JP2012063419A - 電気光学表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板同士の貼り合せ時における製造効率を向上させるとともに信頼性の高い電気光学表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の電気泳動表示装置１００は、画素電極３５を有する第１基板３０と、光透過性の対向電極３７を有する光透過性の第２基板３１と、第１基板３０と第２基板３１との間に挟持され液状の分散液３２と、分散液３２を複数の収容部に分割する隔壁１４と、分散液３２を封入するようにして隔壁１４と対向電極３７との間に配置される光透過性の封入膜５と、を有してなる電気泳動層３２０と、封入膜５と対向電極３７との間に配置される光透過性を有するホットメルト導電接着膜３８と、を備えることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、電気光学表示装置及びその製造方法に関するものである。

一般に、液体中に微粒子を分散させた分散液に電界を作用させると、微粒子は、クーロン力により分散中で移動（泳動）することが知られている。この現象を電気泳動という。
近年、この電気泳動を利用して、所望の情報（画像）を表示させるようにした電気泳動表示装置が新たな表示装置として注目を集めている。電気泳動表示装置は、電圧の印加を停止した状態で表示メモリー性を有することや広視野角性を有すること、及び、低消費電力で高コントラストの表示が可能であること等の特徴を備えている。

また、電気泳動表示装置は、非発光型デバイスであることから、ブラウン管のような発光型の表示デバイスに比べて、目に優しいという特徴も有している。このような電気泳動表示装置には、一対の基板間を、隔壁による複数の空間（以下、セルとも言う。）に区画し、各セル内に上記の分散液を封入したものが知られている（特許文献１、２）。この構造を隔壁型ともいう。

特開２００８−１０７４８４号公報 特開２００４−０４７７３号公報

隔壁型の電気泳動表示装置は、画素電極を有する素子基板上に形成した隔壁のセル内に分散液を供給した後、この素子基板上に対向電極を有する対向基板を貼り合わせることによって得られる。基板同士を貼り合わせる際に接着剤が用いられることがあるが、この接着剤が外側へ漏れ出すなどして後処理が必要になり、手間がかかってしまう。
そのほか接着剤が分散液に混入してしまうことにより、所望の泳動挙動を示さなくことがある。また、隔壁のセル内に供給された分散液を封入膜を用いて封入した後に、基板同士を接着剤を用いて貼り合わせる場合、ラミネート時の加熱温度によって封入膜が溶解してしまったり、封入膜が溶解することで分散液が封入膜に浸透して、封入性能を落としてしまうなどの問題が生じている。

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、基板同士の貼り合せ時における製造効率を向上させるとともに信頼性の高い電気光学表示装置及びその製造方法を提供することを目的の一つとしている。

本発明の電気光学表示装置は、第１電極を有する第１基板と、光透過性の第２電極を有する光透過性の第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟持され、液状の電気光学材料と、前記電気光学材料を複数の収容部に分割する隔壁と、前記電気光学材料を封入するようにして前記隔壁と前記第２電極との間に配置される光透過性の封入膜と、を有してなる電気泳動層と、前記封入膜と前記第２電極との間に配置される光透過性を有するホットメルト導電接着膜と、を備えることを特徴とする。

これによれば、ホットメルト導電接着膜を介して電気泳動層と第２基板とが貼り合わされているので、熱を利用した簡便な製造方法で迅速に隔壁及び電気泳動層と対向基板とを接着させることができる。
また、加熱溶融するホットメルト導電接着膜は、封入膜と対向基板との間に隙間なく形成されており、導電性も有することから、第２電極と電気泳動層との電気的な導通を確実に得ることができる。
また、ホットメルト導電接着膜は光透過性を有していることから、第２基板側を表示面側（視認側）にすることができる。

また、前記ホットメルト導電接着膜が、８０℃から１００℃の範囲内で軟化する構成としてもよい。
これによれば、ホットメルト導電接着膜が上記温度範囲内のような比較的低温（封入膜の溶解温度よりも低い温度）で軟化する構成であるため、ホットメルト導電接着膜を介して電気泳動層と対向基板とを貼り合わせる際に封入膜が溶解してしまうのを防止することができる。また、封入膜が溶解することで分散液が封入膜に浸透して、封入性能が弱まるのを防止することができる。また、液状の電気泳動層が蒸発してしまうのを防止することもできる。

また、前記ホットメルト導電接着膜の抵抗が厚さ方向で１０００Ω以下であることがこのましく、さらに５００Ω以下であることがより好ましい。
これによれば、膜厚方向に導電性を有するホットメルト導電接着膜を介して電気泳動層と第２電極との導通を得ることができる。

