JP6478635B2 - インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態におけるインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するリソグラフィ装置である。インプリント装置100は、モールドと基板上のインプリント材とを接触させた状態でインプリント材を硬化させ、硬化したインプリント材からモールドを引き離すことで基板上にパターンを形成するインプリント処理を行う。本実施形態では、インプリント材として紫外線を照射することで硬化する紫外線硬化性の樹脂を用いる場合について説明するが、インプリント材は、熱可塑性又は熱硬化性の樹脂であってもよい。
図8は、本発明の第2の実施形態におけるインプリント装置100Aの構成を示す概略図である。インプリント装置100Aは、インプリント装置100の構成に加えて、第1計測部81と、第2計測部82とを有する。第1計測部81は、モールドチャック3及びモールドステージ4(第1保持部)に保持されたモールドMの傾き(3次元的な平坦度)を計測する。第2計測部82は、基板チャック1及び基板ステージ2(第2保持部)に保持された基板Wの傾き(3次元的な平坦度)を計測する。
物品としてのデバイス(半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等)の製造方法について説明する。かかる製造方法は、インプリント装置100又は100Aを用いてパターンを基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)に形成する工程を含む。かかる製造方法は、パターンを形成された基板を処理する工程を更に含む。当該処理ステップは、当該パターンの残膜を除去するステップを含みうる。また、当該パターンをマスクとして基板をエッチングするステップなどの周知の他のステップを含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (10)
- 基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドと前記基板とを相対的に傾斜させる傾斜部と、
前記モールドで反射された光と前記基板で反射された光との干渉パターンを検出する検出部と、
前記モールドと前記基板上のインプリント材とが接触している状態において前記検出部によって検出された干渉パターンに基づいて、前記状態における前記モールドと前記基板との間の相対的な傾きが低減されるように、前記傾斜部を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記干渉パターンから前記モールドのパターンが存在する領域の端を検出することによって、前記領域における前記干渉パターンの相対的な位置を特定し、前記干渉パターンの相対的な位置に基づいて前記モールドと前記基板とを相対的に傾斜させることを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記モールドのパターンが存在する領域の中心と前記干渉パターンの中心との間の距離が低減されるように、前記傾斜部を制御することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記傾きが5マイクロラジアン以下になるように、前記傾斜部を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記モールドのパターンが存在する領域における前記干渉パターンの位置に基づいて、前記傾きの値を求めることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記モールドのパターンが存在する領域における前記干渉パターンの位置と、前記モールドと前記基板との間の相対的な傾きとの関係を示す情報を参照して、前記傾きの値を求めることを特徴とする請求項4に記載のインプリント装置。
- 前記状態において前記傾斜部によって傾斜させた前記モールドと前記基板との間の相対的な傾き量を示す情報を記憶する記憶部を更に有し、
前記制御部は、前記記憶部に情報が記憶されている場合には、当該情報に基づいて、前記傾斜部を制御することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記記憶部は、前記基板のショット領域ごとに、前記傾き量を示す情報を記憶することを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。
- 前記モールドを保持する第1保持部と、
前記基板を保持する第2保持部と、
前記第1保持部に保持された前記モールドの傾きを計測する第1計測部と、
前記第2保持部に保持された前記基板の傾きを計測する第2計測部と、
を更に有し、
前記制御部は、前記第1計測部及び前記第2計測部の計測結果に基づいて、前記モールドと前記基板上のインプリント材とを接触させる前の状態における前記モールドと前記基板との間の相対的な傾きが低減されるように、前記傾斜部を制御することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 基板上のインプリント材にモールドを用いてパターンを形成するインプリント方法であって、
前記モールドと前記基板上のインプリント材とが接触している状態において、前記モールドで反射された光と前記基板で反射された光との干渉パターンを検出する工程と、
前記干渉パターンに基づいて、前記状態における前記モールドと前記基板との間の相対的な傾きが低減されるように、前記モールドと前記基板とを相対的に傾斜させる工程と、
を有し、
前記モールドと前記基板とを相対的に傾斜させる工程では、前記干渉パターンから前記モールドのパターンが存在する領域の端を検出することによって、前記領域における前記干渉パターンの相対的な位置を特定し、前記干渉パターンの相対的な位置に基づいて前記モールドと前記基板とを相対的に傾斜させることを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015000513A JP6478635B2 (ja) | 2015-01-05 | 2015-01-05 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
US14/978,559 US10315344B2 (en) | 2015-01-05 | 2015-12-22 | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article |
KR1020150184585A KR102026503B1 (ko) | 2015-01-05 | 2015-12-23 | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 |
CN201610007113.3A CN105759566B (zh) | 2015-01-05 | 2016-01-05 | 压印装置、压印方法以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015000513A JP6478635B2 (ja) | 2015-01-05 | 2015-01-05 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016127168A JP2016127168A (ja) | 2016-07-11 |
