JP2011253839A - リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原版に形成された第1のマーク、及び、前記原版を介して前記基板の上の複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークを検出する第1の検出部と、前記原版を介さずに第2のマークを検出する第2の検出部と、前記原版のパターンを前記基板に転写するための処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記第2の検出部による前記第2のマークの検出結果の一部を統計処理して前記複数のショット領域の配列を表す統計量を求める処理と、前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記統計量から求められる前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置と、前記第2の検出部によって検出された前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置との差分を求める処理と、を行う。
【選択図】図3
Description
Claims (9)
- 原版のパターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、
前記原版に形成された第1のマーク、及び、前記原版を介して前記基板の上の複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークを検出する第1の検出部と、
前記原版を介さずに前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークを検出する第2の検出部と、
前記原版のパターンを前記基板に転写するための処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理部は、
前記第2の検出部によって前記第2のマークを検出する処理と、
前記第2の検出部による前記第2のマークの検出結果の一部を統計処理して前記複数のショット領域の配列を表す統計量を求める処理と、
前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記統計量から求められる前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置と、前記第2の検出部によって検出された前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置との差分を求める処理と、
前記第1の検出部によって前記第1のマーク及び前記第2のマークを検出して、前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記第1の検出部によって検出される前記第1のマークの位置と前記第2のマークの位置とのずれ量が対応するショット領域の前記差分となるように、前記原版と前記基板との位置関係を調整しながら、前記原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに転写する処理と、
を行うことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2の検出部は、前記第1の検出部を構成するセンサの検出特性と異なる検出特性を有する第1のセンサと、前記第1の検出部を構成するセンサの検出特性と同じ検出特性を有する第2のセンサと、を含み、
前記処理部は、
前記第2のマークを検出する処理として、前記第1のセンサ及び前記第2のセンサのそれぞれによって前記第2のマークを検出し、
前記統計量を求める処理として、前記第1のセンサの検出結果を統計処理して前記複数のショット領域の配列を表す統計量を求め、
前記差分を求める処理として、前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記統計量から求められる前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置と、前記第2のセンサによって検出された前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第2のマークの位置との差分を求めることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基板を保持する基板ステージの位置を計測する計測器を更に有し、
前記処理部は、
前記第2の検出部によって前記第2のマークを検出する際に前記計測器を用いて前記基板ステージの位置制御を行い、
前記第1の検出部によって前記第1のマーク及び前記第2のマークを検出する際に前記計測器を用いて前記基板ステージの位置制御を行い、
前記第1の検出部によって前記第1のマーク及び前記第2のマークを検出する際の前記基板ステージの位置制御の精度は、前記第2の検出部によって前記第2のマークを検出する際の前記基板ステージの位置制御の精度よりも低いことを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記計測器は、干渉計であることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記処理部は、前記原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに転写する処理として、前記基板に塗布された樹脂に前記原版を押し付けた状態で当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記原版を剥離するインプリント処理を行うことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記原版と前記基板との間の空間に予め定められた気体を供給するための供給部を更に有し、
前記供給部は、
前記処理部が前記インプリント処理を行っている間においては、前記空間へ前記気体を供給し、
前記処理部が前記第2の検出部によって前記第2のマークを検出する処理を行っている間においては、前記空間への前記気体の供給を停止することを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記処理部は、前記原版のパターンを前記複数のショット領域のそれぞれに転写する処理として、前記原版のパターンを投影光学系によって前記複数のショット領域のそれぞれに投影する露光処理を行うことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記統計量は、前記複数のショット領域のそれぞれのシフト成分、倍率成分及び回転成分の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて原版のパターンを基板に転写するステップと、
前記パターンが転写された基板を加工するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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