JP2014033178A - 液処理装置、洗浄用治具および洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カップおよびその周囲部材をまんべんなく洗浄することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄用治具（８０）を基板保持部（５２）により保持して回転させ、洗浄用治具の上方から洗浄用治具に洗浄液を供給する。洗浄用治具に供給された洗浄液は、洗浄用治具の外周縁の近傍において洗浄用治具の全周にわたって設けられた傾斜部（８２）の傾斜面に沿って斜め上方に飛散し、これによりカップ（６０，６２）が洗浄される。これと同時に洗浄用治具の上方から供給された洗浄液の一部を、洗浄用治具に設けられた貫通穴（８９）を介して洗浄用治具の下方に導き、洗浄用治具の下方にある部材（５２）を洗浄する。
【選択図】図１１

Description

本発明は、基板を処理液で処理するための液処理装置、基板外周を囲う回転カップ内で回転する基板に洗浄液を供給した後の回転カップの外周を洗浄するための洗浄用治具および液処理装置における少なくとも回転カップの外周を洗浄するための洗浄方法に関する。

半導体製品の製造プロセスやフラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の製造プロセスにおいては、被処理基板である半導体ウエハやガラス基板に処理液を供給して液処理を行うプロセスが多用されている。このようなプロセスとして、例えば、基板に付着したパーティクルやコンタミネーション等を除去する洗浄処理などがある。

このような液処理を実施する液処理装置として、半導体ウエハ等の基板をスピンチャックに保持し、基板を回転させた状態で基板の表面または表裏面に処理液（薬液、リンス液等）を供給して処理を行う枚葉式の処理ユニットが知られている。

基板に供給された処理液は、回転する基板から振り切られて、基板保持台の周辺領域でミストとなって飛散する。特許文献１には、飛散したミストを回収するために、基板から振り切られた処理液を洗浄液回収経路へと導くための飛散防止カップを有する基板処理装置が開示されている。

このような基板処理装置では、基板から振り切られた処理液を受ける飛散防止カップ自体の洗浄を行う必要がある。カップを洗浄する方法として、特許文献２に開示されるように、円板状の洗浄基板を用いる方法が知られている。特許文献２に開示される装置では、洗浄基板を基板と同様にスピンチャック上に吸着保持し、この洗浄基板を回転駆動させる。そして、洗浄基板の上方から洗浄基板の上面の中心位置に供給された洗浄液は、回転遠心力によって洗浄基板の上面に沿って径方向外側に案内される。また、洗浄基板には、当該洗浄基板の外周縁の近傍において、周方向に沿って所定の間隔で「立ち上げフィン」が設けられており、洗浄液はこのフィンに沿って斜め上方向に案内され、フィンの縁部から斜め上方向に向かって飛散する。一方、フィンの設けられていない部分に案内された洗浄液は、洗浄基板の上面の縁部から略水平方向に飛散する。

また、基板から振り切られた処理液を受けるカップを洗浄する方法として、特許文献３に開示される洗浄用治具が用いられる場合もある。特許文献３に開示される洗浄用治具を用いた洗浄方法では、特許文献３の図８に示すようにスピンチャックにより保持された洗浄用治具の下面の中心位置に供給された洗浄液は、回転遠心力によって洗浄用治具の下面に沿って径方向外側に案内される。そして、この洗浄用治具の外周面に沿って洗浄液が回り込み、斜め上方向に向かって飛散することによりカップの洗浄を行う。

しかしながら、特許文献２に開示されるような洗浄基板を用いたカップの洗浄方法では、フィンの縁部から斜め上方向に向かって飛散した洗浄液と、フィンの設けられていない部分に案内され洗浄基板の上面の縁部から略水平方向に飛散した洗浄液とがカップに届くまでに互いに干渉してしまい、カップにおける所望の箇所に洗浄液を的確に供給することができず、カップをまんべんなく洗浄することができないという問題があった。また、特許文献３に開示されるような洗浄用治具を用いたカップの洗浄方法では、当該特許文献３の図８に示すように、洗浄用治具からカップに供給される洗浄液の経路は１つのみとなっているため、カップの内面および外面の両方に洗浄液を供給するといった、カップの様々な箇所に洗浄液を同時に供給することができないという問題がある。

特開平１０−３２３６３３号公報 特開２０００−３１５６７１号公報 特開２０１０−１６３１５号公報

本発明は、カップをまんべんなく洗浄することができ、さらにこれと同時にカップの近くの部材も洗浄することができる技術を提供することを目的とする。

本発明は、基板を処理液で処理するための液処理装置であって、基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板を囲い、基板に供給した後の処理液を受けるカップと、少なくとも前記カップを洗浄するための円板状の洗浄用治具を収納する洗浄用治具収納部と、前記基板保持部の上方に位置し、洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備え、前記洗浄液供給部は、前記洗浄用治具が前記基板保持部により保持されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられており、かつ、前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液を前記洗浄用治具を通過させて前記洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている前記洗浄用治具に洗浄液を供給する、液処理装置を提供する。

