JP2011519172A - Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を含む照明系並びに投影露光装置 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
19 視野ファセット
19G 基本照明視野ファセット
19K 補正照明視野ファセット
27 瞳ファセット
27G 基本照明瞳ファセット
27K 補正照明瞳ファセット
x 長手視野寸法
y 短手視野寸法
Claims (75)
- 長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流に配置されたその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)は、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)は、前記照明光束(10)のうちで該視野ファセット(19)のそれぞれの1つに入射する部分が関連の瞳ファセット(27)によって前記物体視野(5)上に誘導されるように、該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられ、
前記視野ファセットミラー(13)は、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を用いて前記物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)を含むだけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を用いて該物体視野(5)の該照明の補正をもたらす複数の補正照明視野ファセット(19K;71)をも含み、
前記視野ファセットミラー(13)は、前記物体視野(5)の前記照明に寄与する前記補正照明視野ファセット(19K;71)の個数及び/又は配列に関して異なる少なくとも2つの作動モードの間で切換可能であり、
前記補正照明視野ファセット(19K)は、前記照明光(10)に対して所定の反射率を有し、これは、一定の強度露光から所定の方式で逸脱する所定のパターンを長手視野寸法(x)に沿って有する照明強度を備えた照明を前記物体視野(5)の該長手視野寸法(x)に沿ってもたらす、
ことを特徴とする照明光学系。 - 前記瞳ファセットミラー(14)の前に配列可能であり、各々が、異なる配列の割り当てられた補正照明視野ファセット(19K)の照明光部分を遮光する複数の絞り(29から32;77)を特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(71)の少なくとも1つが、前記物体視野(5)全体を照明せず、その部分区域のみを照明することを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)のうちのいくつかの部分(34)には、高反射コーティングが設けられないことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)のうちの少なくともいくつかの部分は、可変反射率を有するEUV灰色フィルタとして設計されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記灰色フィルタは、前記補正照明視野ファセット(19K)の反射面を所定の分布の吸収点構造(38)で覆うことによって形成されることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)上には、前記吸収点構造(38)を有する灰色フィルタ部分(37)が設けられ、
前記灰色フィルタ部分(37)は、吸収点構造も持たない残りの補正照明視野ファセット(19K)から分離される、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記吸収点構造(38)は、前記灰色フィルタ部分(37)に一定の面積密度で配置され、可変反射率が、前記長手視野ファセット寸法(x)に垂直(y)である該灰色フィルタ部分(37)の幅を変化させることによって達成されることを特徴とする請求項7に記載の照明光学系。
- 前記灰色フィルタ部分(37)の最大幅(K)が、前記長手視野ファセット寸法(y)に垂直な前記補正照明視野ファセット(19K)の幅(yFF)よりも小さいことを特徴とする請求項8に記載の照明光学系。
- 前記灰色フィルタ部分において、前記点構造(38)は、変化する面積密度で配置されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 少なくとも2つの類似する補正照明視野ファセット(19K)を特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 補正照明瞳ファセット(27K1,/27K1',27K2/27K2',27K3/27K3',27K4/27K4',27K5/27K5',27K6/27K6')が、前記類似する補正照明視野ファセット(19K1/19K1',19K2/19K2',19K3/19K3',19K4/19K4',19K5/19K5',19K6/l9K6')に割り当てられ、該割り当てられた補正照明瞳ファセット(27K1,/27K1',27K2/27K2',27K3/27K3',27K4/27K4',27K5/27K5',27K6/27K6')は、前記瞳ファセットミラー(14)によって形成される瞳の中心(36)に関して点対称であることを特徴とする請求項11に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K;71)の有効照明区域が、前記基本照明視野ファセット(19G)の境界形状から逸脱する境界形状を有することを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K;71)の有効照明区域の境界形状が、少なくとも1つの屈曲点を有することを