RU201611U1 - Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок - Google Patents

Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок Download PDF

Info

Publication number
RU201611U1
RU201611U1 RU2019140289U RU2019140289U RU201611U1 RU 201611 U1 RU201611 U1 RU 201611U1 RU 2019140289 U RU2019140289 U RU 2019140289U RU 2019140289 U RU2019140289 U RU 2019140289U RU 201611 U1 RU201611 U1 RU 201611U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
magnetron
solid composite
composite films
deposition
films
Prior art date
Application number
RU2019140289U
Other languages
English (en)
Inventor
Виктор Иванович Шаповалов
Александр Андреевич Козин
Дмитрий Сергеевич Шестаков
Original Assignee
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) filed Critical Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)
Priority to RU2019140289U priority Critical patent/RU201611U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU201611U1 publication Critical patent/RU201611U1/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок MoxCr1-xN при 0 < x < 0.3 относится к устройствам, используемым в электронике, оптоэлектронике, архитектуре, автомобилестроении и др. Блок содержит мишень, размещенную в реактивной среде, состоящей из плазмообразующего газа аргона и азота, выполненную из двух металлических пластин, расположенных на одной оси с магнетроном параллельно друг другу и жестко прикрепленных к нему, причем внутренняя пластина выполнена охлаждаемой и изготовлена из молибдена, а внешняя - из хрома и в зоне ее эрозии изготовлены прорези, расположенные симметрично относительно ее центра. Достигаемым техническим результатом является создание блока магнетрона, позволяющего синтезировать твердые композиционные пленки MoxCr1-xN с непрерывным изменением стехиометрического коэффициента х, которое обеспечивает плавное изменение твердости.

