JPH11283952A - ブラシ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は半導体ウエハの外周面を上下面堵
同時に確実に洗浄できるようにしたブラシ洗浄装置を提
供することにある。 【解決手段】 回転駆動される半導体ウエハＵの上面と
下面とをそれぞれ対向配置された上部洗浄ブラシ５１と
下部洗浄ブラシ５２とによって洗浄するブラシ洗浄装置
において、上記各洗浄ブラシは上記半導体ウエハに接触
するブラシ部材８７を有し、このブラシ部材は上記半導
体ウエハの直径寸法よりも長さ寸法が長く設定されてい
るとともに、少なくともどちらか一方の洗浄ブラシの軸
方向端部は上記半導体ウエハの外周面に接触する突部１
３が形成されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は被洗浄物を回転さ
せながらその上下面をロ−ル状の洗浄ブラシで洗浄する
ブラシ洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、被洗
浄物としての半導体ウエハを高い清浄度で洗浄すること
が要求される工程がある。上記半導体ウエハを洗浄する
方式としては、洗浄液中に複数枚の半導体ウエハを浸漬
するデイップ方式や半導体ウエハに向けて洗浄液を噴射
して一枚づつ洗浄する枚葉方式があり、とくに最近では
半導体ウエハの大口径化にともない高い清浄度が得られ
るとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用されるこ
とが多くなってきている。

【０００３】枚葉方式の１つとして洗浄ブラシを用いた
ブラシ洗浄装置が知られている。このブラシ洗浄装置は
半導体ウエハをほぼ水平な状態で回転駆動できるように
保持するとともに、その上下両面側にロ−ル状の一対の
洗浄ブラシを上下駆動できるように配置し、これら洗浄
ブラシを上記半導体ウエハの上下面にそれぞれ接触さ
せ、その接触部分に洗浄液を供給しながら上記半導体ウ
エハと洗浄ブラシとを回転させることで、上記半導体ウ
エハの上下両面を洗浄するようになっている。

【０００４】半導体ウエハは回路パターンが形成される
上面側の清浄度が要求されるものの、下面側が汚れてい
ると、半導体ウエハをケースに積層収容したときに、そ
の下面側の汚れが下方に位置する半導体ウエハの上面に
転移する。したがって、半導体ウエハの上下両面を洗浄
し、半導体ウエハ間において汚れが転移するのを防止し
ている。

【０００５】ところで、半導体ウエハはその上下面だけ
でなく、外周面が汚れている場合もある。しかしなが
ら、従来のブラシ洗浄装置では、一対の洗浄ブラシによ
って回転駆動される上記半導体ウエハの上下面は清浄に
洗浄することができても、外周面を洗浄することができ
なかったので、その外周面に付着した汚れが他の半導体
ウエハの上下面に転移するということがあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来は被
洗浄物の上下面を洗浄することができても、外周面を洗
浄することができなかったので、その外周面の汚れが他
の被洗浄物に転移するということがあった。この発明
は、被洗浄物の上下面の洗浄と同時に、外周面も洗浄す
ることができるようにしたブラシ洗浄装置を提供するこ
とにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、回転
駆動される被洗浄物の上面と下面とをそれぞれ対向配置
された上部洗浄ブラシと下部洗浄ブラシとによって洗浄
するブラシ洗浄装置において、上記各洗浄ブラシは上記
被洗浄物に接触するブラシ部材を有し、このブラシ部材
は上記被洗浄物の直径寸法よりも長さ寸法が長く設定さ
れているとともに、少なくともどちらか一方の洗浄ブラ
シの軸方向端部には上記被洗浄物の外周面に接触する突
部が形成されていることを特徴とする。

【０００８】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記突部は、上記上部洗浄ブラシと上記下部洗浄ブ
ラシとの軸方向の互いに異なる端部に形成されているこ
とを特徴とする。

【０００９】請求項３の発明は、請求項１または請求項
２の発明において、上記各洗浄ブラシは、ブラシ軸と、
弾性材料を筒状に形成し上記ブラシ軸の外周面に装着さ
れたブラシ部材とから構成され、上記突部は上記ブラシ
軸の軸方向端部に、上記ブラシ部材を拡径方向に弾性変
形させる拡径部材を軸方向の位置決め調整自在に装着し
て形成されることを特徴とする。

