JP2015144253A - 基板洗浄装置および基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の好ましい態様は、前記洗浄面には、放射状に延びる複数の溝が形成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部に位置する中央噴射口と、該中央噴射口に連通する流体流路を有しており、前記流体流路に流体を供給する流体供給ラインが前記洗浄部材に接続されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流体供給ラインは、前記流体流路に液体を供給する液体供給ラインであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流体供給ラインは、前記流体流路に二流体を供給する二流体供給ラインであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部の外側に配置された複数の外側噴射口をさらに有しており、前記複数の外側噴射口は前記流体流路に連通していることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記洗浄具移動機構は、前記スポンジ洗浄具がその中心軸線まわりに回転しているときに該スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させるように構成されていることを特徴とする。
12 ロードポート
14a〜14d 研磨ユニット
16 第1洗浄ユニット
18 第2洗浄ユニット
20 乾燥ユニット
22 第1基板搬送ロボット
24 基板搬送ユニット
26 第2基板搬送ロボット
28 第3基板搬送ロボット
30 動作制御部
41 基板保持部
42 ペンスポンジ
44 アーム
45 ローラー
46 リンス液供給ノズル
47 洗浄液供給ノズル
50 旋回軸
51 洗浄具移動機構
60 洗浄部材
61 洗浄面
61a 中央部
61b 傾斜部
65 溝
70 純水供給ノズル
71 中央噴射口
73 流体流路
74 分岐流路
77 外側噴射口
81 流体供給ライン
85 気体供給ライン
87 三方弁
Claims (10)
- 基板を保持して回転させる基板保持部と、
前記基板の表面に接触するスポンジ洗浄具と、
前記基板保持部に保持された前記基板に隣接して配置された洗浄部材と、
前記スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させる洗浄具移動機構とを備え、
前記洗浄部材は、前記スポンジ洗浄具に接触する洗浄面を有し、前記洗浄面の中央部は、該中央部の外側の部分よりも高い位置にあることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記中央部の外側の部分は、前記中央部から外側に広がりつつ下方に傾斜する傾斜部であることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄面には、放射状に延びる複数の溝が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部に位置する中央噴射口と、該中央噴射口に連通する流体流路を有しており、
前記流体流路に流体を供給する流体供給ラインが前記洗浄部材に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記流体供給ラインは、前記流体流路に液体を供給する液体供給ラインであることを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
- 前記流体供給ラインは、前記流体流路に二流体を供給する二流体供給ラインであることを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
- 前記流体流路に気体を供給する気体供給ラインが前記洗浄部材にさらに接続されていることを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄部材は、前記洗浄面の中央部の外側に配置された複数の外側噴射口をさらに有しており、
前記複数の外側噴射口は前記流体流路に連通していることを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。 - 前記洗浄具移動機構は、前記スポンジ洗浄具がその中心軸線まわりに回転しているときに該スポンジ洗浄具を前記洗浄部材に接触させるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 基板を研磨する研磨ユニットと、
前記研磨ユニットで研磨された基板を洗浄する請求項1乃至9のいずれか一項に記載の基板洗浄装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014253287A JP6205341B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-12-15 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013267679 | 2013-12-25 | ||
JP2013267679 | 2013-12-25 | ||
JP2014253287A JP6205341B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-12-15 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015144253A true JP2015144253A (ja) | 2015-08-06 |
JP2015144253A5 JP2015144253A5 (ja) | 2017-07-20 |
JP6205341B2 JP6205341B2 (ja) | 2017-09-27 |
Family
ID=53400831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014253287A Active JP6205341B2 (ja) | 2013-12-25 | 2014-12-15 | 基板洗浄装置および基板処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9466512B2 (ja) |
JP (1) | JP6205341B2 (ja) |
KR (3) | KR20150075357A (ja) |
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JP6543534B2 (ja) | 2015-08-26 | 2019-07-10 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
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- 2014-12-05 KR KR1020140173929A patent/KR20150075357A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-12-15 JP JP2014253287A patent/JP6205341B2/ja active Active
- 2014-12-17 US US14/573,390 patent/US9466512B2/en active Active
- 2014-12-17 KR KR1020140182082A patent/KR20150075366A/ko active Application Filing
-
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6205341B2 (ja) | 2017-09-27 |
KR20210032361A (ko) | 2021-03-24 |
KR20150075366A (ko) | 2015-07-03 |
US20150179484A1 (en) | 2015-06-25 |
KR20150075357A (ko) | 2015-07-03 |
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