JP2015144253A5 - - Google Patents

Description

上述した目的を達成するために、本発明の一態様は、基板を保持して回転させる基板保持部と、前記基板の表面に接触するスポンジ洗浄具と、前記基板保持部に保持された前記基板に隣接して配置された洗浄部材と、前記スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させる洗浄具移動機構とを備え、前記洗浄部材は、前記スポンジ洗浄具に接触する洗浄面を有し、前記洗浄面の中央部は、該中央部の外側の部分よりも高い位置にあり、前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部に位置する中央噴射口と、該中央噴射口に連通する流体流路を有しており、前記流体流路に流体を供給する流体供給ラインが前記洗浄部材に接続されていることを特徴とする基板洗浄装置である。

本発明の好ましい態様は、前記中央部の外側の部分は、前記中央部から外側に広がりつつ下方に傾斜する傾斜部であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記洗浄面には、放射状に延びる複数の溝が形成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流体供給ラインは、前記流体流路に液体を供給する液体供給ラインであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流体供給ラインは、前記流体流路に二流体を供給する二流体供給ラインであることを特徴とする。

Claims (9)

1. 基板を保持して回転させる基板保持部と、
   前記基板の表面に接触するスポンジ洗浄具と、
   前記基板保持部に保持された前記基板に隣接して配置された洗浄部材と、
   前記スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させる洗浄具移動機構とを備え、
   前記洗浄部材は、前記スポンジ洗浄具に接触する洗浄面を有し、前記洗浄面の中央部は、該中央部の外側の部分よりも高い位置にあり、
   前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部に位置する中央噴射口と、該中央噴射口に連通する流体流路を有しており、
   前記流体流路に流体を供給する流体供給ラインが前記洗浄部材に接続されていることを特徴とする基板洗浄装置。
2. 前記中央部の外側の部分は、前記中央部から外側に広がりつつ下方に傾斜する傾斜部であることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記洗浄面には、放射状に延びる複数の溝が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
4. 前記流体供給ラインは、前記流体流路に液体を供給する液体供給ラインであることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
5. 前記流体供給ラインは、前記流体流路に二流体を供給する二流体供給ラインであることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
6. 前記流体流路に気体を供給する気体供給ラインが前記洗浄部材にさらに接続されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
7. 前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部の外側に配置された複数の外側噴射口をさらに有しており、
   前記複数の外側噴射口は前記流体流路に連通していることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
8. 前記洗浄具移動機構は、前記スポンジ洗浄具がその中心軸線まわりに回転しているときに該スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
9. 基板を研磨する研磨ユニットと、
   前記研磨ユニットで研磨された基板を洗浄する請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板洗浄装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。