JP2013026288A - インプリント装置および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インプリント装置は、第1駆動機構と、第2駆動機構と、位置ずれ計測器と、制御器とを備える。第1駆動機構は、型3とインプリント材18とが互いに接触するように型保持部4及び基板保持部6の少なくとも一方を駆動軸に沿って移動させる。第2駆動機構は、複数のショット領域のいずれかが型に対して位置決めされるように型保持部及び基板保持部の少なくとも一方を移動させる。位置ずれ計測器は、型とインプリント材とが互いに接触していない状態で型マークと基板マークとを型を介して、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量を計測する。制御器は、型保持部及び基板保持部の少なくとも一方の駆動軸に沿う移動量と、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量と、該移動量の情報と、位置ずれ計測器により得られた位置ずれ量の情報とに基づいて、第2駆動機構を制御する。
【選択図】図4
Description
ΔX(Z)=ΔX(Z0)+C×(Z−Z0)・・・(1)
ΔXi=ΔX(ZI)=ΔX(Z0)+C×(ZI−Z0)・・・(2)
ΔXia=ΔX(ZIa)=ΔX(Z0a)+C×(ZIa−Z0)・・・(2a)
ΔXib=ΔX(ZIb)=ΔX(Z0b)+C×(ZIb−Z0)・・・(2b)
C=ΔXi/(ZI−Z0)・・・(3)
このときのグラフは、図5のグラフ5Cのようになる。計測点が2点のみなので、複数のショット領域の平均値を用いるなどして、計測精度を向上させる必要がある。
ΔX(Z)=ΔX(Z0)+(C+CI)×(Z−Z0)・・・(4)
以上のように、インプリントヘッドの傾斜量も加味して、インプリントヘッドのZ駆動に伴う誤差を補正することが可能で、良好なオーバーレイを実現することができる。
ΔXi=ΔX(ZI)=CI×(ZI−Z0)・・・(5)
ΔX(Z)=ΔX(Z0)+(C+{CI−C0})×(Z−Z0)・・・(6)
ΔX(Z)=ΔX(Z0)+(C’+CI)×(Z−Z0)
ここで、C’=C−C0 ・・・(7)
第1実施形態として、スコープ13を用いたグローバルアライメント方式の説明を行う。グローバルアライメント方式は、基板5上の複数のサンプルショット領域の位置を計測することで、基板5全体のショット領域の配列を算出し、このときの基準は、基板ステージ6の位置基準となる。そこで、基板ステージ6の位置計測には高精度が求められる。そのため、図2の2Bで示したような干渉計15を用いて基板ステージ6の位置を計測するのが一般的である。また、グローバルアライメント方式によって、サンプルショット領域を計測後に、インプリントヘッドの位置がXY方向にずれてしまうと、それによってオーバーレイが損なわれてしまう。そこで、干渉計16によって、インプリントヘッドのXY方向や回転方向の位置ずれを計測する方式が望ましい。干渉計16によって計測されたインプリントヘッドの位置情報は、制御器9に送られ、制御器9は、基板ステージ6の位置を補正することで、より正確なオーバーレイを実現する。
第1実施形態においては、グローバルアライメントを用いたインプリントについて述べた。本発明は、ダイバイダイアライメント方式を用いたインプリントに適用することが可能である。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)5にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを転写された基板5をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを転写された基板5を加工する他の処理を含みうる。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも一つにおいて有利である。以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変形及び変更が可能である。
Claims (10)
- 基板上のインプリント材を型により成形してパターンを形成するインプリント処理を前記基板の複数のショット領域のそれぞれに行うインプリント装置であって、
前記型を保持する型保持部と、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記型と前記インプリント材とが互いに接触するように前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方を駆動軸に沿って移動させる第1駆動機構と、
前記複数のショット領域のいずれかが前記型に対して位置決めされるように前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方を移動させる第2駆動機構と、
前記型と前記インプリント材とが互いに接触していない状態で前記型に形成された型マークと前記基板に形成された基板マークとを前記型を介して検出するスコープを含み、前記型マークと前記基板マークとの間の位置ずれ量を計測する位置ずれ計測器と、
制御器と、
を備え、
前記制御器は、前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方の前記駆動軸に沿う移動量と、前記型マークと前記基板マークとの間の位置ずれ量との間の関係の情報と、該移動量の情報と、前記位置ずれ計測器により得られた前記位置ずれ量の情報とに基づいて、前記第2駆動機構を制御する、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御器は、前記関係の情報として、前記駆動軸に対する前記スコープの光軸の傾きの情報を用いる、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記第2駆動機構により移動される前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方の位置を該少なくとも一方の側面を介して計測する位置計測器を備え、
前記制御器は、前記関係の情報として、前記側面に対する前記スコープの光軸の傾きの情報を用いる、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記型の表面と前記ショット領域の表面とが互いに平行になるように前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方を傾斜させる第3駆動機構を備え、
前記傾きの情報は、前記第3駆動機構により該少なくとも一方を傾斜させた後の前記側面に対する前記スコープの光軸の傾きの情報である、
ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。 - 前記制御器は、前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方の前記駆動軸に沿う移動量の情報と、それに対応する前記型マークと前記基板マークとの間の位置ずれ量の情報とに基づいて、前記関係を求める、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御器は、前記型保持部及び前記基板保持部の少なくとも一方の前記駆動軸に沿う移動量の情報と、それに対応する前記パターンと前記ショット領域との間の位置ずれ量の情報とに基づいて、前記関係を求める、ことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記インプリント装置が起動した場合、又は、前記スコープを移動させた場合に、前記制御器は、前記関係の情報を取得する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記型の寸法を補正する補正機構を備え、
前記制御器は、前記関係の情報と、該移動量の情報と、前記位置ずれ計測器により得られた複数対の前記型マークおよび前記基板マークそれぞれの間の位置ずれ量の情報と基づいて、前記補正機構を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記位置ずれ計測器は、前記スコープを複数含み、該複数の前記スコープは、前記型マークおよび前記基板マークの複数対をそれぞれ検出する、ことを特徴とする請求項8に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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