JP2010537016A - ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミンをベースとする水性シラン系 - Google Patents
ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミンをベースとする水性シラン系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010537016A JP2010537016A JP2010522275A JP2010522275A JP2010537016A JP 2010537016 A JP2010537016 A JP 2010537016A JP 2010522275 A JP2010522275 A JP 2010522275A JP 2010522275 A JP2010522275 A JP 2010522275A JP 2010537016 A JP2010537016 A JP 2010537016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- branched
- carbon atoms
- linear
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims description 71
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 70
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 title description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 297
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 242
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 201
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 159
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 152
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 108
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 97
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 78
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 78
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 74
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 46
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 43
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 42
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 42
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 42
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 40
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 37
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 34
- -1 3-glycidoxypropyl group Chemical group 0.000 claims description 31
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 24
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 21
- 239000004567 concrete Substances 0.000 claims description 20
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 15
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N silicon;hydrate Chemical compound O.[Si] XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 12
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 12
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 12
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 9
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000123 paper Substances 0.000 claims description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 claims description 6
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 5
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000007522 mineralic acids Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000007524 organic acids Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011435 rock Substances 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 claims description 2
- 125000004990 dihydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004532 chromating Methods 0.000 claims 2
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 claims 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000006116 anti-fingerprint coating Substances 0.000 claims 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 47
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 46
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 43
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 41
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 30
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 16
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 8
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UKSJVDKLZMULIG-UHFFFAOYSA-N [SiH3]N[SiH2]N[SiH3] Chemical compound [SiH3]N[SiH2]N[SiH3] UKSJVDKLZMULIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(OCC)OCC UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 3
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N tetrasulfane Chemical compound SSSS IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 3
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 3
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOCAZKYFYOHVEY-UHFFFAOYSA-N CCO[SiH](CCN)OCC Chemical compound CCO[SiH](CCN)OCC BOCAZKYFYOHVEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGJZKIWPDBYTJA-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)formamide Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC=O ZGJZKIWPDBYTJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OC)(OC)OC XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanamine Chemical compound CCO[Si](CN)(OCC)OCC ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSCCC[Si](OC)(OC)OC NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanamine Chemical compound CO[Si](CN)(OC)OC ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- OYWKBIVCHPPAOQ-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilyl-n-(triethoxysilylmethyl)methanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC[Si](OCC)(OCC)OCC OYWKBIVCHPPAOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZVSRHMBQDVNLW-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(methyl)silyl]ethanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCN CZVSRHMBQDVNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEYGFNXACHWELQ-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(phenyl)silyl]ethanamine Chemical compound NCC[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 JEYGFNXACHWELQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMCMBKXKEBELAE-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropyl-ethoxy-methylsilyl)oxybutan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(OCC)OC(C)CCN JMCMBKXKEBELAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVWQOGFWBJCDDQ-UHFFFAOYSA-N 6-[dimethoxy(methyl)silyl]hexan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCCCN OVWQOGFWBJCDDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZAKHNORFOVVDL-UHFFFAOYSA-N 6-triethoxysilylhexan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCN TZAKHNORFOVVDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRKIKESGAZRUEG-UHFFFAOYSA-N 6-trimethoxysilylhexan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCN RRKIKESGAZRUEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIWKAEQLXNVUEL-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(OCC)[SiH2]CSSC[SiH2]C(OCC)OCC Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CSSC[SiH2]C(OCC)OCC ZIWKAEQLXNVUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSXMYHJASIEQEW-UHFFFAOYSA-N COC(OC)[SiH2]CCCSSCCC[SiH2]C(OC)OC.C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCSSCCC[SiH2]C(OCC)OCC Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCSSCCC[SiH2]C(OC)OC.C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCSSCCC[SiH2]C(OCC)OCC GSXMYHJASIEQEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001071795 Gentiana Species 0.000 description 1