また、本発明は、カップ内で回転する基板に処理液を供給した後に少なくとも前記カップを洗浄するための洗浄用治具であって、円板状であるとともに、前記カップ内に配置されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられており、かつ、前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液をこの洗浄用治具を通過させてこの洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている洗浄用治具を提供する。

さらに、本発明は、液処理装置における少なくともカップを洗浄するための洗浄方法であって、円板状の洗浄用治具を基板保持部により保持させる工程と、前記基板保持部を回転させて前記洗浄用治具を回転させる工程と、回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程と、前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、当該洗浄用治具の外周縁の近傍において前記洗浄用治具の全周にわたって設けられた傾斜部の傾斜面に沿って、斜め上方に飛散させて前記カップを洗浄するとともに、これと同時に回転する前記洗浄用治具の上方から供給された洗浄液の一部を、前記洗浄用治具に設けられた貫通穴を介して前記洗浄用治具の下方に導き、前記洗浄用治具の下方にある部材を洗浄する工程と、を備えた、洗浄方法を提供する。

本発明によれば、洗浄用治具の外周縁の近傍に、当該洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられているため、カップにおける所望の箇所に洗浄液を的確に供給することができ、カップをまんべんなく洗浄することができる。さらに、洗浄用治具に設けられた貫通穴を介して前記洗浄用治具の下方に導くことにより、前記洗浄用治具の下方に位置するカップの近くの部材も同時に洗浄することができ、洗浄時間を短縮することができる。

本発明の実施の形態における液処理装置の全体構成を示す横断平面図である。 図１に示す液処理装置に設けられた液処理ユニットの構成を示す構成図である。 図２に示す液処理ユニットで用いられる洗浄用治具の構成を示す斜視図である。 図３に示す洗浄用治具の一部を拡大して示す拡大斜視図である。 図４に示す洗浄用治具の一部の断面図である。 洗浄用治具を第１回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具に上方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。 洗浄用治具を第１回転速度よりも大きな第２回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具に下方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。 洗浄用治具を低速で回転させるとともにこの洗浄用治具に下方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。 洗浄用治具を第１回転速度よりも大きな第２回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具に上方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。 洗浄用治具の別の実施形態の構成を示す斜視図である。 図１０に示す洗浄用治具を第１回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具に上方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図９は、本実施の形態に係る液処理装置の構成を示す図である。このうち、図１は、本実施の形態における液処理装置の全体構成を示す横断平面図であり、図２は、図１に示す液処理装置に設けられた液処理ユニットの構成を示す構成図である。また、図３は、図２に示す液処理ユニットで用いられる洗浄用治具の構成を示す斜視図であり、図４は、図３に示す洗浄用治具の一部を拡大して示す拡大斜視図であり、図５は、図４に示す洗浄用治具の一部の断面図である。また、図６乃至図９は、図３乃至図５に示す洗浄用治具を用いて回転カップ等の洗浄を行う際の洗浄液の経路を示す図である。

まず、本実施の形態の液処理装置の全体構成について図１を用いて説明する。図１に示される液処理装置１０は、被処理体である基板Ｗ（以下、ウエハＷともいう）に処理流体である薬液を供給してウエハＷに付着したパーティクルや汚染物質を除去する液処理を行うものである。図１に示すように、本実施の形態の液処理装置１０は、外部から複数枚のウエハＷを収納したキャリア２４の搬入出が行われるキャリア載置ブロック２０と、ウエハＷの受け渡し部を備えた受け渡しブロック３０と、ウエハＷに対して所定の液処理を行う処理ブロック４０と、を備えている。これらは、キャリア載置ブロック２０を前方側として、キャリア載置ブロック２０、受け渡しブロック３０、処理ブロック４０が前後方向（図１におけるＸ方向）に一列に配列され、互いに接続されている。

キャリア載置ブロック２０は、例えば４個のキャリア２４が載置されるキャリア載置部２２を備えるとともに、当該キャリア載置部２２上に載置されたキャリア２４と受け渡しブロック３０との間でのウエハＷの受け渡しを行う第１の搬送部２６を備えている。この第１の搬送部２６は、ウエハＷを保持する保持アーム２８が、例えば前後方向に進退自在、左右方向（図１におけるＹ方向）に移動自在、回転自在および昇降自在に構成されている。

