JP4197612B2 - 処理液の供給装置及びスピン処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は基板に超音波振動が与えられた処理液を供給する処理液の供給装置及びその供給装置を用いたスピン処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置や液晶表示装置などの製造過程には、半導体ウエハやガラス基板などの基板に回路パタ−ンを形成するリソグラフィープロセスがある。このリソグラフィープロセスは、周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射し、ついでレジストの光が照射されない部分(あるいは光が照射された部分)を除去し、除去された部分をエッチングするなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成するものである。
【0003】
上記一連の各工程において、上記基板が汚染されていると回路パターンを精密に形成することができなくなり、不良品の発生原因となる。したがって、それぞれの工程で回路パターンを形成する際には、レジストや塵埃などの微粒子が残留しない清浄な状態に上記基板を処理液によって処理するということが行われている。
【0004】
上記基板を処理液によって処理する装置としてはスピン処理装置が知られている。スピン処理装置はカップ体を有する。このカップ体内には回転テーブルが設けられ、この回転テーブルには上記基板が着脱可能に保持される。
【0005】
上記回転テーブルの上方にはノズル体が設けられている。そして、上記回転テーブルを回転させながらノズル体から基板に向けて処理液を供給することで、この基板を処理するということが行われる。
【0006】
基板に処理液を単に供給するだけでは、基板に付着した汚れを十分に除去することができないことがある。そこで、基板に供給される洗浄液に超音波振動を与え、洗浄効果を高めるということが行われている。
【0007】
従来、処理液に超音波振動を与えるためにはノズル体が用いられている。このノズル体内には振動板が設けられている。この振動板の上面には、振動板を超音波振動させる振動子が設けられている。ノズル体内に供給された処理液は、上記振動板の下面側を通ってノズル体の先端に開口形成されたノズル孔或いはスリットから基板に向けて噴射する。それによって、ノズル孔或いはスリットから流出する処理液には、上記振動板によって超音波振動が付与されることになる。
【0008】
また、高温の処理液を流す場合は、ノズル体では振動子が温度上昇して損傷することがあるため、振動子を厚みを持ったブロック状の発振体に取付けるということも行なわれている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
上記ノズル体は基板の上方に配置され、超音波振動が与えられた処理液は、基板の上方に位置するノズル体のノズル孔或いはスリットから下方に向けて噴射される。
【0010】
上面に振動子が設けられノズル体内に配置された振動板の下面側に処理液を流す構造であると、振動子の振動に伴う発熱を、振動板の下面側を通る処理液によって冷却することになる。その場合、振動板の下面側の空間に気泡が入り込むと、いわゆる空焚き状態となって振動子が温度上昇して損傷するということがある。
【0011】
そのため、ノズル体への処理液の供給は、振動板の下面側の空間部に気泡が入り込むことがないよう、処理液が常にノズル体内に充満する状態で供給しなければならない。その結果、処理液の使用量(供給量)が必要以上に増大し、ランニングコストの上昇を招く原因となっていた。
【0012】
超音波振動が付与された処理液を、ノズル体のノズル孔或いはスリットから噴出させる場合、上述した空焚きを防止するなどのことによってノズル孔或いはスリットの開口面積を十分に大きくすることができない。
【0013】
そのため、ノズル孔或いはスリットから噴出する処理液によって処理される基板の単位時間当たりの面積を拡大することが難しいため、処理効率を向上させることができないということもあった。
【0014】
また、上記ブロック状の発振体は基板の上方に近接して配置され、この発振体の外側から基板と発振体の隙間に処理液を供給するようにしている。しかしながら、発振体の外方から処理液を供給するだけでは、基板が回転テーブルによって回転駆動されていても、処理液が基板の板面から迅速に流出せず、その板面で滞留し易いということがある。
【0015】
そのため、超音波振動が付与された処理液によって基板に付着した汚れが除去されても、汚れを含む処理液が基板上で滞留することによって、その汚れが基板に再付着し、基板の洗浄効果を十分に向上させることができないということがある。