【００１０】請求項４の発明は、請求項１又は請求項２
の発明において、上記各洗浄ブラシは、ブラシ軸と、弾
性材料を筒状に形成し上記ブラシ軸の外周面に装着され
たブラシ部材とから構成され、上記突部は上記ブラシ部
材と一体形成されていることを特徴とする。

【００１１】請求項５の発明は、請求項１乃至請求項４
のいずれかの発明において、一方の洗浄ブラシの軸方向
端部に形成された突部と対応する他方の洗浄ブラシの軸
方向端部には凹部が形成されていることを特徴とする。

【００１２】請求項１の発明によれば、上部洗浄ブラシ
と下部洗浄ブラシの少なくともどちらか一方の端部に被
洗浄物の外周面に接触する突部を形成したことで、上記
各洗浄ブラシが被洗浄物の上下面を洗浄するときに、上
記突部が被洗浄物の外周面を同時に洗浄することにな
る。

【００１３】請求項２の発明によれば、上部洗浄ブラシ
と下部洗浄ブラシの両方の端部に突部を形成するように
したことで、被洗浄物の外周面の洗浄を確実かつ迅速に
行うことが可能となる。

【００１４】請求項３の発明によれば、洗浄ブラシのブ
ラシ軸の端部に、被洗浄物を洗浄するブラシ部材を拡径
させる拡径部材を位置決め調整自在に設けることで突部
を形成するようにしたから、使用にともないブラシ部材
が摩耗しても、上記突部を被洗浄物の外周面に突部が確
実に接触するよう調整することが可能となる。

【００１５】請求項４の発明によれば、突部をブラシ部
材と一体形成するようにしたことで、ブラシ部材に突部
を形成するための専用の部品が不要となるから、部品点
数の減少や構成の複雑化を招くなどのことをなくすこと
ができる。

【００１６】請求項５の発明によれば、一方の洗浄ブラ
シに形成された突部と対応する他方の洗浄ブラシに凹部
を形成したことで、一対の洗浄ブラシを被洗浄物の上面
と下面とに所定の圧力で確実に接触させることができる
から、上記突部によって被洗浄物の上面と下面との洗浄
度合が損なわれるのを防止できる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の第１の実施の形
態を図１乃至図９を参照して説明する。図２に示すブラ
シ洗浄装置は筐体２１を備えている。この筐体２１の内
部には仕切板２２が設けられ、この内部を上部室２３と
下部室２４とに隔別している。上部室２３には被洗浄物
としての半導体ウエハＵを保持して回転させる保持機構
２５が設けられている。この保持機構２５はそれぞれ４
本の内側支持ピン２６と外側支持ピン２７とが周方向に
９０度間隔で配置されている。

【００１８】各支持ピン２６、２７は図７に示すように
駆動軸２８の上端のねじ部２８ａに着脱自在にねじ込ま
れた基軸部２９ａを有する。この基軸部２９ａはピ−ク
材などの合成樹脂によって形成されていて、その上端面
には弗素樹脂などによって形成された押え部材２９ｂが
ねじ３１によって着脱自在に取付けられている。この押
え部材２９ｂの外周面下端側には突部３２が形成され、
この突部３２にはゴムなどの摩擦係数の高い材料によっ
てリング状に形成された支持部材２９ｃが設けられ、上
記基軸部２９ａの上端面とで挟持固定されている。

【００１９】４本の内側支持ピン２６の支持部材２９ｃ
には図４に鎖線で示すように所定径の半導体ウエハＵ₁
が周辺部を係合載置して保持される。したがって、内側
支持ピン２６が図中矢印で示す反時計方向に回転駆動さ
れれば、上記半導体ウエハＵ₁ は上記支持部材２９ｃと
の接触摩擦によって逆方向である時計方向に回転駆動さ
れるようになっている。