また、前記ホットメルト導電接着膜が、１μｍから５０μｍの範囲内の膜厚を有する構成としてもよい。
これによれば、上記範囲よりも厚い場合は、第１基板側および第２電極との電気的な導通が得られにくくなるが、上記範囲内の膜厚であれば、第１基板側と第２電極との電気的な導通を確実に得ることができる。これにより、製造時において導電接着膜を第２基板に貼り合わせることを容易に行うことができる。

また、前記ホットメルト導電接着膜は、バインダー樹脂に導電材料が混合された材料からなる構成としてもよい。
これによれば、ホットメルト導電接着膜に接着性の他に導電性を付与することができる。

また、前記導電材料の含有量が５から５０重量％である構成としてもよい。
これによれば、ホットメルト導電接着膜の良好な接着性を維持しつつ導電性を付与することができる。

本発明の電気光学表示装置の製造方法は、一面側に開口する複数の空間を有する隔壁を用意し、当該隔壁の前記空間内に液状の電気光学材料を供給し、前記空間内に前記電気光学材料が形成された前記隔壁の前記開口側に封入膜を形成することによって電気泳動層を形成する工程と、画素電極を有する前記第１基板と前記電気泳動層とを貼り合わせる工程と、前記隔壁の前記開口側に前記第２電極を有する前記第２基板を加熱溶融させた前記ホットメルト導電接着膜を介して貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする。

これによれば、電気泳動層と第２電極を有する第２基板とを加熱溶融させたホットメルト導電接着膜を介して貼り合わせているので、熱を利用した簡便な製造方法で迅速にこれらを接着させることができる。また、加熱溶融させたホットメルト導電接着膜が、電気泳動層と第２電極との間に隙間なく広がることにより、第１基板と第２基板との電気的な導通を確実に得ることができる。

また、前記貼り合わせ工程におけるラミネート温度が８０℃から１００℃の範囲内である方法としてもよい。
ラミネート温度が高いと封入膜や電気光学材料が蒸発してしまうことがある。
そこで、上記温度範囲のような比較的低温で溶融するホットメルト導電接着膜を用いることにより、ラミネート時に封入膜が溶解したり、電気光学材料が蒸発してしまうのを防止することができる。

また、前記第２電極の前記第２基板とは反対側の表面上にフィルム状のホットメルト導電接着膜を供給する工程を有する方法としてもよい。
これによれば、フィルム状のホットメルト導電膜により、第２基板上への安定した供給が可能である。液状態の接着剤のように、貼り合わせた後に外側へはみ出すことがないので、作業が容易である。

また、前記空間内に前記電気泳動層が形成された前記隔壁の開口側に封入膜を形成する工程を有する方法としてもよい。
これによれば、電気泳動層を空間内に封入することができる。また、電気泳動層と第２電極とが直に接触することを防止することができるので、例えば、電気泳動層を構成する分散媒との接触により第２電極が腐食してしまうことを防ぐことができる。

本発明の電気光学表示装置の一例である電気泳動表示装置の概略構成を示す断面図。 （ａ）、（ｂ）は、セルマトリクスの構成を示す平面図。 対向基板側の製造工程図。 素子基板側の製造工程図。 素子基板側の製造工程図。 電気泳動層の液面高さと、待機時間との関係を示す図。

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

（第１実施形態）
図１は、本発明の電気光学表示装置の一例である電気泳動表示装置の概略構成を示す断面図である。
図１および図２に示すように、電気泳動表示装置（電気光学表示装置）１００は、第１基板３０及び画素電極（第１電極）３５を３５含む素子基板３００と、第２基板３１及び対向電極（第２電極）３７を含む対向基板３１０との間に電気泳動層（電気光学層）３２０が挟持されてなるものである。

第１基板３０上には、画素ごとに画素トランジスター（例えば、ＴＦＴ（図示略））、画素電極３５およびセルマトリクス４が設けられている。
画素トランジスターは、配線を介して画素電極３５にそれぞれ接続されており、当該画素トランジスターをオン、オフすることにより、画素電極３５に選択的に電圧を印加できるようになっている。
画素電極３５は厚さ５０ｎｍのＩＴＯからなるが、これに限定されるものではない。
第１基板３０には、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの絶縁性の樹脂材料からなる基板（即ち、樹脂基板）、又は、ガラス基板が用いられ、０．５ｎｍの厚さを有している。