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(71)は、基本照明視野ファセット(19G)の部分表面積である表面積を有することを特徴とする請求項3から請求項14のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K;71)は、少なくとも1つの能動的に変位可能なミラーであることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K;71)は、少なくとも1つの能動的に傾斜可能及び/又はシフト可能なミラーであることを特徴とする請求項16に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)の有効照明区域及び/又は前記補正照明瞳ファセット(27K)の有効照明区域の境界形状が、遮光体(47)によって影響を受けることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)を支持するための支持構造が、前記視野ファセットミラー(13)の遮光空間(39)に配置されることを特徴とする請求項18に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)は、前記ファセットミラー(13,14)の反射面(59)によって形成された反射平面から距離を置いて配置されることを特徴とする請求項18又は請求項19に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)は、2つのファセット(19K1/19K2,19K8/19K9)の間に取り付けられることを特徴とする請求項18から請求項20のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)は、基部本体(49)を含み、
前記基部本体は、2つの隣接するファセット(19K1/19K2)の間の間隙(48)に沿って延び、
前記基部本体の幅が、前記2つの隣接するファセット(19K1/19K2)の間の前記間隙(48)の幅よりも大きくなく、かつ
前記基部本体上に、前記2つの隣接するファセット(19K1/19K2)の間の前記間隙(48)の前記幅よりも大きい幅を有する遮光部分(50)が配置される、
ことを特徴とする請求項18から請求項21のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 基部本体(49)としてのワイヤを特徴とする請求項22に記載の照明光学系。
- 基部本体(49)としてのフィルムストリップ又はテープを特徴とする請求項22に記載の照明光学系。
- 前記遮光部分(50)は、それらが、ブランク基部本体(49)の縁部から材料を除去することによって形成されるような方法で構成されることを特徴とする請求項22から請求項24のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光部分は、それらが、前記ブランク基部本体(49)の前記縁部から材料を切削することによって形成されるような方法で構成されることを特徴とする請求項25に記載の照明光学系。
- 前記遮光部分(50)は、少なくとも前記照明光束(10)のビーム方向に垂直な寸法(y)における前記基部本体(49)の厚み変動によって形成されることを特徴とする請求項22から請求項26のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記基部本体(49)の正弦厚み変動を特徴とする請求項27に記載の照明光学系。
- 前記遮光部分(50)は、円盤形であることを特徴とする請求項22から請求項28のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 複数の遮光部分(50)が、照明光学系(4)の視野平面(6)内の所定の強度分布(I(x))に対応するシーケンスで前記基部本体(49)に沿って配置されることを特徴とする請求項22から請求項29のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 各場合に1つの基部本体(49)及び各場合に複数の遮光部分(50)であり、前記遮光体(47)の少なくとも2つが、以下のパラメータ:
前記基部本体(49)に沿った前記遮光部分(50)の距離、
関連の補正照明ファセット(19K)に対する前記遮光部分(50)の位置、
前記遮光部分(50)の遮光直径、
の群のうちの少なくとも1つにおいて互いに異なる複数の遮光体(47)を特徴とする請求項18から請求項30のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記遮光体(47)は、それに割り当てられた前記補正照明ファセット(19K)よりも前記長手視野ファセット寸法(x)に沿ってより長いことを特徴とする請求項18から請求項31のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)の両端が、それらを繰り出すことができる少なくとも1つのロール(53,54)上に巻き取られ、遮光に用いられる該遮光体(47)の区域(55)が、該2つのロール(53,54)の間で誘導されることを特徴とする請求項32に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)を巻き取り、かつ繰り出すための駆動部を特徴とする請求項33に記載の照明光学系。
- 前記ロール(53,54)及び前記駆動部(56)は、残りの照明光学系(4)が配置される排除空間(57)の外側に配置されることを特徴とする請求項34に記載の照明光学系。
