JP2012009511A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012009511A5 JP2012009511A5 JP2010141921A JP2010141921A JP2012009511A5 JP 2012009511 A5 JP2012009511 A5 JP 2012009511A5 JP 2010141921 A JP2010141921 A JP 2010141921A JP 2010141921 A JP2010141921 A JP 2010141921A JP 2012009511 A5 JP2012009511 A5 JP 2012009511A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow path
- processing
- outer cylinder
- cylinder
- connection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Description
ここで、特許文献1には、複数の液処理ユニットを水平に配置すると共に、酸性薬液専用の排気ライン及びアルカリ性薬液専用の排気ラインを備える構成が記載されている。この場合、例えば図16に示すように、夫々の液処理ユニットのカップ12は、酸性薬液専用の排気ライン13及びアルカリ薬液専用の排気ライン14と夫々専用の排気路15,16により接続される。これら排気路15,16には、夫々バルブV15,V16が設けられており、薬液に応じてこのバルブV15,V16を開閉することによって、カップ12内の雰囲気を専用の排気ライン13,14を介して排気するように構成されている。
さらにまた、本発明の処理方法は、
処理部において、被処理体に対して複数種別の処理流体を互いに異なるタイミングで供給しながら処理を行う工程と、
この処理部へ供給された複数種別の処理流体を共通流路から排出する工程と、
前記複数種別の処理流体毎に用意され、各々が独立した処理流体を流すための複数の専用排出路の内、対応する専用排出路から処理流体を排出する工程と、を含み、
前記流路切替え方法を用いて、前記共通流路を専用排出路に切替え接続することを特徴とする。
処理部において、被処理体に対して複数種別の処理流体を互いに異なるタイミングで供給しながら処理を行う工程と、
この処理部へ供給された複数種別の処理流体を共通流路から排出する工程と、
前記複数種別の処理流体毎に用意され、各々が独立した処理流体を流すための複数の専用排出路の内、対応する専用排出路から処理流体を排出する工程と、を含み、
前記流路切替え方法を用いて、前記共通流路を専用排出路に切替え接続することを特徴とする。
これら第1〜第3の流路61〜63の内、例えば第1の流路61は有機系薬液を含む気流、第2の流路62はアルカリ性薬液を含む気流、第3の流路63は酸性薬液を含む気流の専用排出路として夫々割り当てられている。この流路形成部材6の一端側には、前記第1〜第3の流路61〜63の夫々に専用排気ライン61a〜63aが接続されており、これら専用排気ライン61a〜63aは、工場用力の排気ラインを介して夫々排ガスの除害設備に接続されている。こうして、前記専用排気ライン61a〜63aにより流路形成部材6の各流路61〜63の夫々の内部は陰圧に設定されている。そして、各液処理ユニット3A〜3E内の雰囲気は排気路35を介して排気され、後述する流路切替え部5により、処理流体の種別に対応して切替え接続された流路61〜63を介して、夫々の専用排気ライン61a〜61cに排気されるように構成されている。
前記外筒51の内部には、図6〜図8に示すように、前記外筒51内に回転自在に挿入された円筒形状の回転筒53が設けられている。この回転筒53の一端側は、略水平な回転軸54を介して、外筒51の一端側の外部に設けられた回転駆動部55に接続されている。この回転駆動部55は、例えばロータリーシリンダにより構成され、回転筒53は、外筒51の内部にて、略水平軸周りに回転自在に構成されることになる。
この際、流路形成部材6の第1〜第3の開口部60a〜60cは、外筒51の第1〜第3の接続口51a〜51cと対応するように設けられており、前記開口部60a〜60cは、外筒51により覆われるように構成されている。従って、互いに対応する外筒51の第1〜第3の接続口51a〜51cと回転筒53の第1〜第3の開口部53a〜53cとの組の一つが重なり合って連通するときには、当該組に対応する流路形成部材6の開口部60a〜60cが開き、連通しない他の組については、これら他の組に対応する流路形成部材6の開口部60a〜60cが閉じられる。こうして、流路切替え部5によって、前記液処理ユニット3の排気路35が、前記処理流体の種別に対応した流路61〜63に切替え接続されることになる。
そして、前記第1の位置では、図8に示すように、第1の接続口51aが開かれ、第2及び第3の接続口51b,51cが閉じられて、液処理ユニット3からの有機系薬液を含む排気成分が第1の流路61に排気される。また、前記第2の位置では、図9(a)に示すように、第2の接続口51bが開かれ、第1及び第3の接続口51a,51cが閉じられて、液処理ユニット3からのアルカリ性薬液を含む排気成分が第2の流路62に排気される。さらに、第3の位置では、図9(b)に示すように、第3の接続口51cが開かれ、第1及び第2の接続口51a,51bが閉じられて、液処理ユニット3からの酸性薬液を含む排気成分が第3の流路63に排気される。
こうして、外筒51、回転筒53及び回転駆動部55とにより、流路切替え部5が構成されている。この例では、例えば回転筒53が第3の位置(酸性薬液の排気成分を排気する位置)に位置にあるときを中間位置とし、ここから回転筒53を回転駆動部55側から見て時計回りに回転させることにより第1の位置に位置させ、また回転筒53を回転駆動部55側から見て反時計回りに回転させることにより第2の位置に位置させるように構成されている。
続いて、インナーカップ34を処理位置まで上昇させ、ウエハWを回転させると共に、流路切替え部5では回転筒53を第1の位置に切替え、ウエハWの上面にIPAを供給する。こうして、IPAの揮発性を利用したIPA乾燥を実行し、これによりウエハW表面に残存するリンス後のDIW液が完全に除去される。この際、液処理ユニット3からは排気路35、流路形成部材6の第1の流路61を介して有機系薬液のミストを含む気流が排気されていく。しかる後、インナーカップ34を退避位置まで退避させ、不図示の搬入出口を開き、液処理ユニット3内にプロセスアームA2を進入させて処理後のウエハWを搬出し、このウエハWを受け渡しステージ23に受け渡す。