【0016】
この発明は、超音波振動が付与された処理液が基板上で所定方向に流れ易いようにすることで、基板上で滞留して洗浄効果の低下を招くことがなく、さらに単位時間あたりの処理面積を増大させて処理効率の向上を図ることができるようにした処理液の供給装置及びスピン処理装置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基板を処理する処理液に超音波振動を与える処理液の供給装置において、
上記基板と対向する下面に一端が開口した上記処理液の供給路を有するブロック状の発振体と、
この発振体の上面に設けられた振動子と、
上記発振体の下面に所定方向に沿って形成され上記供給路から発振体の下面側に流出する処理液を所定方向に沿って流すガイド溝を具備し、
上記ガイド溝は上記発振体の下面の所定方向一端から他端にわたって形成され、上記供給路は、上記発振体の一端部から他端部に向かって傾斜して形成されていて、
上記発振体の下面の所定方向一端部には、上記供給路が連通する拡散溝が上記所定方向と交差する方向に沿って形成されていることを特徴とする処理液の供給装置。
[請求項2] 上記供給路は、それぞれ異なる種類の処理液が供給される複数の分岐路と、これら複数の分岐路に供給された処理液を混合して上記発振体の下面から流出させる集合路とを備えていることを特徴とする請求項1記載の処理液の供給装置にある。
【0021】
この発明は、基板を回転させながら処理液によって処理するスピン処理装置において、
上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
この回転テーブルの上面で上記基板の径方向に沿って揺動駆動されるアーム体と、
このアーム体の先端部に設けられ上記基板に超音波振動が付与された洗浄液を供給する供給装置とを具備し、
上記供給装置は請求項1に記載された構成であることを特徴とするスピン処理装置にある。
【0022】
この発明によれば、超音波振動が与えられた処理液が発振体の下面のガイド溝に沿って流れるため、基板上で滞留し難くなるとともに、ブロック状の発振体の下面の面積に応じて単位時間当たりに処理可能な基板面積を拡大することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【0024】
図1はこの発明の一実施の形態に係るスピン処理装置を示す。このスピン処理装置はカップ体1を備えている。このカップ体1の底部には複数の排出管2が周方向に所定間隔で接続されている。各排出管2は図示しない排気ポンプに連通している。
【0025】
上記カップ体1内には回転テーブル3が設けられている。この回転テーブル3は基部3aと、この基部3aに一端を連結した4本のアーム3b(2本のみ図示)とを有する。各アーム3bの先端部にはそれぞれ支持部4が設けられている。各支持部4は支持ピン5及び支持ピン5よりもアーム3bの先端側に設けられた一対の係合ピン6(1本のみ図示)からなる。係合ピン6は支持ピン5よりも背が高く設定されている。
【0026】
上記回転テーブル3には液晶表示装置を形成するガラス製の基板Wが供給される。回転テーブル3に供給された基板Wは周辺部の角部下面が上記支持ピン5によって支持され、角部の一対の側面が上記係合ピン6によって係合保持されるようになっている。
【0027】
上記回転テーブル3は制御モータ11によって回転駆動される。この制御モータ11は筒状の固定子12内に同じく筒状の回転子13が回転可能に挿入されてなり、この回転子13に上記回転テーブル3の基部3aが動力伝達部材13aを介して連結されている。
【0028】
上記制御モータ11は制御装置14によって回転が制御される。それによって、上記回転テーブル3は上記制御装置14によって所定の回転数で回転させることができる。
【0029】
上記回転子13内には中空状の固定軸15が挿通されている。この固定軸15の上端には上記回転テーブル3の上面側に位置するノズルヘッド16が設けられている。つまり、ノズルヘッド16は回転テーブル3と一緒に回転しない状態になっている。このノズルヘッド16には処理液を噴射する複数の第1のノズル17及び気体を噴射する第2のノズル18が設けられている。
【0030】
それによって、上記各ノズル17,18から回転テーブル3に保持された基板Wの下面の中央部分に向けて処理液や気体を選択的に噴射することができるようになっている。つまり、基板Wは下面を洗浄及び乾燥処理することができるようになっている。
【0031】
上記カップ体1の側方にはアーム体22が設けられている。このアーム体22の基端部は中空状の軸体23の上端に連結されている。この軸体23の下端は回転モータ24に連結されている。回転モータ24は軸体23を所定の角度で回転駆動する。それによって、上記アーム体22は回転テーブル3の径方向に沿って揺動駆動可能となっている。