受け渡しブロック３０は、受け渡しステージ３２を多段に備えており、この受け渡しステージ３２に対しては、第１の搬送部２６と、後述する処理ブロック４０に設けられた第２の搬送部４２とがそれぞれアクセスできるように構成されている。また、受け渡しステージ３２の上方に、円板状の洗浄用治具８０を収納する洗浄用治具収納部９０が設けられている。洗浄用治具収納部９０に収納される洗浄用治具８０は、液処理ユニット５０における後述する回転カップ６０の外周等を洗浄する際に用いられる。このような洗浄用治具８０の構成の詳細については後述する。

処理ブロック４０は、前後方向（図１におけるＸ方向）に延びるウエハＷの搬送路４６を備えており、この搬送路４６には、第２の搬送部４２が設けられている。また、搬送路４６を挟んで、キャリア載置ブロック２０側から見て左右に各々例えば２台の液処理ユニット５０が互いに対向するように設けられている。第２の搬送部４２は、合計４台の液処理ユニット５０および前述の受け渡しステージ３２に対してウエハＷの受け渡しを行う。
この第２の搬送部４２は、ウエハＷの裏面側周縁を保持する保持アーム４４が進退自在、回転自在、昇降自在および搬送路４６に沿って移動自在に設けられている。

次に、液処理ユニット５０の構成の詳細について図２を用いて説明する。図２に示すように、液処理ユニット５０は、ウエハＷが第２の搬送部４２により搬入出されて処理される液処理室５１と、内部に液処理室５１が形成されるチャンバー５９と、液処理室５１内に設けられ、ウエハＷを水平に保持する回転自在な基板保持台（基板保持部）５２とを備えている。この基板保持台５２には、回転駆動軸５３を介して、基板保持台５２を回転させる回転モータ（基板回転機構）５４が連結されている。また、基板保持台５２には基板保持体５２ａが設けられており、ウエハＷは、基板保持台５２の周縁部において基板保持体５２ａにより保持され、回転モータ５４を駆動することによって水平面内で回転する。

また、図２に示すように、液処理室５１には、基板保持台５２に保持されたウエハＷに複数種類の処理液を選択的に吐出（供給）するノズル（処理液供給部）５５が設けられている。すなわち、ノズル５５には、酸性処理液の供給源７６ａ、アルカリ処理液の供給源７６ｂ、および洗浄液の供給源７６ｃがそれぞれ接続されており、これらの供給源７６ａ〜７６ｃから酸性処理液、アルカリ処理液、および洗浄液が選択的にノズル５５に送られてウエハＷの表面に吐出される。なお、酸性処理液としては、例えば、ＳＰＭ液（硫酸と過酸化水素水の混合溶液）、ＨＦ液（フッ化水素液）、またはＳＣ２（塩酸と過酸化水素水の混合溶液）等を用いることができ、アルカリ処理液としては、例えば、ＳＣ１液（アンモニア過水）またはアンモニア水等を用いることができる。また、洗浄液としては、例えば、純水等を用いることができる。

また、図２に示すように、回転駆動軸５３の内部には洗浄液供給管５６が設けられており、この洗浄液供給管５６により、基板保持台５２に保持されたウエハＷの裏面（下面）に洗浄液が吐出（供給）される。洗浄液供給管５６には洗浄液の供給源７８が接続されており、この供給源７８により洗浄液供給管５６に洗浄液が送られる。

図２に示すように、基板保持台５２には、回転するウエハＷから飛散した処理液やそのミストを受ける回転カップ６０が設けられている。この回転カップ６０は、上部開口部を有し、全体的にはリング状に形成され、上部開口部の開口径よりも下端部の開口径の方が大きくなっている。この回転カップ６０の断面は、上方に凸となるような曲線形状となっている。すなわち、図２に示すように、回転カップ６０は、ウエハＷの周縁の上方から、ウエハＷの半径方向外側に延びるように形成されている。

また、図２に示すように、回転カップ６０を囲うよう液回収カップ６２が設けられている。液回収カップ６２と回転カップ６０との間には、隙間が形成される。液回収カップ６２は、位置固定で液処理室５１に設けられており、回転するウエハＷから飛散した処理液やそのミストを回収する。また、液回収カップ６２の近傍には、昇降自在となっている昇降カップ６４が設けられている。昇降カップ６４には昇降シリンダ（図示せず）が接続されており、この昇降シリンダにより、昇降カップ６４は、図２に示すような下方位置と、図２に示す位置よりも上方に移動した位置である上方位置との間で昇降する。

