JP2012007978A - 半導体集積回路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】外周配線14は、回路領域11とパッド電極P1〜P8の外の半導体基板10の4辺の外周に沿って配置されている。外周配線14は、パッド電極P1〜P8と同層又は上層の金属配線、もしくはポリシリコン配線により、半導体基板10上に形成される。外周配線14の第1の端に電源電位Vccが印加され、外周配線14の第2の端は抵抗R2を介して接地電位(Vss)が印加されている。検出回路15は、外周配線14と抵抗R2の接続点N1に接続され、該接続点N1の電位に基づいて、異常検出信号ERRFLGを発生するように構成されている。
【選択図】図1
Description
で動作不良とならない場合がある。そのため、この種の欠陥のあるWLPが搭載されたモジュールがエンドユーザーに出荷され、品質不良を起こすおそれがあった。
前記外周配線と前記抵抗の接続点の電位に基づいて、異常検出信号を発生する検出回路と、を備えることを特徴とするものである。
図1は、本発明の第1の実施形態における半導体集積回路100の平面図、図2は、図1のX−X線に沿った断面図である。半導体集積回路100はWLPであって、半導体基板10、回路領域11、再配線121〜128、樹脂層13、外周配線14、検出回路15、抵抗R2、パッド電極P1〜P8、バンプ電極B1〜B8を含んで構成されている。
停止させる構成を説明する。図5は、半導体集積回路100の出力回路の回路図である。この出力回路は半導体集積回路100の回路領域11の中に形成され、Pチャネル型MOSトランジスタ20,Nチャネル型MOSトランジスタ21,NAND回路22、23,NOR回路24及びインバータ25を含んで構成される。
になる。
図8は、本発明の第2の実施形態における半導体集積回路100Aの平面図、図9は、図8のX−X線に沿った断面図である。第1の実施形態の半導体集積回路100においては、外周配線14は半導体基板10上に形成されるのに対して、本実施形態の外周配線35は、平面図でみると外周配線14と同じ配置であるが、半導体基板10の中に拡散された拡散層で形成されている。該拡散層は、ウエハプロセスにより、回路領域11の中に形成する素子形成用の拡散層と同時に形成することができる。その他の構成は、第1の実施形態と同じである。
欠陥があるかどうかを検出回路15により検出することができる。
14 外周配線 15 検出回路 16,18 インバータ
20 Pチャネル型トランジスタ 21 Nチャネル型MOSトランジスタ
22,23 NAND回路 24 NOR回路 25 インバータ
26 パワーオンリセット回路 27 NOR回路 28 インバータ
29 内部回路 30 NOR回路 31 インバータ
32 NOR回路 33 インバータ 35 外周配線
100,100A 半導体集積回路 121〜128 再配線
R1,R2 抵抗 P1〜P8 パッド電極 B1〜B8 バンプ電極
Claims (7)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の表面の中に形成された回路領域と、
前記半導体基板の表面上に形成され、前記回路領域の回路と接続されたパッド電極と、
前記半導体基板の表面上に形成され、前記パッド電極に接続された再配線と、
前記半導体基板の表面上に形成され、前記再配線を覆って形成された樹脂層と、
前記樹脂層の開口部を通して前記再配線に接続された突起電極と、
第1の端と第2の端を有し、前記回路領域の外の前記半導体基板の外周に沿って配置され、前記第1の端に第1の電位が印加された外周配線と、
前記外周配線の第2の端と第2の電位との間に接続された抵抗と、
前記外周配線と前記抵抗の接続点の電位に基づいて、異常検出信号を発生する検出回路と、を備えることを特徴とする半導体集積回路。 - 前記回路領域の回路からのデータ信号を出力する出力トランジスタと、
前記検出回路により発生された前記異常検出信号に応じて、前記出力トランジスタのデータ信号を出力不能にする出力制御回路と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。 - 前記検出回路により発生された前記異常検出信号に応じて、前記回路領域の回路の動作を停止させる動作停止信号を発生する動作停止信号発生回路を備えることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
- 前記動作停止信号が発生しないように前記動作停止信号発生回路を制御する制御回路を備えることを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。
- 前記検出回路は、前記接続点が入力端に接続されたインバータを備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体集積回路。
- 前記検出回路は、第1及び第2の入力端を有する比較器を備え、前記第1の入力端に前記接続点が接続され、前記第2の入力端に基準電位が印加されたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体集積回路。
- 前記外周配線は、前記半導体基板の表面上に形成された金属配線、ポリシリコン配線、又は前記半導体基板の表面の中に形成された拡散層からなる配線のいずれかであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体集積回路。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010143488A JP2012007978A (ja) | 2010-06-24 | 2010-06-24 | 半導体集積回路 |
US13/156,681 US8436352B2 (en) | 2010-06-24 | 2011-06-09 | Semiconductor integrated circuit |
CN201110170475.1A CN102299139B (zh) | 2010-06-24 | 2011-06-23 | 半导体集成电路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010143488A JP2012007978A (ja) | 2010-06-24 | 2010-06-24 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012007978A true JP2012007978A (ja) | 2012-01-12 |
Family
ID=45351677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010143488A Pending JP2012007978A (ja) | 2010-06-24 | 2010-06-24 | 半導体集積回路 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8436352B2 (ja) |
JP (1) | JP2012007978A (ja) |
CN (1) | CN102299139B (ja) |
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JP2020141223A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
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EP3425664A1 (en) | 2017-07-07 | 2019-01-09 | Nxp B.V. | Integrated circuit with a seal ring |
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- 2010-06-24 JP JP2010143488A patent/JP2012007978A/ja active Pending
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- 2011-06-09 US US13/156,681 patent/US8436352B2/en active Active
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CN102299139A (zh) | 2011-12-28 |
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Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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