JP6180755B2 - 磁気記録用Cr合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれらを用いた垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
(1)at.%で、Al,Ti,Mo,W,V,Ruからなる元素の内の1種または2種以上の元素を合計で式1のaの値が2.919Å以上3.037Å以下となる量を含有し、B,C,P,Si,Snからなる元素の内の1種または2種以上の元素を合計で0.1〜3%含有し、残部Crおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用Cr合金。
a3 =Σ(m n A n )/ρN ‥‥ (式1)
但し、a:格子定数
N:アボガドロ数
ρ:計算密度(g/cm3 )
m:単位格子中に存在する元素の個数
A:原子量
(3)前記(1)または(2)に記載の磁気記録用合金を用いた垂直磁気記録媒体にある。
MgO(001)とミスマッチが小さい格子定数かつ、微細で均一な結晶粒分布をもつBCC構造のCr系合金組成について検討したところ、Crを固溶する(M)群元素であるAl,Ti,Mo,W,V,Ruの内の1種または2種以上を適量添加することで、格子定数を2.919Å以上3037Å以下にすることができる。また、(X)群元素B,C,P,Si,Snからなる元素の内の1種または2種以上を微量添加することで、BCC構造を保ちつつ結晶粒を微細で均一に制御できることを見え出した。
(M)群元素であるAl,Ti,Mo,W,V,Ruの添加量について
Crは格子定数2.880Åで、そのルート2倍の値4.072ÅはMgOの格子定数4.211Åに対し、−3.3%のミスマッチがある。そこでCrに元素M(Al,Ti,Mo,W,V,Ru)を適量添加することでBCC構造を維持しつつ、格子定数をミスマッチが±2.0%以内となる2.919Å以上3.037Å以下にすることができる。
Al:9.3〜43.4%
Ti:7.5〜35.4%
Mo:11.7〜55.4%
W:11.2〜52.4%
V:22.8〜94.0%
Ru:24.5〜32.0%
上記元素は、Crにほとんど固溶せず、Crと化合物を作る元素で、添加することで結晶粒の微細化および粒径の均一化効果がある。よって、最適な添加量として0.1%から5%の範囲とした。0.1%より少ない添加量では添加効果が見られず、逆に5%より多い添加量では、化合物が顕著に生成し、BCC単相が得られない。
表1に示す組成で純金属(純度3N以上)原料粉末を混合し、HIP成形(熱間等方圧プレス)の原料粉末として用いた。混合は、V型混合機を使用した。HIP成形用ビレットは、直径200mm、長さ10mmの炭素鋼製缶に原料粉末を充填したのち、真空脱気、封入し作製した。この粉末充填ビレットを、温度1050℃、圧力120MPa、保持時間2時間の条件でHIP成形した。その後、成形体から直径95mm、厚さ2mmの軟磁性合金スパッタリングターゲット材を作製した。このスパッタリングターゲット材を用い密着層薄膜をガラス基板上に作製した。チャンバー内を1×10-4Pa以下に真空排気し、純度99.99%のArガスを0.6Pa投入しスパッタを行なった。まず、洗浄したガラス基板上に20nmのCr合金層を成膜した。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (3)
- at.%で、Al,Ti,Mo,W,V,Ruからなる元素の内の1種または2種以上の元素を合計で式1のaの値が2.919Å以上3.037Å以下となる量を含有し、B,C,P,Si,Snからなる元素の内の1種または2種以上の元素を合計で0.1〜3%含有し、残部Crおよび不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用Cr合金。
a3 =Σ(m n A n )/ρN ‥‥ (式1)
但し、a:格子定数
N:アボガドロ数
ρ:計算密度(g/cm3 )
m:単位格子中に存在する元素の個数
A:原子量 - 請求項1に記載の磁気記録用合金からなるスパッタリングターゲット材。
- 請求項1または2項に記載の磁気記録用合金を用いた垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013034228A JP6180755B2 (ja) | 2013-02-25 | 2013-02-25 | 磁気記録用Cr合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれらを用いた垂直磁気記録媒体 |
MYPI2015702571A MY170548A (en) | 2013-02-25 | 2014-02-17 | Cr alloy and sputtering target material for magnetic recording, and perpendicular magnetic recording medium using the same |
PCT/JP2014/053652 WO2014129423A1 (ja) | 2013-02-25 | 2014-02-17 | 磁気記録用Cr合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれらを用いた垂直磁気記録媒体 |
SG10201705531QA SG10201705531QA (en) | 2013-02-25 | 2014-02-17 | Cr ALLOY AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR MAGNETIC RECORDING, AND PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME |
CN201480010235.7A CN105027203B (zh) | 2013-02-25 | 2014-02-17 | 用于磁性记录的Cr合金和溅射靶材以及使用其的垂直磁性记录介质 |
SG11201505973XA SG11201505973XA (en) | 2013-02-25 | 2014-02-17 | Cr ALLOY AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR MAGNETIC RECORDING, AND PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME |
TW103105844A TWI615836B (zh) | 2013-02-25 | 2014-02-21 | 磁記錄用Cr合金及濺鍍用靶材以及使用它們之垂直磁記錄媒體 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013034228A JP6180755B2 (ja) | 2013-02-25 | 2013-02-25 | 磁気記録用Cr合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれらを用いた垂直磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014164780A JP2014164780A (ja) | 2014-09-08 |