【００２０】４本の外側支持ピン２７には、内側支持ピ
ン２６に支持される半導体ウエハＵ₁ よりも大径な半導
体ウエハＵ₂ が周辺部を係合させて保持される。外側支
持ピン２７が矢印で示す反時計方向に回転駆動されれ
ば、上記半導体ウエハＵ₂ は支持部材２９ｃとの接触摩
擦によって時計方向に回転駆動されることになる。つま
り、内側支持ピン２６と外側支持ピン２７とを設けるこ
とで、サイズの異なる半導体ウエハＵ₁ 、Ｕ₂ を保持で
きるようになっている。

【００２１】なお、外側支持ピン２７に半導体ウエハＵ
₂ を保持する場合、内側支持ピン２６は駆動軸２８のね
じ部２８ａから取り外される。上記各支持ピン２６、２
７が取付られた駆動軸２８は図３に示すようにそれぞれ
軸受筒体３２によって上部と下部とが軸受３２ａにより
回転自在に支持されている。各軸受筒体３２は上記仕切
板２２に形成された通孔３３に挿通され、下部室２４に
水平に配置された取付板３４に立設されている。

【００２２】上記軸受筒体３２の上部室２３に位置する
部分は上部カバ−３５によって覆われている。この上部
カバ−３５は上記通孔３３よりも大径に形成され、図４
に示すように２組の内側支持ピン２６と外側支持ピン２
７とを覆う大きさに設定されている。

【００２３】上記通孔３３の周辺部には上記上部カバ−
３５の内部に入り込む下部カバ−３６が立設されてい
る。それによって、上記半導体ウエハＵを洗浄するとき
に使用される洗浄液が上記通孔３３から仕切板２２の下
面側へ侵入するのを阻止するラビリンス構造になってい
る。

【００２４】上記各支持ピン２６、２７を回転駆動する
駆動軸２８は取付板３４の下面側に突出し、各突出端部
には従動歯車３８が嵌着されている。内側支持ピン２６
の駆動軸２８に嵌着された従動歯車３８は外側支持ピン
２７の駆動軸２８に嵌着された従動歯車３８よりも上方
に位置している。

【００２５】各従動歯車３８は駆動歯車３９に噛合して
いる。この駆動歯車３９は上部歯車部３９ａと下部歯車
部３９ｂとが一体的に形成されていて、上部歯車部３９
ａに上記内側支持ピン２６の従動歯車３８が噛合し、下
部歯車部３９ｂに外側支持ピン２６の従動歯車３８が噛
合している。

【００２６】上記駆動歯車３９は駆動モ−タ４１の回転
軸４１ａに取付けられている。この駆動モ−タ４１は上
記取付板３４にブラケット４２を介して取付けられてい
る。したがって、上記駆動モ−タ４１が作動して駆動歯
車３９が回転されると、この回転に連動する従動歯車３
８を介して駆動軸２８、つまり内側支持ピン２６と外側
支持ピン２７とが回転駆動されるようになっている。

【００２７】なお、図７に示すように各支持ピン２６、
２７の基軸部２９ａの下端部には凹部４３が形成され、
上記上部カバ−３５には上記凹部４３に入り込むフラン
ジ４４が突設されている。それによって、上記上部カバ
−３５の駆動軸２８が挿通された部分からその内部へ洗
浄液が侵入するのを防止するラビリンス構造となってい
る。

【００２８】上記仕切板２２の下面側には上面側に連通
する複数の排出管４５が接続されている。各排出管４５
は図２に示すようにチュ−ブ４６を介して気液分離器４
７に接続されている。この気液分離器４７は上記排出管
４５から排出される気体と液体とを分離する。分離され
た液体は排液管４８によって排液され、気体は排気管４
９によって排気されるようになっている。

【００２９】上記内側支持ピン２６あるいは外側支持ピ
ン２７に保持された半導体ウエハＵの上下面は上部洗浄
ブラシ５１と下部洗浄ブラシ５２とによってブラシ洗浄
されるようになっている。各洗浄ブラシ５１、５２は駆
動機構５３によって上記半導体ウエハＵの上下面に接触
する洗浄状態と、半導体ウエハＵの上下面から所定距離
離間する位置に退避する退避状態とに駆動されるように
なっている。