なお、電気泳動表示装置１００に可撓性を付与する場合には、可撓性を有する樹脂基板を選択する。また、画素電極３５及び第１基板３０は、視認側ではないので必ずしも光透過性を有する材料を用いる必要はなく、非光透過性の材料を用いることも可能である。

画素電極３５は、素子基板３００の電気泳動層３２０と対向する側の面に形成されている。また、対向電極３７は、対向基板３１０（図１）の電気泳動層３２０と対向する側の面に形成されている。画素電極３５は、たとえば、画素ごとに形成された電極であり、対向電極３７は例えば複数の画素に亘って共通に形成された電極である。このような画素電極３５と対向電極３７は、例えばアルミニウム（Ａｌ）等の光透過性に乏しい（不透明な）導電膜、又は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の光透過性を有する導電膜で構成されている。

なお、素子基板３００が透明基板であり、画素電極３５がＩＴＯ等で構成されている場合は、画面に表示される文字、画像等を素子基板３００側から視認することができる。あるいは、図示しない対向電極３７が透明な基板であり、対向電極３７がＩＴＯ等で構成されている場合は、画面に表示される文字、画像等を対向基板３１０側から視認することができる。

電気泳動層３２０は、セルマトリクス４と、複数の電気泳動粒子（電気光学材料）２６とこれら電気泳動粒子２６を分散させた分散媒２１（電気光学材料）とを有する分散液３２（電気光学材料）と、封入膜５と、を有してなる。ここで、電気泳動粒子２６は、例えば、顔料粒子、樹脂粒子又はこれらの複合粒子である。顔料粒子を組成する顔料としては、例えば、アニリンブラック、カーボンブラックなどの黒色顔料、酸化チタン、酸化アンチモンなどの白色顔料などがある。また、樹脂粒子を組成する樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、尿素樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン、ポリエステルなどがある。複合粒子としては、例えば、顔料粒子の表面を樹脂材料や他の顔料で被覆したもの、樹脂粒子の表面を顔料で被覆したもの、顔料と樹脂粒子とを適当な組成比で混合した混合物で構成される粒子などがある。これらの各種材料からなる電気泳動粒子２６は、例えば正又は負に帯電した状態で分散媒中に分散されている。

分散媒２１は、例えば、親油性の炭化水素系の溶媒であり、例えば、アイソパー（登録商標）を含む。すなわち、分散媒２１は、例えば、アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭのうちのいずれか１種類を含む液体、もしくはこれらのうちの２種類以上を混合した液体、あるいは、これらのうちのいずれか１種類以上と他の種類の炭化水素系の溶媒とを混合した液体である。

あるいは、分散媒２１は、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼンのような長鎖アルキル基を有するベンゼン類（アルキルベンゼン誘導体）等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等ノエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ルチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩又はその他の各種油類等でも良く、これらを単独又は混合物として用いることができる。

セルマトリクス４は、第１基板３０上において複数の空間（すなわち、収容部）を形成するとともに、各セル（収容部）１５内に電気泳動材料としての分散液３２を収容するものである。

セルマトリクス４は、例えば、板状の基部１３と、基部１３上に配置された格子状の隔壁１４とを有し、シート状（板状）の部材からなる。基部１３は、セルマトリクス４の底部を構成するもので、一面上に配置される隔壁１４と一体的に形成されている。基部１３の厚さに特に制限はなく、例えば、数［μｍ］〜数十「μｍ」程度の薄膜であってもよい。また、隔壁１４は、セルマトリクス４の側壁をなすものであり、電気泳動材料としての分散液３２を複数の収容部（セル１５内）に分割して収容するものである。この隔壁１４によって、素子基板３００上は複数の空間（すなわち、セル１５）に区画され、これら複数のセル１５の各々に電気泳動材料がそれぞれ充填されている。

隔壁１４の平面視における形状は、例えば、正方格子状、六角格子状、又は、三角格子状である。
図２（ａ）、（ｂ）は、セルマトリクスの構成を示す平面図である。
図２（ａ）に示すように、隔壁１４の平面形状が正方格子状を呈する場合は、セル１５の平面形状が正方形となっており、図２（ｂ）に示すように、隔壁１４の平面形状が正六角格子状を呈する場合は、セル１５の平面形状が正六角形となる。
本実施形態のセルマトリクス４は基部１３と隔壁１４とが一体となって形成されているが、これに限らず、別々に形成した基部１３と隔壁１４とを固定することで構成してもよい。あるいは基部１３を省略して、隔壁１４のみでセルマトリクス４を構成するようにしてもよい。この場合は、隔壁１４を素子基板３００の画素電極３５側の最上層に直接取り付けるようにしてもよい。
本実施形態のセルマトリクス４は基部１３と隔壁１４とが一体形成されているため同一材料で構成されているが、基部１３と隔壁１４とを別々に形成する場合は、異なる材料を用いることが可能である。