- 前記遮光部分(50)の形態を定めるための形成デバイスを特徴とする請求項22から請求項35のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)上のマークを検出するための読取デバイス(62)を特徴とする請求項18から請求項36のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)は、2つのファセット(19K)の間に挿入される挿入部分(67)を含むことを特徴とする請求項18から請求項37のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記遮光体(47)は、前記ファセットミラー(13)の反射面(59)に対して垂直に変位可能(69)であることを特徴とする請求項38に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(71)は、前記視野ファセットミラー(13)の基本照明輪郭の外側に配置され、該輪郭は、前記基本照明視野ファセット(19G)の全てによって形成されることを特徴とする請求項1から請求項39のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明瞳ファセット(27K)は、前記瞳ファセットミラー(14)の基本照明輪郭内に配置され、該輪郭は、前記基本照明瞳ファセット(27G)の全てによって形成されることを特徴とする請求項1から請求項40のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 遮光体(77)が、前記補正照明瞳ファセット(76)の少なくとも1つに割り当てられ、該遮光体(77)は、該補正照明瞳ファセット(76)を可変方式で覆うことを特徴とする請求項1から請求項41のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記基本照明視野ファセット(19G)の少なくとも一部が、該基本照明視野ファセット(19G)の変位に向けて各場合に1つのアクチュエータと協働することを特徴とする請求項1から請求項42のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K;71)の少なくとも一部が、該補正照明視野ファセット(19K;71)の変位に向けて各場合に1つのアクチュエータと協働することを特徴とする請求項1から請求項43のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記基本照明瞳ファセット(27G)の少なくとも一部が、該基本照明瞳ファセット(27G)の変位に向けて少なくとも1つのアクチュエータと協働することを特徴とする請求項1から請求項44のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明瞳ファセット(27K;76)の少なくとも一部が、該補正照明瞳ファセット(27K;76)の変位に向けて各場合に1つのアクチュエータと協働することを特徴とする請求項1から請求項45のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)は、前記照明光束(10)のうちで該補正照明視野ファセット(19K)から前記補正照明瞳ファセット(27K)に伝達される部分が、該補正照明瞳ファセット(27K)によって完全には伝達されず、その縁部において所定の方式で遮断されるような方法で該補正照明瞳ファセット(27K)に対して配向されることを特徴とする請求項1から請求項46のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明瞳ファセット(27K)は、前記照明光束(10)のうちで該補正照明瞳ファセット(27K)から前記物体視野(5)に伝達される部分が、該物体視野(5)に完全には到達せず、その縁部において所定の方式で遮断されるような方法で該物体視野に対して配向されることを特徴とする請求項1から請求項47のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記補正照明視野ファセット(19K)の少なくとも1つが、互いに独立に配向可能である複数の部分補正照明ファセット(110;111;114;116;117)に分割されることを特徴とする請求項1から請求項48のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(110;111;114;116)は、前記基本照明視野ファセット(19G)よりも前記長手視野ファセット寸法(x)に沿ってより小さい延長を有することを特徴とする請求項49に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(110;111;114;116;117)は、前記長手視野ファセット寸法に沿って少なくとも1つの列で配置されることを特徴とする請求項49又は請求項50に記載の照明光学系。
- 前記基本照明視野ファセット(19G)は、前記長手視野ファセット寸法(x)に沿って複数の部分基本照明ファセット(115)に分割されることを特徴とする請求項49から請求項51に記載の照明光学系。
- 隣接する部分基本照明ファセット(115)の間に間隙(x0)が存在し、前記部分補正照明ファセット(116a;117)の少なくとも一部は、それらが、前記短手視野ファセット寸法(y)の方向に見た時に該間隙(x0)を覆うような方法で配置されることを特徴とする請求項52に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(110;111;114;116;117)及び/又は前記部分基本照明ファセット(11)は、互いに独立に作動可能なマイクロミラーとして設計されることを特徴とする請求項49から請求項53のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(110)は、該部分補正照明ファセット(110)の一部分(yi)のみが、前記短手視野ファセット寸法(y)の方向に照明光(3,109)によって到達可能であるように、前記視野ファセットミラー(13)の支持体(26,108)の部分遮光区域上に配置されることを特徴とする請求項49から請求項54のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(114