【００３０】上記駆動機構５３は図２に示すように上記
取付板３４の下面に上端を固定して垂設されたベ−ス板
５４を有する。このベ−ス板５４の一方の板面側には図
６に示すように平板状の取付け部材５５の一方の板面が
接合され、支軸５６によって回動自在に保持されてい
る。

【００３１】上記取付け部材５５には図１に示すように
上記支軸５６を中心として所定の半径で４つの長孔５７
が形成され、各長孔５７から上記ベ−ス板５４にねじ５
８が螺合されている。したがって、上記ねじ５８を緩め
ることで、上記取付け部材５５は支軸５６を中心として
長孔５７の範囲内で左右方向へ回動させることができる
ようになっている。

【００３２】上記取付け部材５５の他方の板面にはレ−
ル状の一対のガイド体６１（図６に示す）が所定の間隔
で、かつ上下方向に沿って設けられている。一方のガイ
ド体６１には第１のスライド体６２がスライド自在に設
けられ、他方のガイド体６１には第２のスライド体６３
がスライド自在に設けられている。

【００３３】各スライド体６２、６３は図１に示すよう
に上記ガイド体６１にスライド自在に係合するスライダ
６４が設けられた基部６５と、この基部６５の上端面に
立設された支柱部６６とからなる。

【００３４】各スライド体６２、６３の支柱部６６は、
仕切板２２に形成された通孔６７を貫通して上部室２３
に突出ている。この貫通部は、図１に示すように上部カ
バ−７０ａと下部カバ−７０ｂとによって洗浄液が侵入
するのを阻止するラビリンス構造となっている。

【００３５】上記第１のスライド体６２の支柱部６６の
上端には上部支持板６８が水平に取付けられ、第２のス
ライド体６３の支柱部６６の上端には下部支持板６９が
水平に取付けられている。

【００３６】各支持板６８、６９には図４と図５に示す
ようにコ字状の凹部７１ａによって一対の支持部７１が
所定の間隔で形成されている。各支持部７１にはそれぞ
れ支持軸７２が軸線を一致させるとともに軸受７３によ
って回転自在に支持されている。各支持軸７２の上記凹
部７１ａ側に突出した一端部にはねじ７４が形成され、
そのねじ７４にはナット体７５およびこのナット体７５
の移動を阻止するために固定ナット７６が螺合されてい
る。上記ナット体７５の先端部は外周面を傾斜させたテ
−パ凸部７７に形成されている。さらに支持軸７２の先
端面には第１の係合部としての係合凹部７８が径方向に
貫通して形成されている。

【００３７】一方の支持軸７２の後端部は軸受７３から
突出し、その突出端には従動プ−リ７９が嵌着されてい
る。図１に示すように、上部支持板６８の上面の幅方向
一端側には上部駆動モ−タ８１が配置され、下部支持板
６９の上面の幅方向他端側には下部駆動モ−タ８２が配
置されている。各駆動モ−タ８１、８２の回転軸８１
ａ、８２ａには駆動プ−リ８３が嵌着されている。

【００３８】上部駆動モ−タ８１の駆動プ−リ８３と上
部支持板６８の一方の支持軸７２に設けられた従動プ−
リ７９とには第１の駆動ベルト８４が張設され、下部駆
動モ−タ８２の駆動プ−リ８３と下部支持板６９の一方
の支持軸７２に設けられた従動プ−リ７９とには第２の
駆動ベルト８５が張設されている。

【００３９】上部支持板６８の一対の支持軸７２には上
記上部洗浄ブラシ５１が保持され、下部支持板６９の一
対の支持軸７２には上記下部洗浄ブラシ５２が支持され
る。したがって、上記各駆動モ−タ８１、８２が作動す
ることで、上記各洗浄ブラシ５１、５２が回転駆動され
るようになっている。