Description

Синтез пленок нитридов переходных металлов обычно выполняют методами реактивного магнетронного распыления. Типичный планарный магнетронный источник содержит металлическую мишень, магнитную систему, корпус и систему охлаждения. Работая в среде аргона и азота, он дает возможность синтезировать пленку одиночного нитрида.
Для синтеза твердых композиционных пленок, содержащих два нитрида, обычно применяют несколько магнетронов с эффективно охлаждаемыми мишенями из разных металлов, которые расположены рядом друг с другом.
Общим недостатком таких магнетронов является трудность синтеза пленок с непрерывным изменением стехиометрического коэффициента х, которое обеспечивает плавное изменение твердости.
В настоящее время широко изучают и используют пленки нитрида хрома CrN [Hones P., Martin N., Regula M. et al. Structural and mechanical properties of chromium nitride, molybdenum nitride, and tungsten nitride thin films // J. Phys. D: Appl. Phys. 2003. V. 36. P. 1023-1029]. Их практическая значимость обусловлена высокой твердостью (до 15 ГПа), термической стабильностью, хорошей износостойкостью, а также превосходной устойчивостью к коррозии. Их широко используют для повышения производительности и срока службы обрабатывающих инструментов [Khan S., Mahmood A., Shah A. et al. Structural and optical analysis of Cr2N thin films prepared by DC magnetron sputtering // Intern. J. Minerals, Metallurgy and Materials. 2015. V. 22. P. 197-202.]. Однако свойства пленок CrN быстро деградирует из-за окисления при высокоскоростной обработке и температуре, превышающей 700°С.
Для преодоления этих проблем создают многослойные гетероструктуры типа MoN/CrN, в которых интегральная твердость покрытия повышается до 20-22 ГПа [Bouaouinaa В., Besnardb A., Abaidiaa S.E. et al. Residual stress, mechanical and microstructure properties ofmultilayer Mo2N/CrN coating produced by R.F Magnetron discharge // Appl. Sur. Sci. 2017. V. 395. P. 117-121]. В то время как твердость одиночных пленок нитрида молибдена MoN не превышает 18 ГПа [Wang J., Munroe P., Zhou Z. et al. Nanostructured molybdenum nitride-based coatings: Effect of nitrogen concentration on microstructure and mechanical properties // Thin Solid Films. 2019. V. 682. P. 82-92].
Наиболее действенным способом увеличения твердости пленок CrN является создание на их основе твердого раствора из двух нитридов. Такой композит, содержащий CrN и какое-то количество нитрида, например, молибдена (MoN) [KlimashinF. F., RiedlH., PrimetzhoferD: Composition driven phase evolution and mechanical properties of Mo-Cr-N hard coatings // J. Appl. Phys. 2015. V. 118. P. 025305] обычно рассматривают как твердый раствор замещения двух нитридов с химическим составом MoxCr1-xN при 0<x<0.3. Молибден наиболее эффективен в этих задачах. В некоторых работах показано, что композитные пленки в химической системе Cr-Mo-N могут достигать сверхтвердости (более 40 ГПа). Предлагаемый блок относится к устройствам, используемым для изготовления, твердых композиционных пленок MoxCr1-xN при 0<х<0.3.
Наиболее близким к заявляемой полезной модели по совокупности существенных признаков, является магнетрон с распыляемым блоком, описанный в патенте, взятым за прототип [патент РФ №2699702].
В известном устройстве распыляемый блок для осаждения пленок твердых растворов TixWi1-xO3 реализован на базе цилиндрического магнетрона и содержит мишень, размещенную в реактивной среде, состоящую из плазмообразующего газа аргона и кислорода, мишень выполнена из двух металлических пластин, расположенных на одной оси с магнетроном параллельно друг другу и жестко прикрепленных к нему, причем внутренняя пластина, выполненная охлаждаемой, изготовлена из титана, а внешняя изготовлена из вольфрама и в зоне ее эрозии выполнены прорези, расположенные симметрично относительно ее центра.
Задача, на решение которой направлена заявляемая полезная модель, является создание блока магнетрона, позволяющего синтезировать твердые композиционные пленки MoxCr1-xNc непрерывным изменением стехиометрического коэффициента х в диапазоне 0<х<0.3, которое обеспечивает плавное изменение твердости.
Данная задача решается за счет того, что распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок MoxCr1-xN, так же, как в известном устройстве, содержит мишень, размещенную в реактивной среде азота. Мишень выполнена из двух металлических пластин, расположенных на одной оси с магнетроном и жестко прикрепленных к нему. Внутренняя пластина выполнена охлаждаемой, а в зоне эрозии внешней пластины выполнены прорези, расположенные симметрично относительно ее центра. Но, в отличие от известного устройства, в предлагаемом устройстве внутренняя пластина выполнена из молибдена, внешняя - из хрома.
Достигаемым техническим результатом является расширение номенклатуры распылительных блоков, позволяющих синтезировать твердые композиционные растворы.
Сущность полезной модели поясняется чертежами, где:
фиг. 1 - конструкция блока магнетрона;
фиг. 2 - зависимости потоков нитридов JMoNsp и JCrNtot, которые генерируют внутренняя молибденовая и внешняя хромовая пластины, от относительной суммарной площади прорезей α;
фиг. 3 - зависимость стехиометрического коэффициента х в пленке MoxCr1-xN от относительной суммарной площади прорезей α;
фиг. 4 - зависимость твердости пленки MoxCr1-xN от стехиометрического коэффициента х;