a,114b;116;117)は、前記基本照明視野ファセット(y0)よりも前記短手視野ファセット寸法に沿ってより短い延長(ya,yb)を有することを特徴とする請求項49から請求項55のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセットミラー(13)は、複数の視野ファセットブロック(25)に分割され、前記補正照明視野ファセット(19K)は、各場合に該視野ファセットブロック(25)のうちの1つの縁部でファセット(19)を形成することを特徴とする請求項49から請求項56のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセットブロック(25)は、前記視野ファセットミラー(13)の前記支持体(26)の主支持体平面に垂直な方向(z)に階段の方式で互いに対して千鳥に配置されることを特徴とする請求項57に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(114)は、前記長手視野寸法(x)に沿っていくつかの列(112,113)で配置されることを特徴とする請求項49から請求項58のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記部分補正照明ファセット(114)は、前記短手視野寸法(y)に沿って様々な列(112,113)において異なる延長(ya,yb)を有することを特徴とする請求項59に記載の照明光学系。
- 1:2よりも大きくない前記延長の間の比(ya/yb)を特徴とする請求項60に記載の照明光学系。
- 物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)が、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)が、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられる、
長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
視野ファセットミラー(13)が、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、該補正照明視野ファセット(19K;71)の有効照明区域の境界形状が、少なくとも1つの屈曲点を有する、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)が、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)が、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられる、
長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
視野ファセットミラー(13)が、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、該補正照明視野ファセット(19K)の有効照明区域及び/又は該補正照明瞳ファセット(27K)の有効照明区域の境界形状が、遮光体(47)を用いて影響を受け、
前記遮光体(47)を支持するための支持構造体が、前記視野ファセットミラー(13)の遮光空間(39)に配置される、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)が、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)が、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられる、
長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
視野ファセットミラー(13)が、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、該補正照明視野ファセット(19K)は、照明光束(10)のうちで該補正照明視野ファセット(19K)から該補正照明瞳ファセット(27K)に伝達される部分が、該補正照明瞳ファセット(27K)によって完全には伝達されず、その縁部において所定の方式で遮断されるような方法で該補正照明瞳ファセット(27K)に対して配向される、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)が、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)が、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられる、
長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
視野ファセットミラー(13)が、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、該補正照明視野ファセット(19K)は、照明光束(10)のうちで該補正照明視野ファセット(19K)から該補正照明瞳ファセット(27K)に伝達される部分が、該補正照明瞳ファセット(27K)に完全には到達せず、その縁部において所定の方式で遮断されるような方法で該補正照明瞳ファセット(27K)に対して配向される、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)は、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)は、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が、関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー(13)は、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、
