JP2011108328A - 熱アシスト記録用磁気記録媒体に用いられるAg合金熱拡散制御膜、及び磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の熱アシスト記録用磁気記録媒体に用いられる熱拡散制御膜は、Agを主成分とするAg合金から構成されており、表面粗さRa1.0nm以下、熱伝導率100W/(m・K)以上、熱拡散率4.0×10-5m2/sec以上を満足する。
【選択図】なし
Description
NdおよびYは、表面平滑性向上に寄与すると共に、耐熱性向上作用も有している。これらの元素は単独で添加しても良いし、併用しても良い。これらのうち好ましいのはNdである。
BiもNdと同様、表面平滑性向上作用および耐熱性向上作用を有している。詳細には、Biは、NdやYに比べて表面平滑性向上効果は少ないが、耐熱性向上効果が大きい元素である。Biが0.05原子%未満では、上記作用が有効に発揮されず、一方、0.5原子%を超えると、熱伝導率および熱拡散率が大きく低下する。Biの好ましい含有量は、0.05原子%以上0.4原子%以下であり、より好ましくは0.05原子%以上0.3原子%以下である。
Cuは、Ag合金薄膜の結晶粒径を微細化し、表面平滑性向上作用を有する。Cu量が0.2原子%未満では、上記作用が有効に発揮されず、一方、Cu量が1.0原子%を超えると、熱伝導率および熱拡散率が大きく低下する。Cuの好ましい含有量は、0.4原子%以上1.0原子%以下であり、より好ましくは0.5原子%以上0.8原子%以下である。
本実施例では、Ag合金薄膜の組成が、熱伝導率、熱拡散率、および表面平滑性(Ra)に及ぼす影響を調べた。
熱伝導率は、4端子法を用いて測定した薄膜の電気抵抗率から換算した。
Raは、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope、AFM)を用い、3μm×3μmのエリアの測定値から算出した。測定は、成膜直後の薄膜、および200℃×10分の真空熱処理後の薄膜のそれぞれについて行った。
本実施例では、ガラス基板上に種々のAg合金薄膜を作製し、成膜後及び熱処理後の表面形状を走査型反射電子顕微鏡(SEM)で観察した。
本実施例では、本発明の要件を満足するAg−0.14原子%Bi−0.2原子%Nd薄膜を用い、成膜時のArガス圧および膜厚が表面粗度(Ra)に及ぼす影響を調べた。
前述した実施例1において、Arガス圧を図3に示すように2〜10mTorrの範囲で変化させた(Ag合金薄膜の膜厚=200nm)ときの表面粗さRaを、前述した実施例1と同様にして測定した。これらの結果を図3に示す。
前述した実施例1において、スパッタ時間を変えることによってAg合金薄膜の膜厚を図4に示すように10〜150nmの間で変化させた(Arガス圧=2mTorr)ときの表面粗さRaを、前述した実施例1と同様にして測定した。これらの結果を図4に示す。
Claims (5)
- 熱アシスト記録用磁気記録媒体に用いられる熱拡散制御膜であって、Agを主成分とするAg合金から構成されており、表面粗さRa1.0nm以下、熱伝導率100W/(m・K)以上、熱拡散率4.0×10-5m2/sec以上を満足することを特徴とするAg合金熱拡散制御膜。
- 前記Ag合金は、Ndおよび/またはYを0.05〜0.8原子%、並びにBiを0.05〜0.5原子%含有する請求項1に記載のAg合金熱拡散制御膜。
- 前記Ag合金は、更にCuを0.2〜1.0原子%含有する請求項2に記載のAg合金熱拡散制御膜。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のAg合金熱拡散制御膜を備えた熱アシスト記録用磁気記録媒体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のAg合金熱拡散制御膜の作製に用いられるスパッタリングターゲットであって、Ndおよび/またはYを0.05〜0.8原子%、並びにBiを0.05〜0.5原子%含有するAg−Nd/Y−Bi合金であるか;または、更にCuを0.2〜1.0原子%含有するAg−Nd/Y−Bi−Cu合金であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
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