基部１３を構成する材料としては、可撓性を有するもの、硬質なもののいずれであってもよく、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の各種樹脂材料や、シリカ、アルミナ、チタニア等の各種セラミクス材料が挙げられる。ただし、電気泳動表示装置１００に可塑性を付与する場合には、基部１３には可塑性を有する樹脂材料のものを選択する。

隔壁１４を構成する材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の各種樹脂材料や、シリカ、アルミナ、チタニア等の各種セラミックス材料が挙げられる。

なお、本実施形態において、隔壁１４を構成する材料としては、電気泳動層３２０と親和性の高い材料のものを選択することが好ましい。例えば、電気泳動層３２０が親油性の場合は、隔壁１４を親油性の材料で構成することが好ましい。この場合、隔壁１４自体を親油性の材料にしてもよいし、隔壁１４の表面だけを親油性にしてもよい。隔壁１４の表面だけを親油性にする方法としては、例えば、表面処理（すなわち、塗布、物理気相成長もしくは化学気相成長などの方法を用いて隔壁１４の表面に親油性の膜を形成する処理、又は、親油性の膜を貼付する処理）が挙げられる。

また、実施形態では、分散媒２１と隔壁１４との接触角θが、０°＜θ＜２０°の範囲内に入ることが好ましい。このような構成であれば、分散媒２１と隔壁１４との密着性を高めることができ、複数のセル１５の各々において、電気泳動層３２０の表面を断面視で凹状の形にすることが容易となる。

封入膜５は、各セル１５内に電気泳動材料としての分散液３２を封入（「封入」は「封止」とも表現する場合がある。）するための膜であって、隔壁１４の開口側に、分散液３２の表面に沿って一定の膜厚で形成されている。図１に示すように、分散液３２の表面の凹状は封入膜５の表面に現れている。封入膜５の膜厚は、例えば５〜１０μｍ程度である。封入膜５を構成する材料としては、例えば、水溶性高分子が挙げられ、具体的には、ポリビニールアルコール（ＰＶＡともいう）、アミノ酸、アラビアガム、アラビアゴム、アルギン酸誘導体、アルブミン、アルホキシメチルセルロース、セルロース誘導体、ゼラチン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニルフェノール、ポリ酢酸ビニル誘導体又はレシチンのうちのいずれか１種類、あるいは、これらのうちの２種類以上を含むものである。

なお、分散媒２１としての炭化水素系の溶媒（例えば、アイソパー）、及び、ＰＶＡはいずれも安価である。このため、電気泳動表示装置１００の製造コストの低減が可能である。また、封入膜５を無色透明に形成することができ、凡そ、９０％程度の光透過率を確保することができる。封入膜５による光の減衰が少ないため、封入膜５で覆われた画面（すなわち、複数のセル１５の集合体）に表示される文字、画像等の視認性を高めることができる。
また、封入膜５と分散液３２との相溶性が極めて低いため、分散液３２をセル１５内に密閉性高く封入することができる。
本実施形態においては、上記した隔壁１４と分散液３２と封入膜５とによって電気泳動層３２０が構成されている。

そして、第２基板３１上には、その表面全体を覆うようにして対向電極３７が設けられている。対向電極３７は厚さ１００ｎｍのＩＴＯからなり、第２基板３１は厚さ０．５μｍのガラス又はＰＥＴ基材からなっており、それぞれが光透過性を有している。

対向電極３７の表面（第２基板３１とは反対側の面）にはその表面全体を覆うようにして光透過性のホットメルト導電接着膜３８が形成されている。ホットメルト導電接着膜３８は、高分子材料（バインダー樹脂）中に金属フィラー（導電材料）２８が所定量含有されたフィルム状のもので、その厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲内で適宜設定される。

ホットメルト材料として使用され得る熱可塑性高分子としては、ポリオレフィン（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、及びそれらのコポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート）、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂（例えばポリアクリレート、及びポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート）、ポリアミド（すなわちナイロン）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、セルロース樹脂（すなわち硝酸セルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、エチルセルロース等）、上記の材料のいずれかのコポリマー（例えばエチレン−酢酸ビニルコポリマー、エチレン−アクリル酸コポリマー及びスチレン−ブタジエンブロックコポリマー）などが挙げられるが、これらに限定されない。

