JP2011503670A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 画素回路を形成する方法であって、
   ａ） 第１の面を有する透明支持体を用意する工程；
   ｂ） 少なくとも４つの異なる色パターンを有する多色マスクを形成する工程；そして
   ｃ） 第１導体、誘電体、半導体、及び第２導体を含む少なくとも４つのパターン化された機能材料層を有する画素回路の集積化された電子構成部品を形成する工程
   を含み、
   各パターン化された機能材料層は、該多色マスクの前記少なくとも４つの異なる色パターンに対応し、
   各パターン化された機能材料層は：
   ｉ） 該多色マスクを形成した後、該透明支持体の第１の面に、可視光に対して感光するフォトパターン化可能材料から成る層を被覆する工程；
   ｉｉ） 該フォトパターン化可能材料層を、該多色マスクを通して可視光に暴露することにより、該多色マスクの前記色パターンのうちの１つの色パターンに対応するフォトパターンを形成する工程、該フォトパターンは、被覆されたままの第１状態とは異なる露光された第２状態のフォトパターン化可能材料から成り；
   ｉｉｉ） 該フォトパターン化可能材料を被覆する前又は後に、機能材料層を堆積する工程；そして
   ｉｖ） 結果として生じるパターン化された機能材料が前記１つの色パターンに対応するように、該フォトパターンを使用して該機能材料をパターン化する工程
   によって形成され；
   該多色マスクは：
   ｉ） 該第１導体に対応する第１色パターンであって、該第１色パターンの色部分が、該第１導体パターンのネガコピーを含む第１色パターンと、
   ｉｉ） 該誘電体に対応する第２色パターンであって、該第２色パターンの色部分が、該誘電体パターンのポジコピーを含む第２色パターンと、
   ｉｉｉ） 該半導体に対応する第３色パターンであって、該第３色パターンの色部分が、該半導体パターンのポジコピーを含む第３色パターンと、
   ｉｖ） 該第２導体に対応する第４色パターンであって、該第４色パターンの色部分が、該第２導体パターンのポジ又はネガコピーを含む第４色パターンと、
   を含む、
   画素回路を形成する方法。
2. 該色パターンのうちの２つが、同じ吸収スペクトル領域と、異なる光学濃度とを有する、請求項１に記載の方法。
3. 該多色マスクの少なくとも１つの色パターンが、該透明支持体の該第１の面に存在する、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記多色マスクが、前記透明基板上にマスターカラー画像の写真複製によって形成された多色層を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記多色マスクが、別個の基板上に予め形成された後で、前記透明支持体上に積層される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 前記多色マスクが、前記透明支持体上に直接に印刷される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 該画素回路の集積化された電子構成部品が、少なくとも１つの薄膜トランジスタを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. ａ） 透明基板；
   ｂ） 該透明基板上に形成された少なくとも２つの色パターンを有する多色マスク；及び
   ｃ） 該透明基板上に形成された画素アレイであって、各画素が、画素電極と、ソース・ドレイン・ユニット、半導体、及びゲートを有する少なくとも１つの薄膜トランジスタとを有し、該ソース・ドレイン・ユニット、半導体、及びゲートのうちの少なくとも２つが、多色マスクの２つの異なる色パターンと垂直にアライニングされている、画素アレイ
   を含む、電子ディスプレイ。
9. 該多色マスクが、該透明基板と該画素アレイとの間にある、請求項８に記載の電子ディスプレイ。
10. 該電子ディスプレイが、多色ディスプレイ、フルカラーディスプレイ、モノクロ・ディスプレイ、又はアクティブ・バックライト・ディスプレイである、請求項８又は９に記載の電子ディスプレイ。