【0032】
上記回転モータ24は図示しないリニアガイドによって上下方向に沿って移動可能な可動板25に取付けられている。この可動板25は上下駆動シリンダ26によって上下方向に駆動される。
【0033】
上記アーム体22の先端には上記回転テーブル3に保持された基板Wに向けて処理液を供給するための供給装置31が設けられている。この供給装置31は図2と図3に示すように石英などの材料によって直方体状のブロックに形成された発振体32を有する。この発振体32の下面には、断面山形状の複数のガイド溝33が長手方向全長にわたり、しかも幅方向に並列に形成されている。図4に示すように、上記ガイド溝33を形成する斜面33aの角度θは7〜10度に設定されている。
【0034】
上記発振体32の上面には、幅方向に離間した帯状の2つの振動子34が長手方向に沿って接着固定されている。この振動子34には図示しない超音波発振装置から高周波電圧が印加される。それによって、振動子34とともに上記発振体32が超音波振動する。
【0035】
上記斜面33aの角度θを7〜10度に設定すると、発振体32の上面の振動子34の超音波振動が発振体32の下面へ伝播すると、その下面の斜面33aで全反射せずに透過する。
【0036】
上記発振体32の長手方向一端部には上端面に一端を開口させて複数、この実施の形態では第1乃至第3の3つの分岐路35a〜35cが形成されている。各分岐路35a〜35cの他端は上記発振体32の高さ方向中途部に形成された合流部36で集合している。この合流部36には1本の集合路37の一端が連通している。この集合路37は発振体32の長手方向一端部から他端部に向かって傾斜しており、先端は上記発振体32の一端部下面に幅方向ほぼ全長にわたって形成された拡散溝38に連通している。
【0037】
上記発振体32の一端部上面には接続ブロック39が下端面を液密に接合させて設けられている。この接続ブロック39には3つの連通路39a〜39cが形成されている。各連通路39a〜39cの一端はそれぞれ上記第1乃至第3の分岐路35a〜35cの一端に連通している。
【0038】
上記各連通路39a〜39cの他端にはそれぞれ処理液を供給する第1乃至第3の供給管41〜43が接続されている。この実施の形態では、第1の供給管41には硫酸が供給され、第2の供給管42には過酸化水素水が供給され、第3の供給管43には純水が供給される。
【0039】
上記発振体32の外周面の高さ方向中途部には鍔44が全周にわたって形成されている。発振体32の側面の上記鍔44よりも上方の部分には冷却手段としての冷却体45が設けられている。この冷却体45には冷却水等の冷却媒体を流す流路46が形成されている。流路46に冷却媒体を流すことで、発振体32を介してその上面に設けられた振動子34が冷却されるようになっている。なお、冷却体45は発振体32の側面でなく上面に設けてもよく、少なくともどちらか一方に設けるようにすればよい。
【0040】
上記発振体32の上記鍔44よりも上部は内カバー47によって覆われている。この内カバー47は両端部を上記鍔44の下面に図示しないパッキングを介して液密に重合させた外カバー49によって覆われている。それによって、基板Wに供給された硫酸や過酸化水素水などの処理液がカップ体1内で飛散しても、その処理液及び雰囲気が振動子34などに付着するのを防止できるようになっている。
【0041】
つぎに、上記構成のスピン処理装置によってたとえば基板Wに設けられたレジストを剥離したり、有機性の汚れを除去する場合について説明する。レジストの剥離や有機性の汚れを除去する場合には、硫酸と過酸化水素水とを混合した処理液(略してSPM液と呼ばれている)が用いられる。
【0042】
まず、冷却体45の流路46に冷却媒体を流すとともに、アーム体22を下方向に駆動し、この発振体32の下面を回転テーブル3に保持された基板Wの上面の中央部分にわずかな間隔を介して対向させる。
【0043】
つぎに、振動子34に高周波電圧を印加し、発振体32を超音波振動させるとともに、発振体32の第1の分岐管35aには第1の供給管41から硫酸を供給し、第2の分岐管35bには第2の供給管42から過酸化水素水を供給する。それと同時に、アーム体22を揺動させ、供給装置31を基板Wの回転中心部と径方向外方端との間で往復動させる。
【0044】
第1の分岐管35aに供給された硫酸と、第2の分岐管35bに供給された過酸化水素水とは合流部36で混合し、SPM液となって集合路37を通り、発振体32の下面の拡散溝38で発振体32の幅方向ほぼ全長にわたって拡散して発振体32の下面と基板Wの上面との間隙に流出する。