また、透明金属フィラー２８としては、塩化リチウム、塩化マグネシウムなどの無機塩類、クロロシラン、四塩化ケイ素、の加水分解生成物であるケイ素化合物、金属酸化物粉末、酸化インジウム（スズ）、酸化スズ（アンチモン）、で表面処理したガラスビーズなどが挙げられる。透明金属フィラー２８の含有量は、５［ｗｔ％］〜５０［ｗｔ％］（重量パーセント）である。
なお、高分子材料及び透明金属フィラー２８は上記したものに限定されない。

ところで、この電気泳動表示装置１００では、複数のセル１５の各々において、ホットメルト導電接着膜３８は、電気泳動層３２０側に向かって凸状となっている。すなわち、図１に示したように、複数のセル１５の各々において、ホットメルト導電接着膜３８の下側（電気泳動層３２０側）の表面は凸状となっている。

（電気泳動表示装置の製造方法）
次に、上述の電気泳動表示装置の製造方法について説明する。
図３〜図５は、本発明の第１実施形態に係る電気泳動層３２０の製造方法を示す断面図であって、図３は、対向基板側の製造工程図である。図４（ａ）〜図５（ｂ）は、素子基板側の製造工程図である。

図３（ａ）に示すように、まず、樹脂基板、又は、ガラス基板からなる第２基板３１上の略全面にＩＴＯ材料を塗布して対向電極３７を形成する。
次に、図３（ｂ）に示すように、対向電極３７の表面上の略全面にフィルム状のホットメルト導電接着膜３８を供給する。このホットメルト導電接着膜３８は、常温で固形状をなしている熱可塑性高分子に透明金属フィラー２８を分散させてなる接着性フィルムからなる。ここで、ホットメルト導電接着膜３８の電気抵抗値は、膜厚方向で１０００Ω以下である。より好ましくは、５００Ω以下である。
このようにして、対向基板３１０を形成する。なお、ホットメルト導電接着膜３８の表面（対向電極３７とは反対側の外面）に剥離シートを貼着させておいても良い。

次に、図４（ａ）に示すように、一面側に開口する複数のセル１５を有したセルマトリクス４を用意する。
次に、図４（ｂ）に示すように、セルマトリクス４の各セル１５内に、各セル１５の開口部１５ａを通して分散液３２（複数の電気泳動粒子２６と分散媒２１とを有する分散液）を供給する。なお、各セル１５内への分散液３２の供給は、例えば、ディスペンサを用いて滴下法、インクジェット法（液滴吐出法）、スピンコート法、ディップコート法等の各種塗布法が挙げられるが、これらの中でも、滴下法、またはインクジェット法を用いるのが好ましい。滴下法、またはインクジェット法によれば、各セル１５（収容部）に対して分散液３２を選択的に供給することができることから、セル１５内に無駄なく、且つより確実に供給することができる。

セル１５内に分散液３２を供給した後で、一定の待機時間を設けることが好ましい。これにより、図４（ｃ）に示すように、セル１５の中心部において分散液３２の表面（液面）は低下し、その断面視による形状を凹状になる。

ここで、図６は、分散液３２の液面高さと待機時間との関係を示す図である。
図６に示すように、セル１５内に供給された分散液３２の液面高さと、分散液３２を供給した後の待機時間との間には相関があり、待機時間が長くなるにつれて液面高さが低下する傾向がある。
また、この液面低下の傾向は、セル１５の周辺部よりもセル１５の中心部で顕著である。すなわち、セル１５の中心部における液面高さは、セル１５の周辺部における分散液３２の液面高さよりも早く低下する傾向がある。これは、セル１５の周辺部では分散液３２と隔壁１４とが接触して分散液３２の液面が支えられるのに対して、セル１５の中心部では液面の支えがないためである。

また、セル１５の周辺部における分散液３２の液面高さは、分散液３２と隔壁１４との密着性が高いほど下がりにくい傾向がある。このため、分散液３２と隔壁１４とについて、互いに親和性の高い材料を選択することにより、液面高さｈ２の低下を防ぐことができる。
なお、封入膜５の厚さは、ｈ１とｄ１（画素電極３５とホットメルト導電接着膜３８との間の距離）との差により得られる。