【００４０】上記支持軸７２による各洗浄ブラシ５１、
５２の支持構造は図５に示すようになっている。つま
り、洗浄ブラシ５１、５２は上記半導体ウエハＵの直径
寸法よりも長尺なブラシ軸８６を有する。ブラシ軸８６
の外周面にはたとえばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）
などの弾性材料によって筒状に形成されたブラシ部材８
７が装着されている。ブラシ軸８６の両端部はブラシ部
材８７から突出し、その突出端部には上記支持軸７２の
係合凹部７８に係合する係合凸部８８が径方向全長にわ
たって形成されている。さらに、ブラシ軸８６の端面に
は上記ナット体７５の先端部に形成されたテ−パ凸部７
７が係合する環状のテ−パ凹部８９が形成されている。

【００４１】したがって、各洗浄ブラシ５１、５２は、
各支持軸７２に螺合されたナット体７５を図５に鎖線で
示すように後退させた状態で、そのブラシ軸８６の両端
部に形成された係合凸部８８を一対の支持軸７２の係合
凹部７８に係合させる。

【００４２】ついで、上記ナット体７５を図５に実線で
示す前進方向へ回転させることで、このナット体７５が
上記係合凹部７８と係合凸部８８の係合部分を覆ってそ
の係合状態を保持し、さらに先端部のテ−パ凸部７７が
テ−パ凹部８９に係合することで、ブラシ軸８６の軸心
が支持軸７２の軸心に一致されることになる。

【００４３】つまり、各洗浄ブラシ５１、５２はナット
体７５を後退位置から前進方向へ回転させることで、支
持軸７２に対して軸心を一致させた状態で連結固定され
ることになる。

【００４４】図９に示すように、上部洗浄ブラシ５１と
下部洗浄ブラシ５２との互いに異なる軸方向の一方の端
部の外周面にはそれぞれおねじ１１が形成されている。
各おねじ１１にはそれぞれ拡径部材としての所定の肉厚
のブッシュ１２が螺合されている。それによって、上記
ブラシ部材８７は上記ブッシュ１２によって拡径方向に
弾性変形させられるから、その外周面に他の部分よりも
大径な突部１３が形成される。つまり、図８に示すよう
に上部洗浄ブラシ５１の軸方向一端部と、下部洗浄ブラ
シ５２の軸方向他端部とにそれぞれ突部１３が形成され
る。これら突部１３は、保持機構２５に保持された半導
体ウエハＵの径方向両端縁部に位置し、上記半導体ウエ
ハＵの外周面に接触するようになっている。

【００４５】なお、上記ブラシ部材８７の材質は、ポリ
ビニルアルコールだけでなく、ナイロンやウレタンなど
の他の弾性材料で作るようにしてもよい。図１に示すよ
うに、上記取付け部材５５には、上記第１のスライド体
６２と第２のスライド体６３の下方にそれぞれ第１の調
整機構９１と第２の調整機構９２とが設けられている。

【００４６】各調整機構９１、９２はそれぞれのガイド
体６１にスライダ９３ａを介してスライド自在に設けら
れたほぼ三角形の板状の基体９３を有する。この基体９
３の上端面はほぼ水平になっていて、その水平部にはＬ
字状のテ−ブル９４が設けられている。このテ−ブル９
４の上には上面がテ−パ面９５ａに形成された調整体９
５が上記テ−ブル９４に沿う水平方向にスライド自在に
設けられている。

【００４７】上記調整体９５の一端部には調整ねじ９６
が螺合されている。この調整ねじ９６は上記基体９３の
幅方向一端部に設けられた支持部９７に回転自在に支持
され、他端部にはハンドル９８が設けられている。した
がって、上記調整ねじ９６を回転させることで、上記調
整体９５を上記テ−ブル９４に沿ってスライドさせるこ
とができるようになっている。

【００４８】上記調整体９５のテ−パ面９５ａには上記
各スライド体６１、６２の下端に設けられたカムフォロ
ア９９が当接している。したがって、上記調整体９５が
スライドすると、上記各スライド体６１、６２は取付け
部材５５に設けられたガイド体６１に沿って上下動する
ようになっている。なお、上記調整ねじ９６は図２に示
すストッパ９６ａによって回転不能に固定される。それ
によって、調整体９５がスライドするのが阻止される。

【００４９】図１に示すように、上記取付け部材５５の
下端部で、一対のスライド体６１、６２の中間部にはリ
ンク１０１の中途部が支軸１０２によって回動自在に支
持されている。このリンク１０１の両端部にはそれぞれ
長孔１０３が形成されている。