JP6478635B2 true JP6478635B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=56286000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015000513A Active JP6478635B2 (ja) | 2015-01-05 | 2015-01-05 | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10315344B2 (ja) |
JP (1) | JP6478635B2 (ja) |
KR (1) | KR102026503B1 (ja) |
CN (1) | CN105759566B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5860678B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2016-02-16 | オリンパス株式会社 | 光学素子の製造方法、及び、光学素子の製造装置 |
US10866510B2 (en) * | 2017-07-31 | 2020-12-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Overlay improvement in nanoimprint lithography |
JP7150535B2 (ja) | 2018-09-13 | 2022-10-11 | キヤノン株式会社 | 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法 |
JP7451141B2 (ja) * | 2019-10-30 | 2024-03-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6873087B1 (en) * | 1999-10-29 | 2005-03-29 | Board Of Regents, The University Of Texas System | High precision orientation alignment and gap control stages for imprint lithography processes |
EP2264522A3 (en) | 2000-07-16 | 2011-12-14 | The Board of Regents of The University of Texas System | Method of forming a pattern on a substrate |
JP4721393B2 (ja) * | 2003-08-15 | 2011-07-13 | キヤノン株式会社 | 近接場露光方法 |
JP2005101201A (ja) | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Canon Inc | ナノインプリント装置 |
JP2005101313A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Canon Inc | 微細パターン形成装置 |
JP2007299994A (ja) | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Canon Inc | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
US7576832B2 (en) * | 2006-05-04 | 2009-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2008141087A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Canon Inc | 近接場露光方法、近接場露光装置 |
US8945444B2 (en) * | 2007-12-04 | 2015-02-03 | Canon Nanotechnologies, Inc. | High throughput imprint based on contact line motion tracking control |
JP5666082B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2015-02-12 | 東芝機械株式会社 | 転写装置およびプレス装置 |
JP5539011B2 (ja) * | 2010-05-14 | 2014-07-02 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、検出装置、位置合わせ装置、及び物品の製造方法 |
JP5247777B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2013-07-24 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびデバイス製造方法 |
JP6039222B2 (ja) | 2011-05-10 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法 |
JP6004738B2 (ja) | 2011-09-07 | 2016-10-12 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP5645805B2 (ja) | 2011-12-12 | 2014-12-24 | 株式会社タカギ | 散水ノズル |
JP5930699B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法およびデバイスの製造方法 |
-
2015
- 2015-01-05 JP JP2015000513A patent/JP6478635B2/ja active Active
- 2015-12-22 US US14/978,559 patent/US10315344B2/en active Active
- 2015-12-23 KR KR1020150184585A patent/KR102026503B1/ko active IP Right Grant
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2016
- 2016-01-05 CN CN201610007113.3A patent/CN105759566B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105759566A (zh) | 2016-07-13 |
JP2016127168A (ja) | 2016-07-11 |
KR20160084295A (ko) | 2016-07-13 |
US20160193758A1 (en) | 2016-07-07 |
KR102026503B1 (ko) | 2019-09-27 |
CN105759566B (zh) | 2020-01-10 |
US10315344B2 (en) | 2019-06-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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