また、液回収カップ６２の下部には、第１処理液回収用タンク６６および第２処理液回収用タンク６８がそれぞれ設けられている。基板保持台５２に保持されたウエハＷに対して酸性処理を行う場合、昇降カップ６４は図２に示すような下方位置に位置し、ノズル５５からウエハＷに供給されてこのウエハＷから飛散した酸性処理液は第１処理液回収用タンク６６に送られる。一方、基板保持台５２に保持されたウエハＷに対してアルカリ性処理を行う場合、昇降カップ６４は上方位置に位置し、ノズル５５からウエハＷに供給されてこのウエハＷから飛散した酸性処理液は第２処理液回収用タンク６８に送られる。また、第１処理液回収用タンク６６、第２処理液回収用タンク６８にはそれぞれドレン部７０、７２が接続されており、第１処理液回収用タンク６６や第２処理液回収用タンク６８に送られた酸性処理液やアルカリ処理液はこれらのドレン部７０、７２により排液される。
なお、洗浄液は、第１処理液回収用タンク６６および第２処理液回収用タンク６８のうち何れの回収用タンクに送られるようになっていてもよい。

図２に示すように、第１処理液回収用タンク６６および第２処理液回収用タンク６８の間には、基板保持台５２により保持されたウエハＷの周囲の雰囲気を、液回収カップ６２や昇降カップ６４を介して排出するための排気路６９が設けられている。排気路６９には吸引部７４が接続されており、排気路６９に送られた雰囲気は吸引部７４により吸引されるようになっている。

また、図１に示すように液処理装置１０には制御部９１が設けられており、第１の搬送部２６、第２の搬送部４２、回転モータ５４および昇降シリンダ（図示せず）は制御部９１により制御される。また、制御部９１は、ノズル５５を介してウエハＷに吐出される処理液の種類を選択する。すなわち、この制御部９１により、ウエハＷの酸性処理時には、ノズル５５から酸性処理液を吐出させ、ウエハＷのアルカリ性処理時には、ノズル５５からアルカリ性処理液を吐出させ、ウエハＷの洗浄処理時には、ノズル５５から洗浄液を吐出させる。

ところで、図１に示すように、制御部９１には入出力装置９２が接続されている。入出力装置９２は、コマンドの入力操作等を行うキーボードや、液処理ユニット５０の稼働状況等を可視化して表示するディスプレイ等から構成されている。また、制御部９１は、液処理ユニット５０で実行される処理を実現するためのプログラム等が記録された記録媒体９３にアクセス可能となっている。記録媒体９３は、ＲＯＭおよびＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、およびフレキシブルディスク等のディスク状記録媒体等、既知の記録媒体から構成され得る。このようにして、制御部９１が、記録媒体９３に予め記録されたプログラム等を実行することによって、液処理ユニット５０においてウエハＷの処理が行われる。

このような液処理ユニット５０における回転カップ６０や液回収カップ６２の洗浄を行う際には、洗浄用治具収納部９０に収納されている円板状の洗浄用治具８０を基板保持台５２に載置する。この際に、基板保持台５２の基板保持体５２ａにより洗浄用治具８０を保持させる。そして、回転モータ５４によって基板保持台５２を回転させることによりこの基板保持台５２に保持された洗浄用治具８０も回転させる。洗浄用治具８０が回転している状態でこの洗浄用治具８０の上面にノズル５５から洗浄液を吐出する。吐出された洗浄液は、回転遠心力によって洗浄用治具８０の上面に沿って径方向外側に案内され、この洗浄用治具８０の外周縁から洗浄液が飛散する。これによって回転カップ６０や液回収カップ６２に洗浄液が供給されるようになる。

本実施の形態の液処理装置１０で用いられる洗浄用治具８０の具体的な構成について図３乃至図５を用いて説明する。ここで、図３は、図２に示す液処理ユニット５０で用いられる洗浄用治具８０の構成を示す斜視図であり、図４は、図３に示す洗浄用治具８０の一部を拡大して示す拡大斜視図であり、図５は、図４に示す洗浄用治具８０の一部の断面図である。

図３に示すように、洗浄用治具８０は、全体として円板状の形状となっている。図３乃至図５に示すように、この洗浄用治具８０は、水平部８１と、外周縁の近傍に全周にわたってもうけられており洗浄用治具８０の径方向外側（図４および図５における右側）に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部８２とを有している。このような傾斜部８２には、少なくとも２段の傾斜部分が設けられている。図４および図５に示す例では、傾斜部８２には、第１の傾斜部分８２ａ、第２の傾斜部分８２ｂ、第３の傾斜部分８２ｃという３段の傾斜部分が設けられている。

