JP5930699B2 - インプリント装置、インプリント方法およびデバイスの製造方法 - Google Patents
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図1を用いて第1実施形態のインプリント装置について説明する。
ΔX={C0+C1−(Z−Z0)}×Tx ・・・式(1)
ここで、C0はセンサ16の設計上の高さ(Z方向の位置)、C1はセンサ16の高さの設計値からのずれ量を示す。C0は、設計値のため固定値となる。また、ZはインプリントヘッドのZ方向の位置、Z0はアッベ係数計測時のインプリントヘッドのZ方向の位置、TxはインプリントヘッドのX方向の傾斜量(Y軸まわりの回転量)を示す。ここで、Z方向(第1方向)の基準位置(原点)は、樹脂を硬化させるときのインプリントヘッドの高さとしうるが、それには限定されない。
Coef=C0+C1−(Z−Z0) ・・・式(2)
インプリントヘッド4のZ方向の高さがZ0の時にアッベ誤差を計測するため、アッベ係数Cは、C0+C1の値が計測されることになる。もちろん、C0は設計値で既知であるため、C1だけを計測するように、C0の補正をあらかじめ行った状態で、アッベ係数の計測を行ってもよい。
ΔX={C0+C1−(Z−Z0)+(M−M0)}×Tx ・・・式(3)
ここで、Mは現在のモールドの厚み、M0はインプリントヘッドのZ方向の高さがZ0でアッベ係数を計測した際のモールドの厚みを示している。記号が式(1)と同じものについては説明を省略する。
第1実施形態では、グローバルアライメントを用いたインプリント方法について述べた。本実施形態では、ダイバイダイアライメントを用いたインプリント方法について説明する。
デバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを転写された基板をエッチングする工程を含みうる。
4 インプリントヘッド
6 ウエハステージ(基板ステージ)
9 制御部
15 センサ(ウエハステージ検出部)
16 センサ(インプリントヘッド検出部)
Claims (7)
- 基板上のインプリント材に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記型を保持し、前記インプリント材に前記型を接触させるように第1方向に移動可能で且つ該第1方向に直交する面に対して前記型を傾けることが可能な型保持部と、
前記型保持部の前記第1方向における位置を検出する第1検出部と、
前記型保持部の前記第1方向に直交する第2方向における位置を検出する第2検出部と、
前記型保持部の傾きを検出する傾き検出部と、
前記基板保持部の前記第2方向における位置を検出する位置検出部と、
前記基板保持部を前記第2方向に移動させる駆動部と、
前記位置検出部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記型保持部の前記第2方向における位置を前記第1方向における複数の位置で検出する場合に前記第2検出部の検出結果に生じる前記第1方向における位置毎のアッベ誤差を補正するための補正情報を保持し、前記第1検出部の検出結果と前記第2検出部の検出結果と前記傾き検出部の検出結果と前記位置検出部の検出結果と前記補正情報とに基づいて、前記駆動部を制御することにより前記基板保持部の前記第2方向における位置を制御することを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記基板と前記型との位置合わせがなされるように前記駆動部を制御することにより前記基板保持部の前記第2方向における位置を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記アッベ誤差を補正するための前記補正情報と前記型保持部の傾きとに基づいて前記第2検出部のアッベ誤差を求め、該アッベ誤差で前記第2検出部の検出結果を補正する、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記型保持部の前記第1方向における位置および前記型の厚みに基づく前記アッベ誤差を補正する前記補正情報を保持する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 基板保持部に保持された基板上のインプリント材に型を接触させるように第1方向に移動可能で且つ該第1方向に直交する面に対して前記型を傾けることが可能な型保持部に保持された前記型を用いて、前記基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント方法であって、
前記型保持部の前記第1方向に直交する第2方向における位置を検出する第1の検出を行い、
前記型保持部の傾きを検出する第2の検出を行い、
前記型保持部の前記第1方向における位置を検出する第3の検出を行い、
前記型保持部の前記第2方向における位置を前記第1方向における複数の位置で検出する場合に前記第2の検出の結果に生じる前記第1方向における位置毎のアッベ誤差を補正するための補正情報と前記第1乃至第3の検出の結果とに基づいて、前記基板と前記型の位置合わせを行うことを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のインプリント装置を用いて基板上のインプリント材にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを転写された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のインプリント装置を用いて基板上のインプリント材にパターンを形成する工程、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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