例えば、分散液３２が親油性の場合は、隔壁１４を親油性の材料で構成する。これにより、分散液３２と隔壁１４との密着性を高めることができ、液面高さｈ２の低下を防ぐことができる（図６における待機時間ｔに依存して低下するｈ２の傾きを、緩やかにすることができる）。親油性の分散液３２は、例えば、親油性である炭化水素系の溶媒（一例として、アイソパー）を分散媒２１に用いることで実現可能である。あるいは、分散媒２１と隔壁１４の接触各が０°＜θ＜２０°の範囲内に入るように、分散媒２１と隔壁１４との材料をそれぞれ選択することで、これらの密着性を高めることができる。この場合も、分散媒２１に親油性の溶媒を選択し、隔壁１４に親油性の材料を選択してよい。より好ましくは、分散媒２１と隔壁１４の接触角θが、０°＜θ＜１０°の範囲内に入るようにする。

このように、図６で示した相関に基づいて、待機時間の長さを調整するとともに、分散液３２と隔壁１４の材質の組合せを選択することにより、セル１５の中心部及び周辺部における分散液３２の液面の高さｈ１、ｈ２を所望の値に設定することが可能である。つまり、分散液３２の表面に現れる凹状の形、深さ等を、所望の形態に近づけることが可能である。

次に、図４（ｄ）に示すように、分散液３２を各セル１５内に封入するようにして封入膜５を形成する。具体的には、分散液３２が供給されたセルマトリクス４（隔壁１４）の開口部１５ａ側を封入膜５で覆って、セルマトリクス４の各セル１５内に分散液３２を封じ込める。封入膜５の成膜方法は、例えば下記の通りである。

水溶性高分子を例えば、水、又は親水性の液体（一例として、メタノール又はエタノール）に溶かして液状にし、封入液を作成する。例えば、水溶性高分子としてＰＶＡを選択し、ＰＶＡを水に溶かして３［ｗｔ％］〜４０［ｗｔ％］（重量パーセント）の封入液を作成する。

次に、この封入液をセルマトリクス４の開口部側に塗布して封入膜５を形成する。分散液３２は親油性であり、封入膜５は親水性であり、分散液３２と封入膜５は混和しない。このため、セル１５内に供給された分散液３２の露出部分に封入膜５を形成することにより、分散液３２をセル１５内に密閉性高く封入することができる。また、分散液３２と対向電極３７とが直に接触することを防止することができるので、分散液３２の分散媒２１との接触により対向電極３７が腐食されてしまうことを防ぐことができる。

なお、封入液の塗布工程では、例えば、スキージ１７を用いてセルマトリクス４（隔壁１４）の開口部１５ａ側の全面に封入膜５を一様に塗布する。また、封入液の塗布方法は、これ以外の塗布方法でも良く、例えば、ダイコーターやコンマコーターを用いた塗布方法が挙げられる。

次に、封入液を塗布して形成した封入膜５に、乾燥処理を施して硬化させる。例えば、封入膜５を室温〜５０［℃］程度の温度環境下に放置して、これを乾燥させて硬化させる。乾燥処理の所要時間は、封入膜５の厚さにもよるが、例えば数分から数時間程度である。封入膜５の膜中におけるＰＶＡの濃度が高いため、封入膜５の乾燥を自然乾燥、又は比較的低温で行うことができる。この乾燥処理では、封入膜５に含まれる水分が揮発（蒸発）するため、図５（ａ）に示すように、封入膜５の厚さを塗布直後と比較して、薄くすることができる。このようにして、電気泳動層３２０を形成する。

次に、図５（ｂ）に示すように、別途形成しておいた画素電極３５を有する素子基板３００と、上述したホットメルト導電接着膜３８を有する対向基板３１０と、を用意する。
ここで、素子基板３００は、樹脂基板、又はガラス基板からなる第１基板３０上に複数の選択トランジスター、および画素電極３５を備えたもので、従来公知の方法によって製造される。

次に、素子基板３００と対向基板３１０とを電気泳動層３２０に取り付ける。
本実施形態においては真空ラミネート法を用いて対向基板３１０、電気泳動層３２０、素子基板３００を互いに貼り合わせる。
まず、図５（ｂ）に示すように、素子基板３００の画素電極３５を有する側の面を、セルマトリクス４の基部１３側の面に取り付ける。なお、この取り付けには、例えば、接着剤（図示せず）を用いてもよい。

また、対向基板３１０のホットメルト導電接着膜３８を有する側の面を、セルマトリクス４の各セル１５の開口部が多数存在する隔壁１４側の面に取り付ける。この際、ホットメルト導電接着膜３８の表面に貼着されていた剥離シートを剥離させた後、隔壁１４の表面に対してホットメルト導電接着膜３８の表面を接触させた状態で所定の温度８０℃〜１００℃で加熱溶融させる。すると、流動性が与えられて、封入膜５と対向電極３７との間に隙間なく広がって、双方に密着する。このようにして、ホットメルト導電接着膜３８を加熱溶融によって活性化させることで電気泳動層３２０と対向基板３１０とを瞬間的に接着させる。

