JP2020061514A5 - - Google Patents

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  1. 基板を支持する基板支持機構と、
    前記基板の第1面のベベルおよび/またはエッジに接触しながら回転することにより、前記第1面を洗浄するロール型の第1洗浄部材と、を備え、
    前記第1洗浄部材の回転軸は、前記基板と平行であり、
    前記第1洗浄部材は、大径部および小径部を有する、基板洗浄装置。
  2. 前記基板支持機構は、前記基板を保持して回転させる、請求項1に記載の基板洗浄装置。
  3. 前記第1洗浄部材と対向して配置され、前記基板の第2面のベベルおよび/またはエッジに接触しながら回転することにより、前記第2面を洗浄するロール型の第2洗浄部材を備え、
    前記第2洗浄部材の回転軸は、前記基板と平行であり、
    前記第2洗浄部材は、大径部および小径部を有し、
    前記第1洗浄部材の大径部に対向して前記第2洗浄部材の小径部が位置し、かつ、前記第1洗浄部材の小径部に対向して前記第2洗浄部材の大径部が位置し、前記第1洗浄部材と前記第2洗浄部材は互いに非接触に回転する、請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
  4. 前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材は、大径部と小径部をそれぞれ複数有し、かつ、前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材の長手方向に沿って大径部と小径部が交互に配置されており、前記大径部と前記小径部が交互に配置されることによって周方向に複数の溝が形成され、それぞれの溝は前記大径部によって隣接する溝と隔てられ、独立した形状になっている、請求項3に記載の基板洗浄装置。
  5. 前記第1洗浄部材の回転方向は、前記基板と接触する位置において前記基板の中心からエッジに向かう方向である、請求項1乃至4のいずれかに記載の基板洗浄装置。
  6. 前記基板の第1面に対して、前記基板のエッジに向かう方向に液体を供給する第1ノズルを備える請求項1乃至5のいずれかに記載の基板洗浄装置。
  7. 前記基板の洗浄時に、前記第1洗浄部材を、前記基板の接線方向、半径方向および/または鉛直方向に揺動させるアクチュエータを備える、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄装置。
  8. 前記基板は多角形であり、
    前記基板支持機構は、前記基板の辺に沿う方向に基板を移動させ、前記第1洗浄部材が基板の辺に沿ったベベルおよび/またはエッジに接触する、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄装置。
  9. 前記基板は多角形であり、
    前記第1洗浄部材を基板の辺に沿う方向に移動させる移動機構を含む、請求項1乃至6のいずれかに記載の基板洗浄装置。
  10. 基板を洗浄する基板洗浄部材であって、
    基板の第1面のベベルおよび/またはエッジに接触しながら回転することにより、前記基板の第1面を洗浄するように構成され、大径部および小径部を有する第1洗浄部材と、
    前記第1洗浄部材と対向して配置され、基板の第2面のベベルおよび/またはエッジに接触しながら回転することにより、前記基板の第2面を洗浄するように構成され、大径部および小径部を有する第2洗浄部材と、を備え、
    前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材の回転軸は、前記基板と平行であり、
    前記第1洗浄部材の大径部に対向して前記第2洗浄部材の小径部が位置し、かつ、前記第1洗浄部材の小径部に対向して前記第2洗浄部材の大径部が位置し、前記第1洗浄部材と前記第2洗浄部材は互いに非接触に回転するように構成される、基板洗浄部材。
  11. 前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材は、大径部と小径部をそれぞれ複数有し、かつ、前記第1洗浄部材および前記第2洗浄部材の長手方向に沿って大径部と小径部が交互に配置されており、前記大径部と前記小径部が交互に配置されることによって周方向に複数の溝が形成され、それぞれの溝は前記大径部によって隣接する溝と隔てられ、独立した形状になっている、請求項10に記載の基板洗浄部材。
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