JP6053266B2 - インプリント装置、物品の製造方法及びインプリント方法 - Google Patents
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Description
P02X’=P02X02+E0
:
:
P09X’=P09X02+E09X
P01Y’=P01Y02+E01Y
P02Y’=P02Y02+E02Y
:
:
P09Y’=P09Y02+E09Y
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したインプリント装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)にパターンを形成する工程を含む。更に、かかる製造方法は、パターンを形成された基板をエッチングする工程を含む。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、かかる製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを形成された基板を加工する他の処理を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (9)
- 基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記基板上に形成されたターゲットレイヤを位置合わせの基準として、前記基板上に所定レイヤを形成するための前記インプリント処理を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記ターゲットレイヤにおけるショット領域の形状と、前記ターゲットレイヤより上に形成された中間レイヤにおけるショット領域の形状との差分の情報を取得し、前記中間レイヤの形成に用いられた型の形状と前記差分とに基づいて、前記所定レイヤのために用意された複数の型から、前記ターゲットレイヤと前記所定レイヤとの間のオーバーレイ誤差が許容範囲内となる型の選択を行う、ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記型を変形させる変形機構を更に有し、
前記制御部は、前記複数の型をそれぞれ前記変形機構によって変形させた形状に基づいて、前記型の選択を行う、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記所定レイヤは、前記中間レイヤの直上に形成されるレイヤである、ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記基板上に形成されたターゲットレイヤを位置合わせの基準として、前記基板上に所定レイヤを形成するための前記インプリント処理を制御する制御部を有し、
前記制御部は、前記所定レイヤのために用意された複数の型から、前記複数の型それぞれの、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分と、前記ターゲットレイヤを形成するのに使用された型の、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分又は前記ターゲットレイヤを形成するのに使用された型で形成されたパターンの、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分との差に基づいて、前記ターゲットレイヤと前記所定レイヤとの間のオーバーレイ誤差が許容範囲内となるように前記所定レイヤのために使用する型を選択する、ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記型を変形させる変形機構を更に有し、
前記制御部は、前記複数の型をそれぞれ前記変形機構によって変形させた形状に基づいて、前記型の選択を行う、ことを特徴とする請求項4に記載のインプリント装置。 - 前記所定レイヤは、前記ターゲットレイヤの直上に形成されるレイヤである、ことを特徴とする請求項4又は5に記載のインプリント装置。
- 請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント方法であって、
前記基板上に形成されたターゲットレイヤを位置合わせの基準として、前記基板上に所定レイヤを形成するための前記インプリント処理を行い、
前記インプリント処理においては、前記ターゲットレイヤにおけるショット領域の形状と、前記ターゲットレイヤより上に形成された中間レイヤにおけるショット領域の形状との差分の情報を取得し、前記中間レイヤの形成に用いられた型の形状と前記差分とに基づいて、前記所定レイヤのために用意された複数の型から、前記ターゲットレイヤと前記所定レイヤとの間のオーバーレイ誤差が許容範囲内となる型の選択を行う、ことを特徴とするインプリント方法。 - 基板上のインプリント材を型により成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント方法であって、
前記基板上に形成されたターゲットレイヤを位置合わせの基準として、前記基板上に所定レイヤを形成するための前記インプリント処理を行い、
前記インプリント処理においては、前記所定レイヤのために用意された複数の型から、前記複数の型それぞれの、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分と、前記ターゲットレイヤを形成するのに使用された型の、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分又は前記ターゲットレイヤを形成するのに使用された型で形成されたパターンの、その中の複数の位置それぞれに関する形状のランダム成分との差に基づいて、前記ターゲットレイヤと前記所定レイヤとの間のオーバーレイ誤差が許容範囲内となるように前記所定レイヤのために使用する型を選択する、ことを特徴とするインプリント方法。
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