その後、溶融したホットメルト導電接着膜３８を冷却することで元の固体に戻り、電気泳動層３２０と対向基板３１０との接着状態が維持される。
このようにして、素子基板３００と対向基板３１０とを電気泳動層３２０を介して貼り合わせ、図１に示した本実施形態の電気泳動表示装置１００が得られる。

このように、本実施形態の電気泳動表示装置１００によれば、ホットメルト導電接着膜３８を利用して電気泳動層３２０と対向基板３１０とを貼り合わせることとしたので、熱を利用した簡便な製造方法で迅速に被接着部材どうしを接着させることができる。

また、本実施形態では、セル１５内に供給された分散液３２の液面高さは、セル１５の周辺部よりも中央部の方が凹んでおり、この分散液３２の液面形状に倣って封入膜５が凹状に形成されている。このため、溶融しない硬化性接着剤を用いると、凹状とされた封入膜５と対向電極３７との間を埋めることができず、対向基板３１０と素子基板３００との間の電気的な導通がとれなくなってしまう。そこで、本実施形態では、ホットメルト導電接着膜３８を加熱溶融させることにより封入膜５上と対向電極３７との間を隙間なく埋めることができるので、対向基板３１０と素子基板３００との電気的な導通を確実に得ることができる。
また、ホットメルト導電接着膜３８は優れた接着力で部材どうしを接着できるとともに、経時変化が少なく、耐老化性にも優れている。

また、従来用いられていた接着剤は液状態のため、含有された透明金属フィラー２８の沈降を防止するために撹拌が必要であった。
これに対して本実施形態のホットメルト導電接着膜３８は溶剤を含まないため、電気泳動層３２０と対向基板３１０とを貼り合わせた後に余剰溶剤がはみ出すことがなく、溶媒を除去しなくて済む。よって、製造時に各部材どうしを単に貼り合わせるだけでよく、特別な処理を必要としない。

また、液状の接着剤を用いた場合、接着剤そのもの、あるいは接着剤の溶剤が封入膜５を溶かしてしまうことがある。溶けた封入膜５が分散液３２内へ混入してしまうと電気泳動粒子２６の電気泳動に影響が及ぶおそれがあるとともに、対向電極３７との間に気泡が混入してしまうおそれもある。
これに対して、本実施形態のホットメルト導電接着膜３８は溶剤を含まないため封入膜５を溶解させてしまう心配がないことから、電気泳動粒子２６の所望の電気泳動が得られるとともに気泡の混入が防止されて素子基板３００側との電気的な導通を確実に得ることが可能である。

また、本実施形態ではフィルム状のホットメルト導電接着膜３８であることから、取り扱いが容易で、対向基板３１０上への安定した供給が可能である。また、フィルム状であることからフィルム中における透明金属フィラー２８の分散性も均一である。

また、ホットメルト導電接着膜３８内には多数の透明金属フィラー２８が混合されていることから、対向電極３７との電気的な導通が得られる。
また、ホットメルト導電接着膜３８は光透過性を有する材料から構成されているので、貼り合わせ側（対向基板３１０側）を表示面にすることができる。

［実施例１］
以下に、実施例１における電気泳動表示装置の構成について示す。
・ホットメルト材料：ポリ酢酸ビニル（融点１００℃）
・金属フィラー材料：酸化スズ
・ホットメルト導電性接着膜の厚さ：１０μｍ
・対向基板：ポリエステルフィルム（ＰＥＴ）上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を蒸着させてなる透明導電性フィルム（東レ ＮＸＣ１）
・ラミネート温度：８０℃
・供給圧力：０．４ＭＰａ

［実施例２］
次に、実施例２における電気泳動表示装置の構成について示す。
・ホットメルト材料：ポリウレタン（融点９０℃）
・金属フィラー材料：塩化マグネシウム
・ホットメルト導電接着膜３８の厚さ：１０μｍ
・対向基板：ポリエステルフィルム（ＰＥＴ）上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を蒸着させてなる透明導電性フィルム（東レ ＮＸＣ１）
・ラミネート温度８５℃（実施例１と同じでも良い）
・供給圧力：０．４ＭＰａ