【0045】
発振体32の下面と基板Wの上面との間隙に流出したSPM液は、上記集合路37が発振体32の長手方向一端から他端に向かって傾斜しているため、図2に矢印Aで示すようにその傾斜方向に沿って発振体32の拡散溝38から下面に流出し、その拡散溝38からガイド溝33にガイドされて基板Wの上面を流れる。
【0046】
ガイド溝33を流れるSPM液は発振体32から超音波振動が付与される。そのため、基板Wの上面は超音波振動が付与されたSPM液によって洗浄されることになる。基板Wの上面を洗浄したSPM液はガイド溝33に沿って所定方向に円滑に流れ、基板Wの上面から流出する。
【0047】
そのため、超音波振動が付与されたSPM液によって除去された基板Wの汚れは、このSPM液とともに基板Wの上面から円滑かつ迅速に流出するため、基板Wの上面に再付着するのが防止される。
【0048】
また、振動子34の超音波振動は、発振体32を振動させるだけでなく、発振体32の厚さ方向上面から下面へ伝播する。発振体32の下面は傾斜角度が7〜10度の斜面33aに形成されている。石英からなる発振体32の下面と基板Wの上面との間にSPM液が介在している場合、斜面33aが7〜10度であれば、発振体32を伝播した振動子34からの超音波振動は上記斜面33aで全反射することなく、この斜面33aを透過してSPM液に作用する。
【0049】
処理液として純水を用いて実験したところ、超音波振動は斜面33aの角度が0度で全反射し、15度でも全反射した。さらに、15度以上の角度でも反射の影響が確認された。そのため、上記斜面33aは超音波振動を反射せずに透過する角度である、7〜19度に設定することがよい。
【0050】
処理液が純水でなく、SPM液の場合、超音波振動が斜面33aで全反射する角度が多少異なるが、ほぼ同じと考えて差し支えない。そのため、振動子34の超音波振動は発振体32を伝達し7〜10度の角度に設定された斜面32aを透過し、基板W上をガイド溝33に沿って流れるSPM液に効率よく伝達されることになるから、そのことによっても洗浄効果を高めることができる。
【0051】
基板Wは、単位時間当たりに発振体32の下面と同じ大きさの面積の部分が洗浄処理される。つまり、超音波振動が付与されたSPM液は、発振体32の下面全体と、基板Wの上記下面全体に対向する部分との間に介在するため、SPM液による処理を発振体32の下面に対応した面積で行うことができる。そのため、ノズル体を用いる従来に比べて単位時間当たりの処理面積が増大するから、基板Wを効率よく洗浄処理することが可能となる。
【0052】
発振体32の上面に設けられた振動子34は冷却体45の流路46を流れる冷却媒体によって発振体32を介して冷却される。つまり、振動子34は、発振体32に供給される処理液の供給量に係りなく冷却される。そのため、発振体32に供給する処理液の供給量が少なくとも、振動子34を確実に冷却することができる。
【0053】
処理液が上述したSPM液の場合、硫酸と過酸化水素水とが混合することで反応熱を発生する。そのため、SPM液を振動子34の冷却用として利用することができない。つまり、処理液がSPM液の場合、その処理液を振動子34の冷却水として利用していた従来のノズル体からなる供給装置では振動子34を冷却することが不可能となる。
【0054】
しかしながら、この発明では発振体32に冷却体45を設け、この冷却体45の流路に冷却水を流すようにしているから、反応熱を発生する処理液を供給する場合であっても、処理液の種類に係りなく振動子34を確実に冷却することができる。
【0055】
このようにして、SPM液による基板Wの処理が終了したならば、硫酸と過酸化水素水との供給を停止し、第3の供給管43から純水を供給し、基板Wの上面に残留するSPM液を洗浄除去する。この場合も、純水に超音波振動を与えることで、基板Wの洗浄処理を確実かつ迅速に行うことができるばかりか、単位時間当たりの処理面積を従来に比べて拡大することができる。
【0056】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、たとえば発振体32の下面には図5(a)に示すように一対の斜面33aによって1つのガイド溝33Aだけを形成するようにしてもよい。この場合も、上記一実施の形態と同様、上記ガイド溝33Aを形成する2つの斜面33aの角度θを7〜10度にすればよい。
【0057】
発振体32の下面には図5(b)に示すように複数の円弧状の突条51を幅方向に沿って設けることで、隣り合う突条51間に発振体32の長手方向全長に沿うガイド溝33Bを形成するようにしてもよい。
【0058】