фиг. 5 - зависимость твердости пленки MoxCr1-xN от относительной суммарной площади прорезей α.
Рассмотрим пример выполнения распыляемого блока магнетрона (фиг. 1). Модель предлагаемой полезной модели была реализована на базе цилиндрического сбалансированного магнетрона 1 диаметром 130 мм, на котором авторы выполняли эксперименты. Распыляемый блок содержит на одной оси внутреннюю охлаждаемую пластину 2 толщиною 4 мм, изготовленную из молибдена, и внешнюю пластину 3 толщиною 2 мм, изготовленную из хрома. Вся конструкция жестко скреплена болтами 4 с корпусом магнетрона 1 и размещена в реактивной среде, состоящей из газовой смеси плазмообразующего аргона и химически активного азота. Между пластинами установлены шайбы 5 толщиною 1 мм, обеспечивающие зазор между пластинами. Зона эрозии 6 хромовой пластины имеет форму кольца с площадью s. В этой зоне выполнены прорези 7, расположенные симметрично относительно ее центра. Прорези выполнены в виде отверстий. Суммарная площадь прорезей s2 задает площадь зоны эрозии 8 внутренней пластины. Для внешней пластины площадь зоны эрозии равна s1=s - s2.
Устройство работает следующим образом (см. фиг. 1). Распыление металлических пластин происходит в реактивной среде Ar+N2 при суммарном давлении 2-8 мТорр. Управляя плотностью тока разряда и расходом азота,
пластины переводят в нитридный режим работы, при котором их поверхности покрыты соответствующими нитридами. Ионы аргона, образующиеся в разряде, бомбардируют эти поверхности. Внутренняя пластина 2 выполнена охлаждаемой, поэтому поток нитрида молибдена JMoNsp формируется только за счет распыления ее поверхности через прорези 7 в хромовой пластине 3. Наряду с плотностью тока разряда и расходом азота независимой переменной устройства является относительная суммарная площадь прорезей:
Figure 00000001
Внешняя пластина 3 нагревается ионным током. При этом шайбы 5 обеспечивают регулируемый отвод тепла от нее через элементы крепления (4 и 5) и за счет излучения через зазор в центральной части конструкции. В этой конструкции экспериментально легко установить влияние плотности тока разряда на температуру внешней пластины. Что позволяет устранить неконтролируемую ошибку, характерную для прототипа.
Полный поток от внешней пластины с плотностью JCrNtot состоит из распыленного и испаренного потоков с плотностями JCrNsp и JCrNev, соответственно. На фиг. 2 приведены примеры зависимостей указанных потоков от параметра (1), вычисленные при плотности тока разряда 100 мА/см2 и температуре хромовой пластины 900 К.
Указанное отличие между пластинами обусловлено конструктивной особенностью блока. Отвод тепла от внешней пластины на два-три порядка меньше, чем от внутренней. Поэтому хромовая пластина может быть нагрета до высокой температуры, при которой величина JCrNev может значительно превысить величину JCrNsp. Если первая из них имеет зависимость от мощности разряда в форме показательной функции ~ 10 а , то вторая пропорциональна мощности разряда (см. фиг. 2). В результате за счет симметричного расположения прорезей возникают осесимметричные потоки двух нитридов, которые в газовой среде перемешиваются, создавая суммарный поток с однородным распределением молекул в сечениях на расстоянии более 40-60 мм от мишени. На подложке синтезируется однородная пленка в виде твердого раствора двух нитридов MoxCr1-xN со стехиометрическим коэффициентом (0<х<0.3).
Величину х задает отношение потоков:
Figure 00000002
Одновременно с этим каждый из потоков в (2) известным образом зависит от величины (1). В нашем случае, например, распыленный поток нитрида молибдена равен:
Figure 00000003
где SMoN - коэффициент распыления нитрида молибдена; j - плотность тока разряда; е=1.6⋅10-19 Кл - заряд электрона. Поток нитрида хрома, состоящий из двух компонентов, задает выражение
Figure 00000004
где SCrN - коэффициент распыления нитрида хрома; А и В - постоянные, задающие давление насыщенного пара нитрида хром; Т - температура хромовой платины; mCrN - масса молекулы нитрида хрома; k = 1.38⋅10-23 Дж/К - постоянная Больцмана.
На фиг. 3 дана зависимость х=ƒ(α), полученная с помощью выражений (2)-(4). Эту зависимость с достоверностью более 0.99 аппроксимирует полином второго порядка:
Figure 00000005
Как следует из выражения (5) химическим составом пленки MoxCr1-xN можно однозначно управлять, варьируя суммарную площадь прорезей α.
Описанная модель предлагаемого устройства была использована для оценки твердости синтезированных пленок Н. На фиг. 4 точками приведены экспериментальные результаты, которые были аппроксимированы зависимостью:
Figure 00000006
где Н - твердость пленки в ГПа. Зависимость (6) изображена на фиг. 4 сплошной линией. Из фиг. 4 видно, что при увеличении х твердость пленки возрастает и достигает максимума, как это следует из (6), при х=0.23.
Используя (6) и связь между х и α, установленную выражением (5), получаем зависимость твердости пленки от величины α, приведенную на фиг. 5.
Фиг. 5 свидетельствует о том, что поставленная цель достигнута. Предлагаемый блок магнетрона, позволяет синтезировать твердые композиционные пленки MoxCr1-xN с непрерывным изменением стехиометрического коэффициента х, которое обеспечивает плавное изменение твердости. При этом стехиометрическим коэффициентом можно управлять в диапазоне 0<х<0.3, варьируя площадь прорезей в диапазоне 0<α<0.5 при заданных значениях плотности тока разряда и расхода азота.