次に、比較例としての電気泳動表示装置の構成について示す。
［比較例１］
・ホットメルト材料：アクリレート系ＵＶ硬化剤（融点１７０℃） → 封入膜５が溶解。
［比較例２］
・ホットメルト材料：エポキシ系接着剤（融点１５０℃） → 封入膜５が溶解。
・ホットメルト材料なし → 封入膜５と対向電極３７との間に隙間が生じて動作せず。

以上の結果により、ホットメルト材料に低温メルトが可能なポリ酢酸ビニルやポリウレタン等を用いることにより、封入膜５の溶融してしまうのを防止して、良好な接着性を得ることができる。
一方、ホットメルト材料に上記した材料に対して相対的に高温で溶融するアクリレート系ＵＶ接着剤やエポキシ系接着剤を用いると封入膜５が溶解してしまい、分散液３２への影響が懸念されるため好ましくない。また、高温ラミネートの場合、電気泳動材料としての分散液３２が蒸発してしまうおそれもある。
よって、上記実施例１および２において示した低温で溶融するホットメルト材料を用いることが好ましい。

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

例えば、ホットメルト導電接着膜３８の膜厚は、対向基板とセルマトリックスとを貼り合わせる際に、分散液３２の液面形状に沿って凹状に形成される封入膜５と対向電極３７との間を埋めることのできる厚さに設定する。ただし、あまり厚く形成してしまうと対向電極３７との導電性が得られにくくなってしまうため、上記したように、１μｍ〜５０μｍの範囲内で設定し、好ましくは、１０μｍ〜２０μｍの範囲内で設定する。

なお、上記実施形態では、電気光学表示装置として電気泳動表示装置を例に挙げて説明したが、電気光学層を備える電気光学表示装置であれば本発明を適用することが可能である。例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）液晶ディスプレイ、ＳＴＮ（Super ＴＮ）液晶ディスプレイ、強誘電性液晶ディスプレイ、コレステリック液晶ディスプレイ、トナーディスプレイ、ツイストボールディスプレイ等の表示装置を備える電気光学装置にも本発明を適用することができる。

５…封入膜、１４…隔壁、２１…分散媒（電気光学材料）、２６…電気泳動粒子（電気光学材料）、２８…金属フィラー（導電材料）、３０…第１基板、３２…分散液（電気光学材料）、３１…第２基板、３５…画素電極（第１電極）、３７…対向電極（第２電極）、３８…ホットメルト導電接着膜、１００…電気泳動表示装置（電気光学表示装置）、３２０…電気泳動層（電気光学層）

Claims (9)

1. 第１電極を有する第１基板と、
   光透過性の第２電極を有する光透過性の第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に挟持され、液状の電気光学物質と、前記電気光学物質を複数の収容部に収容する隔壁と、前記電気光学物質を封入するようにして前記隔壁と前記第２電極との間に配置される光透過性の封入膜と、を有してなる電気泳動層と、
   前記封入膜と前記第２電極との間に配置される光透過性を有するホットメルト導電接着膜と、を備える
   ことを特徴とする電気光学表示装置。
2. 前記ホットメルト導電接着膜が、８０℃から１００℃の範囲内で軟化する
   ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学表示装置。
3. 前記ホットメルト導電接着膜の抵抗が厚さ方向で１０００Ω以下であることが好ましく、さらに５００Ω以下がより好ましいことを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学表示装置。
4. 前記ホットメルト導電接着膜が、１μｍから５０μｍの範囲内の膜厚を有する
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学表示装置。
5. 前記ホットメルト導電接着膜は、バインダー樹脂に導電材料が混合された材料からなる
   ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の電気光学表示装置。
6. 前記導電材料の含有量は、５から５０重量％である
   ことを特徴とする請求項５に記載の電気光学表示装置。
7. 一面側に開口する複数の空間を有する隔壁を用意し、当該隔壁の前記空間内に液状の電気光学材料を供給し、前記空間内に前記電気光学材料が形成された前記隔壁の前記開口側に封入膜を形成することによって電気泳動層を形成する工程と、画素電極を有する前記第１基板と前記電気泳動層とを貼り合わせる工程と、前記隔壁の前記開口側に前記第２電極を有する前記第２基板を加熱溶融させた前記ホットメルト導電接着膜を介して貼り合わせる工程と、を有する
   ことを特徴とする電気光学表示装置の製造方法。
8. 前記貼り合わせ工程におけるラミネート温度が８０℃から１００℃の範囲内であることを特徴とする請求項７に記載の電気光学表示装置の製造方法。
9. 前記第２電極の前記第２基板とは反対側の表面上にフィルム状のホットメルト導電接着膜を供給する工程を有することを特徴とする請求項７または８に記載の電気光学表示装置の製造方法。

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