図6は複数の液体を混合するために発振体32に形成される流路の構成の変形例を示す。この実施の形態は、発振体32に主流路61を形成する。この主流路61には接続ブロック39を介して過酸化水素水を供給する第2の供給管42と純水を供給する第3の供給管43とを接続する。硫酸を供給する第1の供給管41は上記主供給路61内に挿入する。つまり、硫酸の流路である第1の供給管41の外側に過酸化水素水と純水とを流す、二重管構造となっている。
【0059】
それによって、基板WにSPM液を供給する場合、常温の過酸化水素水が流れる主供給路61内に温度の高い硫酸が第1の供給管41によって流されることになるから、硫酸の熱が過酸化水素水によって発振体32上面の振動子32に伝わり難くなる。それによって、振動子32に硫酸の熱影響が及ぶのを低減することができる。
【0060】
なお、図6において、図3と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。
【0061】
また、基板としては液晶表示装置に用いられるガラス基板だけでなく、半導体ウエハなどであってもよく、要は精密洗浄などの処理が要求されるものであれば、この発明を適用することができる。さらに、処理液としては混合することによって反応熱が生じても、生じないくてもよく、反応熱が生じる処理液の場合には、発振体を処理液を用いずに冷却する構造であるから、振動子を冷却するという点で極めて有効である。また、処理液は複数の液体を混合する場合だけに限られず、単一の液体を用いる場合であってもこの発明は適用できる。
【0062】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、超音波振動が与えられた処理液を発振体の下面のガイド溝に沿って流すようにした。
【0063】
そのため、基板を処理した処理液が基板上で滞留し難くなるため、洗浄効果を向上させることができ、しかもブロック状の発振体の下面の面積に応じて単位時間当たりの処理面積を拡大することができるから、処理効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態に係るスピン処理装置の概略図。
【図2】スピン処理装置のアーム体に設けられる処理装置の長手方向に沿う断面図。
【図3】図2のX−X線に沿う断面図。
【図4】発振体の下端部の拡大断面図。
【図5】(a),(b)はそれぞれ発振体の下面に形成されるガイド溝の変形例を示す断面図。
【図6】発振体に形成される液体の供給路の変形例を示す断面図。
【符号の説明】
32…発振体、34…振動子、33…ガイド溝、41〜43…供給路、38…拡散溝、35a〜35c…分岐路、37…集合路、45…冷却体(冷却手段)。
Claims (5)
- 基板を処理する処理液に超音波振動を与える処理液の供給装置において、
上記基板と対向する下面に一端が開口した上記処理液の供給路を有するブロック状の発振体と、
この発振体の上面に設けられた振動子と、
上記発振体の下面に所定方向に沿って形成され上記供給路から発振体の下面側に流出する処理液を所定方向に沿って流すガイド溝を具備し、
上記ガイド溝は上記発振体の下面の所定方向一端から他端にわたって形成され、上記供給路は、上記発振体の一端部から他端部に向かって傾斜して形成されていて、
上記発振体の下面の所定方向一端部には、上記供給路が連通する拡散溝が上記所定方向と交差する方向に沿って形成されていることを特徴とする処理液の供給装置。 - 上記供給路は、それぞれ異なる種類の処理液が供給される複数の分岐路と、これら複数の分岐路に供給された処理液を混合して上記発振体の下面から流出させる集合路とを備えていることを特徴とする請求項1記載の処理液の供給装置。
- 上記発振体の側面には、この発振体を冷却する冷却手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の処理液の供給装置。
- 上記発振体の下面には上記所定方向と交差する方向に断面山形状の複数の上記ガイド溝が並列に形成されていて、このガイド溝を形成する斜面の角度は7〜10度に設定されていることを特徴とする請求項1記載の処理液の供給装置。
- 基板を回転させながら処理液によって処理するスピン処理装置において、
上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、
この回転テーブルの上面で上記基板の径方向に沿って揺動駆動されるアーム体と、
このアーム体の先端部に設けられ上記基板に超音波振動が付与された洗浄液を供給する供給装置とを具備し、
上記供給装置は請求項1に記載された構成であることを特徴とするスピン処理装置。
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