【００５０】上記各調整機構９１、９２の基体９３の板
面の下端部にはそれぞれ係止軸１０４が突設されてい
る。各係止軸１０４は上記リンク１０１の長孔１０３に
係合している。

【００５１】上記リンク１０１には駆動手段としてのシ
リンダ１０５のロッド１０６が回動自在に連結されてい
る。図２に示すように、上記シリンダ１０５は下部室２
４に上記ベ−ス板５４と一体的に設けられた支持部材１
０７にスタッド１０７ａによって揺動自在に連結されて
いる。

【００５２】図１は上部洗浄ブラシ５１と下部洗浄ブラ
シ５２とが半導体ウエハＵの上下面から退避した状態を
示しており、この退避状態においてリンク１０１は第１
の調整機構９１に連結された一端部が上方に位置する状
態で傾斜し、下方となる他端部側に上記シリンダ１０５
のロッド１０６が連結されている。この退避状態におい
て、上記シリンダ１０５のロッド１０６は没入方向の後
退限にある。

【００５３】上記シリンダ１０５のロッド１０６が突出
方向に駆動されると、上記リンク１０１が図１に矢印で
示す反時計方向に回動する。それによって、第１の調整
機構９１が下降し、第２の調整機構９２が上昇するか
ら、これら調整機構９１、９２の動きに第１のスライド
体６２と第２のスライド体６３とが連動する。つまり、
上記シリンダ１０５のロッド１０６が突出方向の前進限
まで駆動されると、上部洗浄ブラシ５１が下降し、下部
洗浄ブラシ５２が上昇し、これら洗浄ブラシが半導体ウ
エハＵの上下面にそれぞれ接触する洗浄状態に後述する
ごとく位置決めされることになる。

【００５４】上記シリンダ１０５による上部洗浄ブラシ
５１の下降と、下部洗浄ブラシ５２の上昇とは重量的に
バランスがとれている。そのため、上記各洗浄ブラシ５
１、５２の上下駆動を小型のシリンダ１０５によって行
うことができる。

【００５５】上記第１、第２のスライド体６２、６３の
基部６５の一側にはそれぞれダイヤルゲ−ジ１０８が設
けられている。各ダイヤルゲ−ジ１０８のスピンドル１
０８ａは、各洗浄ブラシ５１、５２を洗浄状態に変位さ
せたときに、取付け部材５５の両側に設けられた当接体
１０９に当接するようになっている。

【００５６】なお、洗浄状態においては、図示せぬ洗浄
液の供給ノズルから上記半導体ウエハＵの上面と下面と
に洗浄液が供給されるようになっている。上記構成のブ
ラシ洗浄装置において、半導体ウエハＵを洗浄する場合
には、保持機構２５に保持された半導体ウエハＵを回転
させ、その上下面に洗浄液を供給するとともに、上部洗
浄ブラシ５１を下降させる一方、下部洗浄ブラシ５２を
上昇させることで、これら洗浄ブラシ５１，５２を上記
半導体ウエハＵの上面と下面とにそれぞれ所定の圧力で
接触させる。

【００５７】上部洗浄ブラシ５１の軸方向一端部と下部
洗浄ブラシ５２の軸方向他端部には、それぞれブラシ軸
８６のおねじ１１にブッシュ１２を螺合させることで、
ブラシ部材８７の端部を拡径方向に弾性変形させた突部
１３が形成されている。そのため、各洗浄ブラシ５１，
５２を半導体ウエハＵの上面と下面とにそれぞれ接触さ
せると、図８に示すように上記突部１３の端部が半導体
ウエハＵの外周面に接触する。

【００５８】したがって、半導体ウエハＵは上記一対の
洗浄ブラシ５１，５２によって上下面が洗浄されると同
時に外周面も洗浄され、上記半導体ウエハＵに汚れた部
分が残ることがなくなるから、洗浄された半導体ウエハ
Ｕを図示しないケースに収容しても、他の半導体ウエハ
Ｕに汚れが転移するということがない。