さらに、各液処理ユニット3の排気路35には、圧力損失調整バルブV2が設けられている。このため、各液処理ユニット3は、長い排気路61〜63の異なる位置に接続されているので、この圧力損失調整バルブV2の開度の調整により、液処理ユニット3の排気路35の圧力損失が液処理ユニット3同士の間で均一になるように調整されている。このため、液処理ユニット3同士の間では、排気量が揃えられ、液処理の処理状態のバラつきの発生を抑制することができる。
さらに、例えば図15に示すように、回転筒82の他端側820を閉じるように構成すると共に、例えば外筒81の長さ方向において回転筒82の開口部に対応する位置に排気路(共通流路)35を接続するようにしてもよい。この例では、前記排気路35は回転筒82の中央部に形成された開口部822に対応する位置に接続されている。この例では、排気路35から外筒81と回転筒82との隙間に気流が排気され、前記開口部822、他の開口部(その一つは図示せず)、823から回転筒82の内部に前記気流が供給される。この際、前記開口部822が回転してある位置にあるときには、前記排気路35と対向するため、当該開口部822が共通流路35に接続される接続口に相当する。なお、前記接続口に相当する開口部は、流路切替え用の開口部とは別個に、流路切替えを阻害しない位置に設けるようにしてもよい。図15中、811,812,813は外筒81に形成された接続口である。
Claims (10)
- 各々が独立した流体を流すための複数の接続用流路を、当該接続用流路に対して接続される共通流路に切替え接続するための流路切替え装置において、
外筒と、
この外筒の周壁に当該外筒の長さ方向に沿って間隔をおいて開口し、前記複数の接続用流路に夫々接続される複数の接続口と、
前記共通流路に接続される接続口が設けられ、外筒内に回転自在に挿入された回転筒と、
この回転筒の周壁に当該回転筒の長さ方向に沿って間隔をおいて前記外筒の複数の接続口に対応する位置に夫々形成された複数の開口部と、
前記回転筒を回転させるための回転駆動部と、を備え、
前記回転筒の複数の開口部は、当該回転筒を回転する間に、互いに対応する外筒の接続口と回転筒の開口部との組の一つが重なり合って連通し、かつ他の組については連通しない状態が各組の間で順番に起こるように配置されていることを特徴とする流路切替え装置。 - 前記複数の接続口は、外筒の長さ方向に沿って一列に形成されていることを特徴とする請求項1記載の流路切替え装置。
- 被処理体に対して複数種別の処理流体を互いに異なるタイミングで供給しながら処理を行う処理部と、
この処理部へ供給された複数種別の処理流体を排出するために、前記処理部に設けられた共通流路と、
前記複数種別の処理流体毎に設けられ、前記処理流体を排出するための複数の専用排出路と、
前記共通流路を、前記処理流体の種別に対応した専用排出路に切替え接続するための流路切替え装置と、を備え、
前記流路切替え装置は、請求項1又は2記載の流路切替え装置であることを特徴とする処理装置。 - 前記複数の専用排出路には、夫々複数の前記流路切替え装置を介して複数の前記共通流路が接続されていることを特徴とする請求項3記載の処理装置。
- 前記複数の専用排出路に夫々設けられた複数の流体取り込み用開口部と、
複数の流体取り込み用開口部に夫々設けられ、流体の取り込み量を調整するために、これら流体取り込み用開口部の開度を調整する複数の取り込み量調整バルブと、
前記専用排出路内を通流する処理流体の流量に基づいて、前記流体取り込み用バルブの開度を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする請求項4記載の処理装置。 - 前記複数の共通流路の内部の夫々に、これら共通流路の圧力損失を調整するために、前記共通流路の開度を調整する複数の圧力損失調整バルブを設けることを特徴とする請求項4又5記載の処理装置。
- 各々が独立した流体を流すための複数の接続用流路を、当該接続用流路に対して接続される共通流路に切替え接続するための流路切替え方法において、
外筒と、
この外筒の周壁に当該外筒の長さ方向に沿って間隔をおいて開口し、前記複数の接続用流路に夫々接続される複数の接続口と、
前記共通流路に接続される接続口が設けられ、外筒内に回転自在に挿入された回転筒と、
この回転筒の周壁に当該回転筒の長さ方向に沿って間隔をおいて前記外筒の複数の接続口に対応する位置に夫々形成された複数の開口部と、を備えた流路切替え装置を用い、
前記回転筒を回転する間に、互いに対応する外筒の接続口と回転筒の開口部との組の一つが重なり合って連通し、かつ他の組については連通しない状態を形成して流路の切替え接続を行うことを特徴とする流路切替え方法。 - 処理部において、被処理体に対して複数種別の処理流体を互いに異なるタイミングで供給しながら処理を行う工程と、
この処理部へ供給された複数種別の処理流体を共通流路から排出する工程と、
前記複数種別の処理流体毎に用意され、各々が独立した処理流体を流すための複数の専用排出路の内、対応する専用排出路から処理流体を排出する工程と、を含み、
請求項7の流路切替え方法を用いて、前記共通流路を専用排出路に切替え接続することを特徴とする処理方法。 - 前記複数の専用排出路には、複数の前記共通流路が接続されており、
前記複数の専用排出路に夫々複数の流体取り込み用開口部を設け、前記専用排出路内を通流する処理流体の流量に基づいて、前記流体取り込み用開口部の開度を制御することを特徴とする請求項8記載の処理方法。 - 処理部において、被処理体に対して複数種別の処理流体を互いに異なるタイミングで供給しながら処理を行う処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8又は9に記載の処理方法を実施するためのステップ群が組み込まれていることを特徴とする記憶媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010141921A JP5240245B2 (ja) | 2010-06-22 | 2010-06-22 | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 |
KR1020110040840A KR101417208B1 (ko) | 2010-06-22 | 2011-04-29 | 유로 전환 장치, 처리 장치, 유로 전환 방법, 처리 방법 및 기억 매체 |
