JP6437427B2 - 磁気記録媒体用スパッタリングターゲット - Google Patents
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Description
また、特許文献3には、MgOを添加したL10形規則合金混合物薄膜は、SiO2やAl2O3を添加した混合物薄膜に比べ低い製膜温度のもとで作製できることが記載されている。しかし、これは、MgOを添加した場合、相対的に製膜時の基板加熱温度が低いことを示すのみで、規則化温度を低下させることを意図するものではない。
このような知見に基づき、本願は、以下の発明を提供する。
1)Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにMgを含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βMgβ(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有することを特徴とするスパッタリングターゲット。
2)Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにGe、Ag、Auからなる金属群M1から選択されるいずれか一種以上の金属を含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βM1β(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有することを特徴とするスパッタリングターゲット。
3)Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにPd、Re、Niからなる金属群M2から選択されるいずれか一種以上の金属を含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βM2β(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有することを特徴とするスパッタリングターゲット。
4)非磁性材料は、炭素、炭化物、酸化物及び窒化物から選択される少なくとも1種以上からなり、該非磁性材料の体積比率がターゲットの全体量に対して10〜60%であることを特徴とする上記1)〜3)のいずれか一記載のスパッタリングターゲット。
5)相対密度が90%以上であることを特徴とする上記1)〜4)のいずれか一記載のスパッタリングターゲット。
まず、金属粉として、Fe粉、Pt粉、Mg粉、Ge粉、Ag粉、Au粉、Re粉、Pd粉、Ni粉などを用意する。金属粉としては、単元素の金属粉だけでなく、合金粉を用いることもできる。例えば、FeとPtのアトマイズ合金粉を用意し、その後、他の金属粉末と混合する、或いは、最初から全ての金属原料を含むアトマイズ合金粉末を作製したりすることができる。これらの金属粉は粒径が1〜30μmの範囲のものを用いることが望ましい。粒径が1〜30μmであるとより均一な混合が可能であり、偏析と結晶粗大化を防止できる。金属粉の粒径が30μmより大きい場合には、非磁性材料が均一に分散しないことがあり、また、1μmより小さい場合いは、金属粉の酸化の影響でターゲットの組成が所望の組成から外れてくるという問題が生じる。
原料粉末として、平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径30μmのMg粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例1:45Fe−45Pt−10Mg(at%)
実施例2:40.5Fe−49.5Pt−10Mg(at%)
実施例3:70Fe−28Pt−20Mg(at%)
実施例4:49.5Fe−49.5Pt−1Mg(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径30μmのMg粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
比較例1:49.9Fe−49.9Pt−0.2Mg(at%)
比較例2:63Fe−27Pt−10Mg(at%)
比較例3:36Fe−54Pt−10Mg(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径5μmのAg粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例5:45Fe−45Pt−10Ge(at%)
実施例6:40Fe−40Pt−20Ge(at%)
実施例7:45Fe−45Pt−10Ag(at%)
実施例8:40Fe−40Pt−20Ag(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径5μmのAg粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
比較例4:49.9Fe−49.9Pt−0.2Ge(at%)
比較例5:63Fe−27Pt−10Ge(at%)
比較例6:49.95Fe−49.95Pt−0.1Ag(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径10μmのPd粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例9:49.5Fe−49.5Pt−1Pd(at%)
実施例10:45Fe−45Pt−10Pd(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径5μmのAg粉、平均粒径10μmのC粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。このときの非磁性材料(C)の体積比率は29.9vol%である。
実施例11:27Fe−27Pt−6Ag−40C(at%)
比較例7:22.5Fe−22.5Pt−15Ag−40C(at%)
なお、体積比率の算出方法は、各元素の重量比率と密度から求めることができる。
Fe、Pt、Ag、Cの重量比率をそれぞれW1、W2、W3、W4(wt%)とし、Fe、Pt、Ag、Cの密度をそれぞれD1、D2、D3、D4(g/cm3)として以下の式に導入することで求めることができる。
Cの体積比率(%)=Cの体積(W4/D4)÷全体積(W1/D1+W2/D2+W3/D3+W4/D4)×100
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径5μmのAg粉、平均粒径1μmのNi粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径10μmのC粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例12:27Fe−27Pt−6Ag−40C(at%)
実施例13:27Fe−27Pt−3Ag−3Ge−40C(at%)
実施例14:27Fe−27Pt−3Ni−3Ge−40C(at%)
比較例8:30Fe−30Pt−40C(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径5μmのAg粉、平均粒径1μmのNi粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径10μmのC粉、平均粒径15μmのBN粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例15:27Fe−27Pt−6Ge−10BN−30C(at%)
実施例16:27Fe−27Pt−3Ag−3Ge−10BN−30C(at%)
実施例17:27Fe−27Pt−3Ni−3Ge−10BN−30C(at%)
比較例8:30Fe−30Pt−10BN−30C(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径5μmのAg粉、平均粒径1μmのNi粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径10μmのC粉、平均粒径0.5μmのSiO2粉を用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例18:27Fe−27Pt−6Ge−6SiO2−34C(at%)
実施例19:27Fe−27Pt−3Ag−3Ge−6SiO2−34C(at%)
実施例20:27Fe−27Pt−3Ni−3Ge−6SiO2−34C(at%)
比較例10:30Fe−30Pt−6SiO2−34C(at%)
平均粒径3μmのFe粉、平均粒径3μmのPt粉、平均粒径5μmのAg粉、平均粒径1μmのNi粉、平均粒径20μmのGe粉、平均粒径10μmのC粉、平均粒径1μmのMgO粉、平均粒径1μmのTiNを用意し、以下の組成比で合計の重量が2000gとなるように秤量した。
実施例21:36Fe−36Pt−8Ge−10MgO−10TiN(at%)
実施例22:36Fe−36Pt−4Ag−4Ge−10MgO−10TiN(at%)
実施例23:36Fe−36Pt−4Ni−4Ge−10MgO−10TiN(at%)
比較例11:40Fe−40Pt−10MgO−10TiN(at%)
Claims (4)
- Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにMgを金属として含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βMgβ(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有し、相対密度が90%以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにGeを金属として含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βM1β(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有し、相対密度が90%以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなるスパッタリングターゲットであって、さらにPd、Re、Niからなる金属群M2から選択されるいずれか一種以上を金属として含有し、原子数比で(Fe1−αPtα)1−βM2β(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有し、相対密度が90%以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- 非磁性材料は、炭素、炭化物、酸化物及び窒化物から選択される少なくとも1種以上からなり、該非磁性材料の体積比率がターゲットの全体量に対して10〜60vol%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のスパッタリングターゲット。
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