【００５９】しかも、半導体ウエハＵは上下面と同時に
外周面も洗浄されるから、外周面を別工程で洗浄せずに
すむから、生産性の低下を招くとことがない。しかも、
上記ブッシュ１２をねじ込むことで、ブラシ部材８７の
突部１３の端部位置を調整することができるから、たと
えば使用にともないブラシ部材８７が摩耗しても、上記
ブッシュ１２をねじ込むことで、上記突部１３を半導体
ウエハＵの外周面に確実に当接させることが可能であ
る。

【００６０】さらに、突部１３を上部洗浄ブラシ５１の
軸方向一端部と、下部洗浄ブラシ５２の軸方向他端部と
に形成した。そのため、一対の突部１３が半導体ウエハ
Ｕの外周面の径方向一端部と他端部との２個所に同時に
接触するから、２つの突部１３によって半導体ウエハＵ
の外周面を効率よく確実に洗浄することができる。

【００６１】しかも、半導体ウエハＵは２つの突部１３
によって径方向にずれ動くのが阻止されるから、そのこ
とによっても半導体ウエハＵの外周面を確実に洗浄する
ことができる。

【００６２】この発明は上記第１の実施の形態に限定さ
れず、種々変形可能である。たとえば、各洗浄ブラシ５
１，５２の端部に突部１３を形成する手段としては、図
１０に示す第２の実施の形態のようにブッシュ１２の先
端外周面をテーパ面１２ａに形成し、ブッシュ１２をね
じ込むことで上記テーパ面１２ａによってブラシ部材８
７を拡径させて突部１３を形成するようにしてもよい。

【００６３】また、他の手段としては、図１１に示す第
３の実施の形態のようにブラシ部材８７の軸方向端部の
外周面に他の部分よりも大径な突部１３ａを予め一体形
成しておいてもよい。このような構成とすることで、突
部１３ａを形成するために余計な部品を用いずにすむか
ら、構成の簡略化やコストの低減を図ることができる。

【００６４】なお、ブラシ部材８７に突部１３を一体形
成する代わりに、図示しないが、ブラシ部材８７の端面
にこのブラシ部材８７よりも大径な筒状部材を接着固定
することで、突部１３を形成するようにしてもよい。

【００６５】さらに、図１２に示す第４の実施の形態の
ように、一方の洗浄ブラシ５１（５２）の突部１３（１
３ａ）と対応する他方の洗浄ブラシの軸方向端部に凹部
１５を形成してもよい。凹部１５を形成することで、一
対の洗浄ブラシ５１，５２の間隔を、突部１３（１３
ａ）を圧縮させずに確保できる。そのため、半導体ウエ
ハＵの上下面に各洗浄ブラシ５１，５２を所定の圧力で
確実に当接させることが可能となるから、洗浄効果を高
めることができる。

【００６６】また、図示しないが、上部洗浄ブラシと下
部洗浄ブラシのどちらか一方の軸方向一端部だけに突部
を形成するようにしてもよく、さらに各洗浄ブラシのブ
ラシ部材は、洗浄効果を高めるために外周面の全体にわ
たり多数の突起が形成された形状のものであってもよ
い。

【００６７】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、上部洗浄ブラ
シと下部洗浄ブラシの少なくともどちらか一方の端部に
被洗浄物の外周面に接触する突部を形成した。そのた
め、各洗浄ブラシが被洗浄物の上下面を洗浄するとき
に、上記突部が被洗浄物の外周面を同時に洗浄するか
ら、被洗浄物の外周面に汚れが残り、その汚れが他の被
洗浄物に転移するのを防止することができる。

【００６８】請求項２の発明によれば、上部洗浄ブラシ
と下部洗浄ブラシの両方の端部に突部を形成するように
した。そのため、被洗浄物の外周面の径方向一端部と他
端部との２個所に突部を接触させることができるから、
上記被洗浄物の洗浄を確実かつ迅速に行うことが可能と
なる。

【００６９】請求項３の発明によれば、洗浄ブラシのブ
ラシ軸の端部に、被洗浄物を洗浄するブラシ部材を拡径
させる拡径部材を位置決め調整自在に設けることで突部
を形成するようにした。