US13/161,275 US8840752B2 (en) | 2010-06-22 | 2011-06-15 | Flow passage switching apparatus, processing apparatus, flow passage switching method, processing method and storage medium |
CN201110168465.4A CN102315142B (zh) | 2010-06-22 | 2011-06-17 | 流路切换装置、处理装置、流路切换方法、处理方法 |
TW100121818A TWI487049B (zh) | 2010-06-22 | 2011-06-22 | 流路切換裝置、處理裝置、流路切換方法、處理方法及記憶媒體 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010141921A JP5240245B2 (ja) | 2010-06-22 | 2010-06-22 | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012009511A JP2012009511A (ja) | 2012-01-12 |
JP2012009511A5 true JP2012009511A5 (ja) | 2012-04-26 |
JP5240245B2 JP5240245B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=45327600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010141921A Active JP5240245B2 (ja) | 2010-06-22 | 2010-06-22 | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8840752B2 (ja) |
JP (1) | JP5240245B2 (ja) |
KR (1) | KR101417208B1 (ja) |
CN (1) | CN102315142B (ja) |
TW (1) | TWI487049B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5240245B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2013-07-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 |
JP2013011289A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Tokyo Electron Ltd | ゲートバルブ及びそれを用いた基板処理システム |
JP6003716B2 (ja) * | 2012-04-17 | 2016-10-05 | 株式会社デンソー | 流路切替装置 |
CN103453215B (zh) * | 2012-05-31 | 2016-04-27 | 英属开曼群岛商精曜有限公司 | 阀门总成以及阀门 |
US10471479B2 (en) | 2012-12-28 | 2019-11-12 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Treatment device and exhaust switching device therefor, and exhaust switching unit and switching valve box |
US9698029B2 (en) * | 2014-02-19 | 2017-07-04 | Lam Research Ag | Method and apparatus for processing wafer-shaped articles |
JP6482979B2 (ja) * | 2015-07-29 | 2019-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
TWI629116B (zh) * | 2016-06-28 | 2018-07-11 | 荏原製作所股份有限公司 | 清洗裝置、具備該清洗裝置之鍍覆裝置、以及清洗方法 |
CA2976081A1 (en) | 2016-08-10 | 2018-02-10 | Pat Technology Systems Inc. | Fume extraction apparatus with movable extraction aperture |
JP6990602B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2022-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP7019184B2 (ja) * | 2018-07-17 | 2022-02-15 | スピードファム株式会社 | 処理液切換装置 |
JP7203545B2 (ja) | 2018-09-21 | 2023-01-13 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6611893B2 (ja) * | 2018-11-01 | 2019-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置 |
CN209540113U (zh) * | 2019-01-05 | 2019-10-25 | 宁波大叶园林工业股份有限公司 | 一种新型四通通水结构 |
JP7370277B2 (ja) * | 2020-02-26 | 2023-10-27 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
CN113494680B (zh) * | 2020-04-07 | 2023-05-12 | 添可智能科技有限公司 | 通路切换装置、液体供给系统和通路切换方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD206687A3 (de) * | 1981-07-28 | 1984-02-01 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Verfahren und vorrichtung zur gasfuehrung fuer lp cvd prozesse in einem rohrreaktor |