傾斜部８２の構成についてより具体的に説明する。傾斜部８２は、ノズル５５から洗浄液が基板保持台５２に保持された洗浄用治具８０の上面に供給されたときに、回転カップ６０と液回収カップ６２との間の隙間に向かって洗浄液が斜め上方に飛散するような形状となっている。ここで、回転カップ６０と液回収カップ６２との間の隙間に向かって洗浄液が図５の矢印Ａに示すように斜め上方に飛散するようにするために、第３の傾斜部分８２ｃの傾斜角度は第１の傾斜部分８２ａや第２の傾斜部分８２ｂの傾斜角度よりも大きくなっている。また、傾斜部８２が洗浄用治具８０の全周にわたって設けられているため、この傾斜部８２から飛散して回転カップ６０と液回収カップ６２との間の隙間に供給される洗浄液は水膜状となる。これにより、この隙間に洗浄液を的確に供給することができ、回転カップ６０の外周と液回収カップ６２の上部の内周をまんべんなく洗浄することができる。

また、図３乃至図５に示すように、水平部８１と傾斜部８２とが接する位置に、水平に延びる貫通孔８４が設けられており、洗浄用治具８０に供給された洗浄液のうち傾斜部８２の貫通孔８４に入った洗浄液は洗浄用治具８０の径方向外方に向かって略水平方向に飛散する（図５の矢印Ｂ参照）。このような貫通孔８４は、洗浄用治具８０の周方向において等間隔に複数設けられている。図３に示す例では、貫通孔８４は洗浄用治具８０の周方向において等間隔に３つ設けられている。また、図４および図５に示すように、洗浄用治具８０の外周縁の近傍には案内部８６が設けられており、この案内部８６により、傾斜部８２の貫通孔８４から出た洗浄液は洗浄用治具８０の径方向外方に向かって略水平方向に案内される。これにより、洗浄用治具８０から回転カップ６０等に供給される洗浄液の経路を複数とすることができるため、回転カップ６０の内面および外面の両方に洗浄液を同時に供給する等、回転カップ６０の様々な箇所に洗浄液を同時に供給することができる。

また、図４および図５に示すように、洗浄用治具８０の端縁８８は、ウエハＷの端縁と同じ厚さとなっており、基板保持台５２の基板保持体５２ａにより保持可能な形状となっている。

次に、このような構成からなる洗浄用治具８０を用いた、液処理ユニット５０の回転カップ６０等の洗浄方法について図６乃至図９を用いて以下に説明する。

液処理ユニット５０の回転カップ６０等の洗浄を行うにあたり、まず、洗浄用治具収納部９０に収納されている円板状の洗浄用治具８０を第２の搬送部４２により液処理ユニット５０に搬入し、基板保持台５２に載置し、この基板保持台５２の基板保持体５２ａにより洗浄用治具８０の端縁８８を保持させる。この際に、洗浄用治具８０に設けられた傾斜部８２が上方、すなわちノズル５５側を向くようにする。そして、回転モータ５４によって基板保持台５２を回転させることによりこの基板保持台５２に保持された洗浄用治具８０を第１回転速度で回転させる。

その後、洗浄用治具８０が回転している状態で、ノズル５５によりこの洗浄用治具８０の上面の中心位置に洗浄液を供給する。図６は、洗浄用治具８０を第１回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具８０に上方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。図６に示すように、洗浄用治具８０の上面の中心位置に供給された洗浄液は、回転遠心力によって洗浄用治具８０の上面に沿って径方向外側に案内される。そして、大部分の洗浄液は傾斜部８２の傾斜面に送られ、この傾斜面に沿って更に径方向外側に案内され、最終的に図６の矢印Ａに示すように第３の傾斜部分８２ｃから斜め上方に向かって径方向外側に飛散する。このことにより、回転カップ６０と液回収カップ６２との間の隙間に洗浄液が送られるようになり、この回転カップ６０の外周および液回収カップ６２の上部の内周（図６における二点鎖線Ｒ１で示す領域）を洗浄することができる。

また、洗浄液の一部は傾斜部８２の貫通孔８４に入り、この貫通孔８４に入った洗浄液は図６の矢印Ｂに示すように洗浄用治具８０の径方向外方に向かって略水平方向に飛散する。このことにより、回転カップ６０の内面にも洗浄液が送られ、この回転カップ６０の内面（図６における二点鎖線Ｒ２で示す領域）を洗浄することができる。

このように、洗浄用治具８０に傾斜部８２が全周にわたって設けられているとともにこの傾斜部８２に貫通孔８４が設けられているため、回転カップ６０の内面および外面にそれぞれ洗浄液を的確に供給することができる。