JP6180755B2 true JP6180755B2 (ja) | 2017-08-16 |
Family
ID=51391215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013034228A Active JP6180755B2 (ja) | 2013-02-25 | 2013-02-25 | 磁気記録用Cr合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれらを用いた垂直磁気記録媒体 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6180755B2 (ja) |
CN (1) | CN105027203B (ja) |
MY (1) | MY170548A (ja) |
SG (2) | SG11201505973XA (ja) |
TW (1) | TWI615836B (ja) |
WO (1) | WO2014129423A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6814758B2 (ja) * | 2018-02-19 | 2021-01-20 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット |
RU201611U1 (ru) * | 2019-12-06 | 2020-12-23 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) | Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100601938B1 (ko) * | 2004-01-09 | 2006-07-14 | 삼성전자주식회사 | Co계 수직자기기록매체 |
JP2005235358A (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JP4510796B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2010-07-28 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体の製造方法 |
JP4782047B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2011-09-28 | 昭和電工株式会社 | 垂直磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
JP2009032356A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Showa Denko Kk | 垂直磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
JP5412216B2 (ja) * | 2009-09-07 | 2014-02-12 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP5617112B2 (ja) * | 2010-01-14 | 2014-11-05 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP5506604B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2014-05-28 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP5730047B2 (ja) * | 2011-02-02 | 2015-06-03 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
-
2013
- 2013-02-25 JP JP2013034228A patent/JP6180755B2/ja active Active
-
2014
- 2014-02-17 MY MYPI2015702571A patent/MY170548A/en unknown
- 2014-02-17 CN CN201480010235.7A patent/CN105027203B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-02-17 SG SG11201505973XA patent/SG11201505973XA/en unknown
- 2014-02-17 WO PCT/JP2014/053652 patent/WO2014129423A1/ja active Application Filing
- 2014-02-17 SG SG10201705531QA patent/SG10201705531QA/en unknown
- 2014-02-21 TW TW103105844A patent/TWI615836B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105027203A (zh) | 2015-11-04 |
CN105027203B (zh) | 2018-04-06 |
SG11201505973XA (en) | 2015-08-28 |
TWI615836B (zh) | 2018-02-21 |
JP2014164780A (ja) | 2014-09-08 |
SG10201705531QA (en) | 2017-08-30 |
MY170548A (en) | 2019-08-16 |
TW201503120A (zh) | 2015-01-16 |
WO2014129423A1 (ja) | 2014-08-28 |
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A621 | Written request for application examination |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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|
A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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