【００７０】そのため、上記拡径部材の位置を調整する
ことで突部の形状を変えることができるから、使用にと
もないブラシ部材が摩耗しても、被洗浄物の外周面に上
記突部を確実に接触させることが可能となる。

【００７１】請求項４の発明によれば、突部をブラシ部
材と一体形成するようにした。そのため、ブラシ部材に
突部を形成するための専用の部品が不要となるから、部
品点数の減少や構成の複雑化を招くなどのことをなくす
ことができる。

【００７２】請求項５の発明によれば、一方の洗浄ブラ
シに突部を形成し、他方の洗浄ブラシの上記突部と対応
する部位には凹部を形成するようにした。そのため、一
対の洗浄ブラシを被洗浄物の上面と下面とに所定の圧力
で接触させるときに、上記突部を圧縮させずにすむか
ら、各洗浄ブラシを被洗浄物の上下面に各洗浄ブラシを
所定の圧力で確実に接触させて洗浄することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態の洗浄ブラシ洗浄装置
の概略的構成を示す正面図。

【図２】同じく側面図。

【図３】同じく半導体ウエハを回転駆動する機構の断面
図。

【図４】同じく洗浄ブラシの配置状態の平面図。

【図５】同じく洗浄ブラシの支持構造の断面図。

【図６】同じくスライド体の支持構造の断面図。

【図７】同じく支持ピンの構造を示す断面図。

【図８】同じく一対の洗浄ブラシが半導体ウエハを挟持
した状態の説明図。

【図９】同じく洗浄ブラシの端部の断面図。

【図１０】この発明の第２の実施の形態を示す洗浄ブラ
シの端部の断面図。

【図１１】この発明の第３の実施の形態を示す一対の洗
浄ブラシによって被洗浄物を挟持した状態の一部分の正
面図。

【図１２】この発明の第４の実施の形態を示す一対の洗
浄ブラシによって被洗浄物を挟持した状態の正面図。

【符号の説明】

１２…ブッシュ（拡径部材） １３…突部 １５…凹部 ５１…下部洗浄ブラシ ５２…上部洗浄ブラシ ８６…ブラシ軸 ８７…ブラシ部材 Ｕ…半導体ウエハ（被洗浄部材）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転駆動される被洗浄物の上面と下面と
   をそれぞれ対向配置された上部洗浄ブラシと下部洗浄ブ
   ラシとによって洗浄するブラシ洗浄装置において、 上記各洗浄ブラシは上記被洗浄物に接触するブラシ部材
   を有し、このブラシ部材は上記被洗浄物の直径寸法より
   も長さ寸法が長く設定されているとともに、少なくとも
   どちらか一方の洗浄ブラシの軸方向端部には上記被洗浄
   物の外周面に接触する突部が形成されていることを特徴
   とするブラシ洗浄装置。
2. 【請求項２】 上記突部は、上記上部洗浄ブラシと上記
   下部洗浄ブラシとの軸方向の互いに異なる端部に形成さ
   れていることを特徴とする請求項１記載のブラシ洗浄装
   置。
3. 【請求項３】 上記各洗浄ブラシは、ブラシ軸と、弾性
   材料を筒状に形成し上記ブラシ軸の外周面に装着された
   ブラシ部材とから構成され、上記突部は上記ブラシ軸の
   軸方向端部に、上記ブラシ部材を拡径方向に弾性変形さ
   せる拡径部材を軸方向の位置決め調整自在に装着して形
   成されることを特徴とする請求項１または請求項２記載
   のブラシ洗浄装置。
4. 【請求項４】 上記各洗浄ブラシは、ブラシ軸と、弾性
   材料を筒状に形成し上記ブラシ軸の外周面に装着された
   ブラシ部材とから構成され、上記突部は上記ブラシ部材
   と一体形成されていることを特徴とする請求項１または
   請求項２記載のブラシ洗浄装置。
5. 【請求項５】 一方の洗浄ブラシの軸方向端部に形成さ
   れた突部と対応する他方の洗浄ブラシの軸方向端部には
   凹部が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請
   求項４のいずれかに記載のブラシ洗浄装置。