なお、本実施の形態の液処理ユニット５０では、基板保持台５２に保持された洗浄用治具８０の上面のみならず下面にも洗浄液が供給されるようになっている。より詳細には、基板保持台５２に洗浄用治具８０が保持され、この洗浄用治具８０が回転している状態で、回転駆動軸５３の内部に設けられた洗浄液供給管５６により、洗浄用治具８０の下面の中心位置に下方から洗浄液が供給される。洗浄用治具８０の下面の中心位置に供給された洗浄液は、回転遠心力によって洗浄用治具８０の下面に沿って径方向外側に案内され、最終的に図５の矢印Ｃに示すように洗浄用治具８０の端縁８８から径方向外側に飛散する。
このことにより、回転カップ６０における、傾斜部８２の貫通孔８４を通って洗浄用治具８０から飛散する洗浄液（図５の矢印Ｂ参照）が当たる箇所とは異なる箇所に洗浄液を供給することができるようになり、回転カップ６０の内側に対して洗浄液をよりまんべんなく供給することができるようになる。

より詳細に説明すると、液回収カップ６２の内周全体を洗浄する場合には、第１回転速度よりも大きい第２回転速度で洗浄用治具８０を回転させた状態で、洗浄用治具８０の下面のみに洗浄液を供給する。図７は、洗浄用治具８０を第１回転速度よりも大きな第２回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具８０に下方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。第２回転速度で洗浄用治具８０を回転させた状態で、洗浄用治具８０の下面のみに洗浄液を供給した場合には、図７の矢印Ｃに示すように、洗浄液は洗浄用治具８０の端縁８８から径方向外側に飛散し、液回収カップ６２の内周に衝突することにより処理液がはねて液回収カップ６２の内周全体（図７の二点鎖線Ｒ３で示す領域）を洗浄することができる。また、第１回転速度よりも大きい第２回転速度で洗浄用治具８０を回転させた状態で洗浄用治具８０の上面に洗浄液を供給しつつ、昇降カップ６４を昇降させる。このことにより、昇降カップ６４の外周や内周も洗浄することができる。

一方、基板保持台５２の上面を洗浄する場合には、この洗浄用治具８０の回転速度を低下させた状態で、洗浄用治具８０の下面に洗浄液を供給する。図８は、洗浄用治具８０を低速で回転させるとともにこの洗浄用治具８０に下方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。この場合には、洗浄液にかかる回転遠心力が小さく、洗浄用治具８０の下面に沿って案内されるときに洗浄液が下方の基板保持台上に落下しやすくなるため（図８の矢印Ｃ参照）、基板保持台５２の上面にも洗浄液を供給することができ、基板保持台５２の上面（二点鎖線Ｒ４で示す領域）を洗浄することができる。

洗浄終了後、洗浄液の供給を停止し、洗浄用治具８０を回転させて乾燥させる。この際に、洗浄用治具８０の上面に残った洗浄液は貫通孔８４を通って排出される。このときに、回転カップ６０も回転するので、回転カップ６０を乾燥することができる。

なお、洗浄用治具８０を第１回転速度よりも大きい第２回転速度で回転させた状態で、ノズル５５により洗浄用治具８０の上面の中心位置に洗浄液を供給してもよい。図９は、洗浄用治具８０を第１回転速度よりも大きな第２回転速度で回転させるとともにこの洗浄用治具８０に上方から洗浄液を供給したときの洗浄液の経路を示す図である。この場合には、洗浄用治具８０の上面に供給された洗浄液にかかる回転遠心力が大きくなり、傾斜部８２の第３の傾斜部分８２ｃから飛散する洗浄液は、図９の矢印Ａに示すように液回収カップ６２を飛び越えるようになる。このようにして、図９における二点鎖線Ｒ５で示す領域に洗浄液が送られるようになり、液回収カップ６２の外周および液処理ユニット５０の液処理室５１を囲うチャンバー５９にも洗浄液が供給され、液回収カップ６２の外周およびチャンバー５９の洗浄を行うことができる。

以上のように本実施の形態の液処理装置１０、洗浄用治具８０および洗浄方法によれば、洗浄用治具８０は、当該洗浄用治具８０が基板保持台５２に保持されたときにノズル５５から洗浄液が供給される上面において、洗浄用治具８０の外周縁の近傍に、洗浄用治具８０の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部８２が全周にわたって設けられている。このように、傾斜部８２が洗浄用治具８０の全周にわたって設けられているため、この傾斜部８２から飛散して回転カップ６０等に供給される洗浄液は水膜状となり、回転カップ６０等における所望の箇所に洗浄液を的確に供給することができるようになる。これにより、回転カップ６０の外周と液回収カップ６２の内周をまんべんなく洗浄することができる

なお、本実施の形態における液処理装置、洗浄用治具および洗浄方法は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。