- PEBOFFHATLUDGQ-UHFFFAOYSA-N N-(2-dimethoxysilylethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCC[SiH](OC)OC PEBOFFHATLUDGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWDXAXYMAXEGGB-UHFFFAOYSA-N N-(diethoxysilylmethyl)formamide Chemical compound C(=O)NC[SiH](OCC)OCC GWDXAXYMAXEGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MASLKXZMQKIQBU-UHFFFAOYSA-N N-(dimethoxysilylmethyl)formamide Chemical compound C(=O)NC[SiH](OC)OC MASLKXZMQKIQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKTGKDDKYXGY-UHFFFAOYSA-N NCC[Si](OCC)(OCC)C.NCC[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound NCC[Si](OCC)(OCC)C.NCC[Si](OCC)(OCC)OCC OMNKTGKDDKYXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLAPMPWALZGPMI-UHFFFAOYSA-N [SiH4].CC(CC)O Chemical class [SiH4].CC(CC)O VLAPMPWALZGPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXDZOSLIAABYHM-UHFFFAOYSA-N [diethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COC(=O)C(C)=C GXDZOSLIAABYHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)COC(=O)C(C)=C YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) Chemical compound [Cr+3] BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 1
- FIRQYUPQXNPTKO-UHFFFAOYSA-N ctk0i2755 Chemical compound N[SiH2]N FIRQYUPQXNPTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBIXEZCWWLRUFH-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 HBIXEZCWWLRUFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- KSFBTBXTZDJOHO-UHFFFAOYSA-N diaminosilicon Chemical compound N[Si]N KSFBTBXTZDJOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHNUEQUGTGMGFX-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hexadecyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OCC)OCC MHNUEQUGTGMGFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(OCC)OCC YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJVQMRRXRRBRIH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OCC)OCC DJVQMRRXRRBRIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCMGZVOQDOAFED-UHFFFAOYSA-N diethoxy-phenyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 WCMGZVOQDOAFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSYVJAOBRKCNOT-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-[3-[3-(diethoxymethylsilyl)propyltetrasulfanyl]propyl]silane Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCCSSSSCCC[SiH2]C(OCC)OCC GSYVJAOBRKCNOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- FLADMPBHQLJVKG-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[2-(2H-pyran-2-yloxy)ethyl]-(4,4,4-trifluorobutoxy)silane Chemical compound FC(CCCO[Si](OC)(OC)CCOC1OC=CC=C1)(F)F FLADMPBHQLJVKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMDGYVVNQUWFCY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(2,2,3,3,3-pentafluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(F)(F)C(F)(F)F ZMDGYVVNQUWFCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXCBYIQEPYWUSW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(3,3,3-trifluoropropoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCCC(F)(F)F MXCBYIQEPYWUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBCPEZPOCJYHPM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OC)OC UBCPEZPOCJYHPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(OC)OC GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTTHYJVHQPVISP-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethyl-[(dimethoxymethylsilylmethyldisulfanyl)methyl]silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]CSSC[SiH2]C(OC)OC VTTHYJVHQPVISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005417 glycidoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- MCTWTUQSOKLGFJ-UHFFFAOYSA-N hexadecyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OC)OC MCTWTUQSOKLGFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APQKDJQPCPXLQL-UHFFFAOYSA-N hexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(OC)OC APQKDJQPCPXLQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDELZIAYYKCTEM-UHFFFAOYSA-N n'-[1-[diethoxy(ethyl)silyl]oxyethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OC(C)NCCN SDELZIAYYKCTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMJMHJJKAWVHIV-UHFFFAOYSA-N n-(2-triethoxysilylethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCC[Si](OCC)(OCC)OCC GMJMHJJKAWVHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYZKSCWBQYDSO-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)formamide Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC=O FKYZKSCWBQYDSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIHYBYNCRBAJK-UHFFFAOYSA-N n-(triethoxysilylmethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNC[Si](OCC)(OCC)OCC NUIHYBYNCRBAJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDNFMZGUGOLTEH-UHFFFAOYSA-N n-(trimethoxysilylmethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNC[Si](OC)(OC)OC CDNFMZGUGOLTEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNCDQLJZXUIOKT-UHFFFAOYSA-N n-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](C)(OCC)OCC JNCDQLJZXUIOKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLTAOXPOORASCD-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](C)(OC)OC SLTAOXPOORASCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N tributoxy(propyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCC)(OCCCC)OCCCC WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPJORXVJXFCUOR-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[(triethoxysilylmethyldisulfanyl)methyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CSSC[Si](OCC)(OCC)OCC SPJORXVJXFCUOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSIGLRIVXRKQRA-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanethiol Chemical compound CCO[Si](CS)(OCC)OCC XSIGLRIVXRKQRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJURITQANHWBGC-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](COC(=O)C(C)=C)(OC)OC.CCO[Si](COC(=O)C(C)=C)(OCC)OCC OJURITQANHWBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCVPJOWFRJNISN-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[(trimethoxysilylmethyldisulfanyl)methyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CSSC[Si](OC)(OC)OC PCVPJOWFRJNISN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POOJIYOOXPNLRP-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(3,3,3-trifluoropropylsulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCSCCC(F)(F)F POOJIYOOXPNLRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanethiol Chemical compound CO[Si](CS)(OC)OC QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/60—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only artificial stone
- C04B41/61—Coating or impregnation
- C04B41/62—Coating or impregnation with organic materials
- C04B41/64—Compounds having one or more carbon-to-metal of carbon-to-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/49—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes
- C04B41/4905—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon
- C04B41/495—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon applied to the substrate as oligomers or polymers
- C04B41/4961—Polyorganosiloxanes, i.e. polymers with a Si-O-Si-O-chain; "silicones"
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2222/00—Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
- C23C2222/20—Use of solutions containing silanes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/13—Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
- Y10T428/131—Glass, ceramic, or sintered, fused, fired, or calcined metal oxide or metal carbide containing [e.g., porcelain, brick, cement, etc.]
