |
| JP7329418B2 (ja) | 2019-11-01 | 2023-08-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000061363A (ja) * | 1998-08-18 | 2000-02-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置の処理液吐出ノズル |
| JP2001334221A (ja) * | 2000-05-26 | 2001-12-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
| JP2002289568A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置およびそれに用いる超音波振動エレメント |
| JP2003197590A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP4197612B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2008-12-17 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 処理液の供給装置及びスピン処理装置 |
| JP4335213B2 (ja) * | 2003-10-08 | 2009-09-30 | 株式会社蔵王ニコン | 基板搬送装置、露光装置、デバイス製造方法 |
| JP4101740B2 (ja) * | 2003-12-09 | 2008-06-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布・現像装置及びレジストパターンの形成方法 |
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- 2010-10-18 JP JP2010233604A patent/JP5061229B2/ja active Active
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