例えば、洗浄用治具８０において、傾斜部８２に必ずしも貫通孔８４を設ける必要がない。貫通孔８４が設けられていないような傾斜部８２が用いられる場合であっても、この傾斜部８２が洗浄用治具８０の全周にわたって設けられている場合には、傾斜部８２から飛散して回転カップ６０等に供給される洗浄液は水膜状となるため、回転カップ６０等における所望の箇所に洗浄液を的確に供給することができる。また、貫通孔８４は水平に延びていなくてもよい。回転カップ６０等の所望の箇所に洗浄液を供給できるのであれば、貫通孔８４は上向きに傾斜していてもよい。貫通孔８４が上向きに傾斜している場合には、回転カップ６０の内周の上方を確実に洗浄できるようになる。

また、基板保持台５２により洗浄用治具８０が保持されて当該洗浄用治具８０が回転しているときに、この洗浄用治具８０の上面にのみ洗浄液を供給し、洗浄用治具８０の下面には洗浄液を供給しなくてもよい。

また、図４および図５では、傾斜部８２に複数段の傾斜部分が設けられた例について説明したが、傾斜部８２に必ずしも複数段の傾斜部分が設けられていなくてもよい。傾斜部８２に複数段の傾斜部分が設けられていない場合でも、この傾斜部８２が洗浄用治具８０の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜している場合には、洗浄用治具８０の傾斜部８２から外方に飛散した洗浄液を回転カップ６０等における所定の箇所に供給することができるようになる。

また、図１０に示すように、洗浄用治具８０の中央部分、すなわち水平部８１の中央部分に、当該水平部８１を上下に貫通する貫通穴８９を形成してもよい。図９に示した例では、複数ここでは６個の円形の貫通穴８９が、洗浄用治具８０の中心を中心とする円周を等分した位置に設けられている。図１０に示す洗浄用治具８０を回転させた状態でノズル５５により洗浄用治具８０の上面の中心位置に洗浄液を供給すると、図１１に示すように、その一部は貫通穴８９を通って基板保持台５２の上面に落下して、遠心力により基板保持台５２の上面に沿って径方向外側に向かって流れる（鎖線矢印Ｄを参照）。この洗浄液の流れにより、基板保持台５２の上面を洗浄することができる。洗浄用治具８０の上面に供給された洗浄液の残部は、遠心力により、隣接する貫通穴８９の間を通って（或いは貫通穴８９の上を飛び越えて）水平部８１の上面に沿って径方向外側に向かって流れ、先に図６を参照して説明した態様と同様の態様で傾斜部８２または案内部８６を介して径方向外側に飛散し（図１１の鎖線矢印Ａ，Ｂを参照）、これにより回転カップ６０及び液回収カップ６２が洗浄される。図１０に示す洗浄用治具８０を用いることにより、一度の洗浄工程により、回転カップ６０及び液回収カップ６２だけでなく、その近くにある基板保持台５２も洗浄することが可能となり、洗浄効率を向上させることができる。なお、図１０に示す洗浄用治具８０を用いた場合においても、洗浄用治具８０の回転速度を変化させることにより、洗浄液にかかる回転遠心力が変化して矢印Ａ、Ｂ、Ｄにより示される洗浄液の飛行軌道（飛び出し角度、飛距離）が変化するので、洗浄部位を変化させることができる。

なお、図１０に示した例では６個の貫通穴８９を設けたが、これに限定されるものではなく、異なる数の貫通穴８９を設けてもよい。また、洗浄用治具８０の上面の中心位置に１個の貫通穴８９を設けてもよい。この場合、洗浄中に、ノズル５５による洗浄液の供給位置を、洗浄用治具８０の上面の中心位置と中心位置からずれた位置との間で移動（例えば往復運動）させることにより、或る時点においては主として回転カップ６０及び液回収カップ６２を洗浄し、他の時点においては主として基板保持台５２を洗浄することができる。なお、貫通穴８９を設けた場合でも、図７示した態様と同様の態様で、洗浄用治具８０の下面に洗浄液を供給しても構わない。

なお、上記各実施形態においては、液処理装置が、ウエハから飛散した処理液を受けるカップとして回転カップ６０および回転しない液回収カップ６２を有していたが、これに限定されるものではなく、カップは、回転しないカップ体のみにより構成されていてもよい。この場合も、上述した洗浄用治具８０を用いることにより、カップの様々な部位、並びにカップの周囲の部材を洗浄することができる。

