JP2014033178A5 - - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 110
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 claims description 7
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Description
本発明は、回転する基板に処理液を供給して当該基板を洗浄する液処理装置において、液処理装置に設けられたカップを洗浄する技術に関する。
本発明は、基板を処理液で処理するための液処理装置であって、基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、前記基板保持部に保持された基板を囲い、基板に供給した後の処理液を受けるカップと、少なくとも前記カップを洗浄するための円板状の洗浄用治具を収納する洗浄用治具収納部と、前記基板保持部の上方に位置し、洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備え、前記洗浄液供給部は、前記洗浄用治具が前記基板保持部により保持されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられている前記洗浄用治具に洗浄液を供給する、液処理装置を提供する。
また、本発明は、カップ内で回転する基板に処理液を供給した後に少なくとも前記カップを洗浄するための洗浄用治具であって、円板状であるとともに、前記カップ内に配置されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられている洗浄用治具を提供する。
さらに、本発明は、液処理装置における少なくともカップを洗浄するための洗浄方法であって、円板状の洗浄用治具を基板保持部により保持させる工程と、前記基板保持部を回転させて前記洗浄用治具を回転させる工程と、回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程と、前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、当該洗浄用治具の外周縁の近傍において前記洗浄用治具の全周にわたって設けられた傾斜部の傾斜面に沿って、斜め上方に飛散させて前記カップを洗浄する工程と、を備えた、洗浄方法を提供する。
本発明によれば、洗浄用治具の外周縁の近傍に、当該洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられているため、カップにおける所望の箇所に洗浄液を的確に供給することができ、カップをまんべんなく洗浄することができる。
Claims (19)
- 基板を処理液で処理するための液処理装置であって、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板を囲い、基板に供給した後の処理液を受けるカップと、
少なくとも前記カップを洗浄するための円板状の洗浄用治具を収納する洗浄用治具収納部と、
前記基板保持部の上方に位置し、洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備え、
前記洗浄液供給部は、前記洗浄用治具が前記基板保持部により保持されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられている前記洗浄用治具に洗浄液を供給する、液処理装置。 - 前記洗浄用治具の前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液を前記洗浄用治具を通過させて前記洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている、請求項1記載の液処理装置。
- 前記カップは、前記基板保持部に設けられた回転カップと、前記回転カップを囲む液回収カップを含み、
前記傾斜部は、前記回転カップと前記液回収カップとの間の隙間に向かって前記洗浄液が飛散するような形状を有する、請求項1または2記載の液処理装置。 - 前記洗浄用治具は、水平部と前記傾斜部とを有し、
前記水平部と前記傾斜部とが接する位置に貫通孔が設けられている、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記貫通孔は、前記洗浄用治具の周方向において複数設けられている、請求項4記載の液処理装置。
- 前記洗浄用治具の外周縁の近傍には、前記傾斜部の前記貫通孔から出た洗浄液を前記洗浄用治具の径方向外方に向かって水平方向に案内する案内部が設けられている、請求項4または5記載の液処理装置。
- 前記傾斜部には、少なくとも2段の傾斜部分が設けられている、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液処理装置。
- カップ内で回転する基板に処理液を供給した後に少なくとも前記カップを洗浄するための洗浄用治具であって、
円板状であるとともに、前記カップ内に配置されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられている洗浄用治具。 - 前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液を前記洗浄用治具を通過させて前記洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている、請求項8記載の洗浄用治具。
- 前記傾斜部には貫通孔が設けられている、請求項8または9記載の洗浄用治具。
- 前記貫通孔は、前記洗浄用治具の周方向において複数設けられている、請求項10記載の洗浄用治具。
- 前記洗浄用治具の外周縁の近傍には、前記傾斜部の前記貫通孔から出た洗浄液を前記洗浄用治具の径方向外方に向かって略水平方向に案内する案内部が設けられている、請求項10または11記載の洗浄用治具。
- 前記傾斜部には、少なくとも2段の傾斜部分が設けられている、請求項8記載の洗浄用治具。
- 液処理装置における少なくともカップを洗浄するための洗浄方法であって、
円板状の洗浄用治具を基板保持部により保持させる工程と、
前記基板保持部を回転させて前記洗浄用治具を回転させる工程と、
回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程と、
前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、当該洗浄用治具の外周縁の近傍において前記洗浄用治具の全周にわたって設けられた傾斜部の傾斜面に沿って、斜め上方に飛散させて前記カップを洗浄する工程と、
を備えた、洗浄方法。 - 前記カップを洗浄する工程と同時に、回転する前記洗浄用治具の上方から供給された洗浄液の一部を、前記洗浄用治具に設けられた貫通穴を介して前記洗浄用治具の下方に導き、前記洗浄用治具の下方にある部材を洗浄する工程をさらに備えた、請求項14記載の洗浄方法。
- 前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって水平方向にも案内する、請求項14または15記載の洗浄方法。