JPH1012523A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP3669897B2 (ja) * | 1999-06-09 | 2005-07-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP3584185B2 (ja) * | 1999-09-21 | 2004-11-04 | エア・ウォーター株式会社 | 冷凍機およびこれに用いるロータリー弁 |
CN2541112Y (zh) | 2002-05-29 | 2003-03-26 | 苏州精机机械工业有限公司 | 旋转式油位闸门 |
JP4767783B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2011-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
CA2683944A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Ge Healthcare Bio-Sciences Ab | Flow distributing valve |
US8298338B2 (en) * | 2007-12-26 | 2012-10-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical vapor deposition apparatus |
JP4881345B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2012-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 圧力制御機構、基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
JP5012651B2 (ja) * | 2008-05-14 | 2012-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置、塗布方法、塗布、現像装置及び記憶媒体 |
JP5240245B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2013-07-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 |
-
2010
- 2010-06-22 JP JP2010141921A patent/JP5240245B2/ja active Active
-
2011
- 2011-04-29 KR KR1020110040840A patent/KR101417208B1/ko active IP Right Grant
- 2011-06-15 US US13/161,275 patent/US8840752B2/en active Active
- 2011-06-17 CN CN201110168465.4A patent/CN102315142B/zh active Active
- 2011-06-22 TW TW100121818A patent/TWI487049B/zh active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012009511A5 (ja) | ||
JP5240245B2 (ja) | 流路切替え装置、処理装置、流路切替え方法及び処理方法並びに記憶媒体 | |
US9073103B2 (en) | Liquid processing apparatus, liquid processing method, and recording medium having computer program for performing the same method | |
JP6219848B2 (ja) | 処理装置とその排気切換装置並びに排気切換ユニットと切換弁ボックス | |
US8042560B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
CN105981139B (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
KR20140035281A (ko) | 현상 처리 장치 | |
JP7163199B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US11214864B2 (en) | Method for reducing metal contamination and film deposition apparatus | |
KR20150123130A (ko) | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 | |
JP2008108829A (ja) | 二流体ノズルおよびそれを用いた基板処理装置 | |
JP4079212B2 (ja) | 塗布膜形成装置およびスピンチャック | |
JP3737604B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2019510881A5 (ja) | ||
US20010041311A1 (en) | Coating and developing method and apparatus therefor | |
JP6495030B2 (ja) | ウエハ状の物品を処理する方法および装置 | |
JP5789986B2 (ja) | 枚葉式ウェーハ洗浄装置 | |
JP3189821U (ja) | 処理液供給配管回路 | |
JP5239553B2 (ja) | 充填装置の洗浄方法および充填装置 | |
JP2012142405A (ja) | 液処理装置 | |
JP2007317927A (ja) | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 | |
JP2017092240A (ja) | ノズル待機装置および基板処理装置 | |
JP7164807B2 (ja) | 濃縮ガス供給装置用のロータリー弁 | |
US20110059614A1 (en) | Apparatus and Methods for Enhanced Fluid Delivery on Bevel Etch Applications | |
JP2005036317A5 (ja) |