JP2011246341A - シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 - Google Patents
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 150
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 150
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 150
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 110
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 152
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims abstract description 110
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 64
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 45
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 15
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000007770 graphite material Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/20—Controlling or regulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/20—Controlling or regulating
- C30B15/22—Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal
- C30B15/26—Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal using television detectors; using photo or X-ray detectors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/1068—Seed pulling including heating or cooling details [e.g., shield configuration]
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】シリコン単結晶引き上げ装置10は、チャンバ11内においてシリコン融液を支持するルツボ12と、ルツボ12内のシリコン融液を加熱するヒータと、ルツボの上方に配置された熱輻射シールド16と、熱輻射シールド16の内側に設けられた不活性ガスの整流する略円筒状のパージチューブ17と、シリコン融液1の液面に映る熱輻射シールド16の鏡像をパージチューブ越しに撮影するCCDカメラ18と、熱輻射シールド16の鏡像の位置からシリコン融液の液面レベルを算出する液面レベル算出部31と、シリコン融液の液面レベルと鏡像の位置との関係を示す換算テーブルを作成する換算テーブル作成部32とを備え、液面レベル算出部31は、換算テーブルに基づいて液面レベルを算出する。
【選択図】図1
Description
2 シリコン単結晶
10 シリコン単結晶引き上げ装置
11 チャンバ
11a 覗き窓
12 ルツボ
13 石英ルツボ
14 グラファイトサセプタ
15 ヒータ
16 熱輻射シールド
16a シールド本体
16b 内側フランジ部
16c 外側フランジ部
16d 外側円筒部
17 パージチューブ
17a 平坦面
18 CCDカメラ
19 ヒートシールド
20 断熱体
21 シャフト
22 シャフト駆動機構
23 シードチャック
24 ワイヤ
25 ワイヤ巻き取り機構
26 ガス導入口
27 ガス排出口
28,29 バルブ
30 制御部
31 液面レベル算出部
32 換算テーブル作成部
Claims (6)
- 不活性ガスが導入されるチャンバと、
前記チャンバ内においてシリコン融液を支持するルツボと、
前記ルツボ内の前記シリコン融液を加熱するヒータと、
前記ルツボを昇降駆動する昇降駆動手段と、
前記ルツボの上方に配置された筒状の熱輻射シールドと、
前記熱輻射シールドの内側に設けられた前記不活性ガスを整流する略円筒状のパージチューブと、
前記シリコン融液の液面に映る前記熱輻射シールドの鏡像を前記パージチューブ越しに撮影するカメラと、
前記カメラによって撮影された前記鏡像の位置から前記シリコン融液の液面レベルを算出する液面レベル算出部と、
単結晶引き上げ開始前に前記ルツボを昇降させて前記シリコン融液の液面レベルを任意に変化させたときの当該液面レベルと前記鏡像の位置との関係を示す換算テーブルを作成する換算テーブル作成部とを備え、
前記液面レベル算出部は、前記カメラによって撮影された前記鏡像の位置及び前記換算テーブルに基づいて前記液面レベルを算出することを特徴とすることを特徴とするシリコン単結晶引き上げ装置。 - 前記液面レベル算出部は、前記カメラによって撮影された鏡像内の複数の測定点から前記シリコン融液の液面レベルを算出し、
前記換算テーブル作成部は、前記複数の位置に基づいて換算テーブルを作成することを特徴とする請求項1に記載のシリコン単結晶引き上げ装置。 - 前記パージチューブは、前記カメラの光軸との交点を含む一部の領域に形成された平坦面を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のシリコン単結晶引き上げ装置。
- 前記液面レベル算出部によって算出された液面レベルに基づいて前記昇降駆動手段を制御して前記ルツボの高さを制御することにより、前記熱輻射シールドに対する前記液面レベルを制御する制御手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のシリコン単結晶引き上げ装置。
- 前記カメラは、前記パージチューブが光軸上に介在しない状態で前記鏡像を撮影し、
前記換算テーブル作成部は、単結晶引き上げ開始前に前記ルツボを昇降させて前記シリコン融液の液面レベルを任意に変化させたときの当該液面レベルと、前記パージチューブが介在しない状態における前記鏡像の位置との関係を示す換算テーブルを作成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のシリコン単結晶引き上げ装置。 - チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法であって、
単結晶引き上げ開始前には、ルツボの高さを変えながら前記ルツボ内のシリコン融液の液面をパージチューブ越しに撮影して得た画像から前記シリコン融液の液面に映る熱輻射シールドの鏡像の位置と液面レベルとの関係を示す換算テーブルを作成し、
単結晶引き上げ中には、前記シリコン融液の液面に映る熱輻射シールドの鏡像を前記パージチューブ越しに撮影し、前記換算テーブルを用いて前記鏡像の位置から液面レベルを算出し、当該液面レベルに基づいてルツボの高さを制御することを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011085982A JP5708171B2 (ja) | 2010-04-26 | 2011-04-08 | シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010101412 | 2010-04-26 | ||
JP2010101412 | 2010-04-26 | ||
JP2011085982A JP5708171B2 (ja) | 2010-04-26 | 2011-04-08 | シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011246341A true JP2011246341A (ja) | 2011-12-08 |
JP5708171B2 JP5708171B2 (ja) | 2015-04-30 |
Family
ID=44814687
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011085982A Active JP5708171B2 (ja) | 2010-04-26 | 2011-04-08 | シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8871023B2 (ja) |
JP (1) | JP5708171B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8871023B2 (en) | 2014-10-28 |
US20110259260A1 (en) | 2011-10-27 |
JP5708171B2 (ja) | 2015-04-30 |
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