前記補正照明視野ファセット(19K)は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法(x)に沿って所定のパターンに従う前記照明光(10)に対する反射率を有し、
個別の灰色フィルタ部分(37)が、前記補正照明視野ファセット(19K)上に設けられ、
前記灰色フィルタ部分(37)には、一定の面積密度を有する吸収点構造(38)が設けられ、可変反射率が、前記長手視野ファセット寸法(x)に対して垂直(y)に該灰色フィルタ部分(37)の幅を変化させることによって達成される、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)は、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)は、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が、関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー(13)は、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、
前記補正照明視野ファセット(19K)は、一定の反射率から所定の方式で逸脱する前記長手視野ファセット寸法(x)に沿って所定のパターンに従う前記照明光(10)に対する反射率を有し、
灰色フィルタ部分(37)が、前記補正照明視野ファセット(19K)上に設けられ、
吸収点構造(38)が、変化する面積密度で前記灰色フィルタ部分(37)に配置される、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 長手視野寸法(x)と短手視野寸法(y)の間で1よりも大きいアスペクト比を有する物体視野(5)に放射線源(3)からの照明光束(10)を誘導するためのEUVマイクロリソグラフィのための照明光学系(4)であって、
物体視野(5)内に所定の照明条件を設定するための複数の視野ファセット(19)を有する視野ファセットミラー(13)と、
照明光(10)を前記物体視野(5)内に伝達するために前記視野ファセットミラー(13)の下流にあるその後の光学系(14,15)と、
を含み、
前記その後の光学系(14,15)は、複数の瞳ファセット(27)を有する瞳ファセットミラー(14)を含み、前記視野ファセット(19)は、照明光束(10)のうちで各場合に該視野ファセット(19)の1つに入射する部分が、関連の瞳ファセット(27)を通じて前記物体視野(5)上に誘導されるように、各場合に該瞳ファセット(27)に個々に割り当てられ、
視野ファセットミラー(13)は、関連の基本照明瞳ファセット(27G)を通じて物体視野(5)の基本照明を与える複数の基本照明視野ファセット(19G)だけではなく、関連の補正照明瞳ファセット(27K;76)を通じて該物体視野(5)の該照明を補正することを可能にする複数の補正照明視野ファセット(19K;71)も含み、
前記視野ファセットミラー(13)は、少なくとも2つの類似する補正照明視野ファセット(19K)を含み、
補正照明瞳ファセット(27K1,/27K1',27K2/27K2',27K3/27K3',27K4/27K4',27K5/27K5',27K6/27K6')が、前記類似する補正照明視野ファセット(19K1/19K1',19K2/19K2',19K3/19K3',19K4/19K4',19K5/19K5',19K6/l9K6')に割り当てられ、該割り当てられた補正照明瞳ファセット(27K1,/27K1',27K2/27K2',27K3/27K3',27K4/27K4',27K5/27K5',27K6/27K6')は、前記瞳ファセットミラー(14)によって形成される瞳の中心(36)に関して点対称である、
ことを特徴とする照明光学系(4)。 - 請求項1から請求項68のいずれか1項に記載の照明光学系と、
像視野(8)上への物体視野(5)の投影のための投影光学系(7)と、
を含むことを特徴とする光学系。 - 請求項69に記載の光学系と、
照明光束(10)を発生させるためのEUV放射線源(3)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1から請求項68のいずれか1項に記載の照明光学系(4)を用いた照明補正の方法であって、
放射線源(3)の照明光束(10)を用いて物体視野(5)の照明の強度分布又は角度分布を検出する段階と、
望ましい強度分布又は角度分布を得るために、補正照明視野ファセット(19K;71)の配列、及びこれらの補正照明視野ファセット(19K;71)への補正照明瞳ファセット(27K;76)の割り当てを準備する段階と、
を含み、
前記補正照明視野ファセット(19K;71)の前記配列は、1組の関数に基づいて準備され、視野高さにわたってこの関数の組に対応する強度変動を有する1組の補正照明視野ファセットが設けられる、
ことを特徴とする方法。 - 前記補正照明視野ファセット(19K;71)の前記配列を準備する段階の後に、対応する作動モードが選択されて切り換えられることを特徴とする請求項1から請求項68のいずれか1項に記載の照明光学系(4)を用いた請求項71に記載の方法。
- 微細構造構成要素を製造する方法であって、
レチクル(20)を準備する段階と、
照明光束(10)に対して感光性のコーティングを有するウェーハを準備する段階と、
請求項70に記載の投影露光装置を用いて、前記レチクル(20)の少なくとも一部分を前記ウェーハ上に投影する段階と、
前記照明光束(10)への露光の後に前記ウェーハ上の層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項71又は請求項72のいずれか1項に記載の照明補正が、前記投影の前に行われることを特徴とする請求項73に記載の方法。
- 請求項73又は請求項74に記載の方法に従って製造された構成要素。
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