１０ 液処理装置
２６ 第１の搬送部
４０ 処理ブロック
４２ 第２の搬送部
４６ 搬送路
５０ 液処理ユニット
５２ 基板保持台
５２ａ 基板保持体
５３ 回転駆動軸
５４ 回転モータ
５５ ノズル
５６ 洗浄液供給管
５９ チャンバー
６０ 回転カップ（カップ）
６２ 液回収カップ（カップ）
６４ 昇降カップ
８０ 洗浄用治具
８１ 水平部
８２ 傾斜部
８２ａ〜８２ｃ 第１〜第３の傾斜部分
８４ 貫通孔
８６ 案内部
８８ 端縁
８９ 貫通穴
９０ 洗浄用治具収納部
９１ 制御部

Claims (16)

1. 基板を処理液で処理するための液処理装置であって、
   基板を水平に保持する基板保持部と、
   前記基板保持部を回転させる基板回転機構と、
   前記基板保持部に保持された基板を囲い、基板に供給した後の処理液を受けるカップと、
   少なくとも前記カップを洗浄するための円板状の洗浄用治具を収納する洗浄用治具収納部と、
   前記基板保持部の上方に位置し、洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
   を備え、
   前記洗浄液供給部は、前記洗浄用治具が前記基板保持部により保持されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられており、かつ、前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液を前記洗浄用治具を通過させて前記洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている前記洗浄用治具に洗浄液を供給する、液処理装置。
2. 前記洗浄用治具は、水平部と前記傾斜部とを有し、
   前記水平部と前記傾斜部とが接する位置に貫通孔が設けられている、請求項１記載の液処理装置。
3. 前記貫通孔は、前記洗浄用治具の周方向において複数設けられている、請求項２記載の液処理装置。
4. 前記洗浄用治具の外周縁の近傍には、前記傾斜部の前記貫通孔から出た洗浄液を前記洗浄用治具の径方向外方に向かって水平方向に案内する案内部が設けられている、請求項２または３記載の液処理装置。
5. 前記傾斜部には、少なくとも２段の傾斜部分が設けられている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液処理装置。
6. カップ内で回転する基板に処理液を供給した後に少なくとも前記カップを洗浄するための洗浄用治具であって、
   円板状であるとともに、前記カップ内に配置されたときに洗浄液が供給される上面において、前記洗浄用治具の外周縁の近傍に、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって斜め上方に傾斜した傾斜部が全周にわたって設けられており、かつ、前記上面の中央部分に、前記上面に供給された洗浄液をこの洗浄用治具を通過させてこの洗浄用治具の下方に案内する貫通穴が設けられている洗浄用治具。
7. 前記傾斜部には貫通孔が設けられている、請求項６記載の洗浄用治具。
8. 前記貫通孔は、前記洗浄用治具の周方向において複数設けられている、請求項７記載の洗浄用治具。
9. 前記洗浄用治具の外周縁の近傍には、前記傾斜部の前記貫通孔から出た洗浄液を前記洗浄用治具の径方向外方に向かって略水平方向に案内する案内部が設けられている、請求項７または８記載の洗浄用治具。
10. 前記傾斜部には、少なくとも２段の傾斜部分が設けられている、請求項６乃至９のいずれか一項に記載の洗浄用治具。
11. 液処理装置における少なくともカップを洗浄するための洗浄方法であって、
    円板状の洗浄用治具を基板保持部により保持させる工程と、
    前記基板保持部を回転させて前記洗浄用治具を回転させる工程と、
    回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程と、
    前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、当該洗浄用治具の外周縁の近傍において前記洗浄用治具の全周にわたって設けられた傾斜部の傾斜面に沿って、斜め上方に飛散させて前記カップを洗浄するとともに、これと同時に回転する前記洗浄用治具の上方から供給された洗浄液の一部を、前記洗浄用治具に設けられた貫通穴を介して前記洗浄用治具の下方に導き、前記洗浄用治具の下方にある部材を洗浄する工程と、
    を備えた、洗浄方法。
12. 前記洗浄用治具に供給された洗浄液を、前記洗浄用治具の径方向外方に向かって水平方向に案内して、前記カップの内周を洗浄する、請求項１１記載の洗浄方法。
13. 回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する工程において、前記基板回転機構による前記洗浄用治具の回転速度を途中で変化させる、請求項１１または１２記載の洗浄方法。
14. 回転している前記洗浄用治具に下方から洗浄液を供給する工程を更に備えた、請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の洗浄方法。
15. 回転している前記洗浄用治具に上方から洗浄液を供給する際の前記洗浄用治具の回転速度よりも、回転している前記洗浄用治具に下方から洗浄液を供給する際の前記洗浄用治具の回転速度が大きくなっている、請求項１４記載の洗浄方法。
16. 大きな回転速度で回転している前記洗浄用治具に下方から洗浄液を供給して、前記カップの内周を洗浄する、請求項１４または１５記載の洗浄方法。

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