Claims (1)

  1. Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок MoxCr1-xN при 0<х<0,3, содержащий мишень, размещаемую в реактивной среде азота и выполненную из двух, внутренней и внешней, металлических пластин, расположенных на одной оси с магнетроном и жестко прикрепленных к нему, отличающийся тем, что внутренняя пластина мишени выполнена охлаждаемой, а во внешней пластине в зоне эрозии выполнены прорези, расположенные симметрично относительно ее центра, при этом внешняя пластина выполнена из хрома, а внутренняя - из молибдена.
RU2019140289U 2019-12-06 2019-12-06 Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок RU201611U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019140289U RU201611U1 (ru) 2019-12-06 2019-12-06 Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2019140289U RU201611U1 (ru) 2019-12-06 2019-12-06 Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU201611U1 true RU201611U1 (ru) 2020-12-23

Family

ID=74062741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2019140289U RU201611U1 (ru) 2019-12-06 2019-12-06 Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU201611U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU204777U1 (ru) * 2021-01-29 2021-06-09 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Распыляемый блок магнетрона для осаждения композиционных пленок TixMoyCr1-x-yN
RU2798494C1 (ru) * 2022-12-19 2023-06-23 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ) Комбинированная мишень для планарного магнетрона и способ её изготовления

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2534324C1 (ru) * 2013-10-11 2014-11-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) Способ изготовления композиционного катода для нанесения многокомпонентных ионно-плазменных покрытий
CN105027203A (zh) * 2013-02-25 2015-11-04 山阳特殊制钢株式会社 用于磁性记录的Cr合金和溅射靶材以及使用其的垂直磁性记录介质
RU2662912C2 (ru) * 2013-03-15 2018-07-31 Вейпор Текнолоджиз Инк. Осаждение из паровой фазы для нанесения покрытия с погружением в дуговую плазму низкого давления и ионная обработка
RU2699702C1 (ru) * 2019-02-07 2019-09-09 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Распыляемый блок магнетрона для осаждения пленок твердых растворов TixW1-xO3

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105027203A (zh) * 2013-02-25 2015-11-04 山阳特殊制钢株式会社 用于磁性记录的Cr合金和溅射靶材以及使用其的垂直磁性记录介质
RU2662912C2 (ru) * 2013-03-15 2018-07-31 Вейпор Текнолоджиз Инк. Осаждение из паровой фазы для нанесения покрытия с погружением в дуговую плазму низкого давления и ионная обработка
RU2534324C1 (ru) * 2013-10-11 2014-11-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отделения Российской академии наук (ИФПМ СО РАН) Способ изготовления композиционного катода для нанесения многокомпонентных ионно-плазменных покрытий
RU2699702C1 (ru) * 2019-02-07 2019-09-09 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Распыляемый блок магнетрона для осаждения пленок твердых растворов TixW1-xO3

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU204777U1 (ru) * 2021-01-29 2021-06-09 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) Распыляемый блок магнетрона для осаждения композиционных пленок TixMoyCr1-x-yN
RU2798494C1 (ru) * 2022-12-19 2023-06-23 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ) Комбинированная мишень для планарного магнетрона и способ её изготовления

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Baptista et al. On the physical vapour deposition (PVD): evolution of magnetron sputtering processes for industrial applications
CN103726012B (zh) 一种耐腐蚀硬质防护涂层的制备方法
CN103820761B (zh) 一种金属碳化物镀层的制备方法
Lindfors et al. Cathodic arc deposition technology
RU2678492C1 (ru) Устройство для получения композитной пленки из многоэлементного сплава
WO2008007095A1 (en) Coating apparatus and method
RU201611U1 (ru) Распыляемый блок магнетрона для осаждения твердых композиционных пленок
Krysina et al. Multi-layered gradient (Zr, Nb) N coatings deposited by the vacuum-arc method
Staia et al. Part I: characterization of Cr3C2-25% NiCr reactive plasma sprayed coatings produced at different pressures
Matthews Carbide dissolution/carbon loss as a function of spray distance in unshrouded/shrouded plasma sprayed Cr 3 C 2-NiCr coatings
Vereschaka et al. Investigation of the structure and phase composition of the microdroplets formed during the deposition of PVD coatings
Grudinin et al. Magnetron deposition of chromium nitride coatings using a hot chromium target: Influence of magnetron power on the deposition rate and elemental composition
Xie et al. Deposition of titanium films on complex bowl-shaped workpieces using DCMS and HiPIMS
CN110408903A (zh) 刀具表面多元多层涂层制备方法
Kozin et al. Magnetron with sandwich target for solid composite film deposition Mo x Cr1–x N
Mahamood et al. Processing methods of functionally graded materials
Urbahs et al. Evaluation of the Physical and Mechanical Characteristics of Ion-Plasma Antifriction Coatings Based on Ti-Cu
RU204777U1 (ru) Распыляемый блок магнетрона для осаждения композиционных пленок TixMoyCr1-x-yN
Bobzin et al. Correlation of the Debye sheath thickness and (Cr, Al) N coating properties for HPPMS, dcMS, CAE and PCAE processes
RU207556U1 (ru) Распыляемый узел магнетрона для осаждения пленки бинарного сплава FexNi1-x в диапазоне 0,23 &lt; x &lt; 0,27
Redza et al. Deposition of hard chrome coating onto heat susceptible substrates by low power microwave plasma spray
Yang et al. Effects of Plasma-spraying Powers on Microstructure and Microhardness of In-Situ Nanostructured FeAl 2 O 4 Composite Coatings
Perekrestov et al. Fabrication of multicomponent carbide coatings by modified magnetron sputter deposition
Zhang et al. Influences of deposition parameters on the microstructure and properties of nanostructural TiN films synthesized by filtered cathodic arc plasma
Boulos et al. Overview of surface modification technologies