- 回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程において、前記基板回転機構による前記洗浄用治具の回転速度を途中で変化させる、請求項14乃至16のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 回転している前記洗浄用治具に下方から洗浄液を供給する工程を更に備えた、請求項14乃至17のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する際の前記洗浄用治具の回転速度よりも、回転している前記洗浄用治具に下方から洗浄液を供給する際の前記洗浄用治具の回転速度が大きくなっている、請求項18記載の洗浄方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013025841A JP6017338B2 (ja) | 2012-07-11 | 2013-02-13 | 液処理装置、洗浄用治具および洗浄方法 |
KR1020130080224A KR101932775B1 (ko) | 2012-07-11 | 2013-07-09 | 액처리 장치, 세정용 지그 및 세정 방법 |
US13/937,306 US9721813B2 (en) | 2012-07-11 | 2013-07-09 | Liquid processing apparatus with cleaning jig |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012155635 | 2012-07-11 | ||
JP2012155635 | 2012-07-11 | ||
JP2013025841A JP6017338B2 (ja) | 2012-07-11 | 2013-02-13 | 液処理装置、洗浄用治具および洗浄方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014033178A JP2014033178A (ja) | 2014-02-20 |
JP2014033178A5 true JP2014033178A5 (ja) | 2015-04-30 |
JP6017338B2 JP6017338B2 (ja) | 2016-10-26 |
Family
ID=49912887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013025841A Active JP6017338B2 (ja) | 2012-07-11 | 2013-02-13 | 液処理装置、洗浄用治具および洗浄方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9721813B2 (ja) |
JP (1) | JP6017338B2 (ja) |
KR (1) | KR101932775B1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWM487519U (zh) * | 2014-06-17 | 2014-10-01 | Full Power Idea Tech Ltd | 箱體清洗治具 |
JP6665042B2 (ja) * | 2016-06-21 | 2020-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理装置の洗浄方法及び記憶媒体 |
JP6725384B2 (ja) | 2016-09-26 | 2020-07-15 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法 |
KR102081706B1 (ko) * | 2018-07-18 | 2020-02-27 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
KR102099105B1 (ko) | 2018-07-18 | 2020-05-15 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
KR102143914B1 (ko) * | 2018-10-10 | 2020-08-12 | 세메스 주식회사 | 세정 지그 및 기판 처리 장치 |
KR102265859B1 (ko) * | 2019-09-05 | 2021-06-16 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
TW202141576A (zh) * | 2020-03-27 | 2021-11-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 清洗用治具及清洗方法、塗布裝置 |
KR102612183B1 (ko) * | 2020-09-29 | 2023-12-13 | 세메스 주식회사 | 처리 용기 및 액처리 장치 |
JP2022099107A (ja) * | 2020-12-22 | 2022-07-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、及び基板処理装置 |
KR20220158515A (ko) * | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 에이디알씨 주식회사 | 스프레이 코터 및 이를 이용하여 제조된 박막 트랜지스터 |
KR20230050871A (ko) * | 2021-10-08 | 2023-04-17 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01218662A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-31 | Canon Inc | 回転塗布装置 |
JP3118858B2 (ja) * | 1991-04-23 | 2000-12-18 | 富士通株式会社 | レジスト塗布装置とその洗浄方法 |
JP3414916B2 (ja) * | 1996-02-27 | 2003-06-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および方法 |
JP3518953B2 (ja) * | 1996-06-28 | 2004-04-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 回転式基板処理装置 |
JPH10323633A (ja) | 1997-05-28 | 1998-12-08 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および飛散防止カップ |
JP3587723B2 (ja) * | 1999-04-30 | 2004-11-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2010016315A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Tokyo Electron Ltd | 回転塗布装置の洗浄用治具および洗浄方法 |
KR101592058B1 (ko) * | 2010-06-03 | 2016-02-05 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
-
2013
- 2013-02-13 JP JP2013025841A patent/JP6017338B2/ja active Active
- 2013-07-09 KR KR1020130080224A patent/KR101932775B1/ko active IP Right Grant
- 2013-07-09 US US13/937,306 patent/US9721813B2/en active Active
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