- Y10T428/1317—Multilayer [continuous layer]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
(R2O)[(R2O)1-x(R3)xSi(B)O]b[(Y)2Si(A)Si(Y)2O]a[Si(C)(R5)y(OR4)1-yO]c[Si(D)(R7)u(OR6)1-uO]d[Si(E)x(R8)v(OR9)1-vO]w R9・(HX)e (I)
[式中、アルコキシシランから誘導される構造エレメント中
− Aは、ビス−アミノアルキル基であり、
− Bは、アミノアルキル基であり、
− Cは、アルキル基であり、
− Dは、エポキシ基、又はエーテル基であり、かつ
− Eは、有機官能基に相応し、
− Yは、OR1に相応するか、又は互いに無関係に架橋及び/又は立体架橋構造の形のOR1又はO1/2に相応し、
及び/又はR8は、有機官能性基に相応し、
− HXは酸であり、その際、Xは無機酸基、又は有機酸基であり、
− 0≦x≦1、0≦y≦1、0≦u≦1、a≧1、b≧0、c≧0、d≧0、
w≧0、e≧0であり、特にe≧1、かつ(a+b+c+d+w)≧2である]
に相応するか、もしくは理想化した式Iにより表現できる(図表1を参照のこと)。前記組成物は実質的に有機溶剤不含であり、かつ架橋の際に実質的にアルコールを放出せず、特に90℃を上回る引火点を有する。
(R2O)[(R2O)1-x(R3)xSi(B)O]b、
[(R2O)1-x(R3)xSi(B)O]b、
[(Y)2Si(A)Si(Y)2O]a、
(Y)[(Y)2Si(A)Si(Y)2O]a、
[Si(C)(R5)y(OR4)1-yO]c、
[Si(C)(R5)y(OR4)1-yO]R4 c、
[Si(D)(R7)u(OR6)1-uO]d、
[Si(D)(R7)u(OR6)1-uO]R6 d、
[Si(E)(R8)v(OR9)1-vO]w 及び/又は
[Si(E)(R8)v(OR9)1-vO]w R9、
前記構造エレメントのランダム及び/又は規則的な分布を有する鎖状、環状、架橋及び/又は立体架橋構造及び/又は前記構造エレメントのブロック縮合体が形成される(図表Iを参照)。一般式Iは、実際に存在する構造又は組成物を描写しているのでなく、理想化された表現の可能性に相当する。組成物は、有利には、前記構造エレメントのランダム及び/又は規則的な共加水分解及び/又は共縮合及び/又は前記構造エレメントのブロック縮合により(本発明によれば、A、B、C、D又はE−基で置換されたアルコキシシランをベースとして)生じる及び/又は選択された試験条件下に形成されるシリコン化合物を含有する。
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
から誘導されるビス−アミノアルキル基に相応する。
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
[式中、i、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1=1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基であり、その際、i及び/又はi*は、特に1、2、3又は4の数字、有利は3に相応し、特にビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン
[(H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3 Si(OC2H5)3、ビス−AMEO]
(式中、i、i*=3であり、g、g*=0である)が有利である]
のビス−アミノ官能基である。
(H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)3 Si(OCH3)3(ビス−AMMO)、
(H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3(ビス−DAMO)、
(H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3(ビス−TRIAMO)、
ビス(ジエトキシメチルシリルプロピル)アミン、ビス(ジメトキシメチルシリルプロピル)アミン、
ビス(トリエトキシシリルメチル)アミン、ビス(トリメトキシシリルメチル)アミン、
ビス(ジエトキシメチルシリルメチル)アミン、ビス(ジメトキシメチルシリルメチル)アミン、(H3CO)2(CH3)Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)2(CH3)及び/又は(H3CO)3(CH3)Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)2(CH3)。
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
から誘導されるアミノ官能基に相応する。
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のうち1つのアミノ官能基に相応する。
アミノプロピルトリメトキシシラン(H2N(CH2)3Si(OCH3)3、AMMO)、
アミノプロピルトリエトキシシラン(H2N(CH2)3Si(OC2H5)3、AMEO)、
ジアミノエチレン−3−プロピルトリメトキシシラン(H2N(CH2)2 NH(CH2)3Si(OCH3)3、DAMO);
トリアミノジエチレン−3−プロピルトリメトキシシランH2N(CH2)2 NH(CH2)2 NH(CH2)3Si(OCH3)3、TRIAMO)、
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、アミノプロピルメチルジメトキシシラン、2−アミノエチル−トリメトキシシラン、2−アミノエチル−メチル−ジメトキシシラン、2−アミノエチル−フェニル−ジメトキシシラン、2−アミノエチル−トリエトキシシラン、2−アミノエチル−メチル−ジエトキシシラン、2−アミノエチル−トリエトキシシラン、(2−アミノエチルアミノ)−エチルトリエトキシシラン、6−アミノ−n−ヘキシル−トリエトキシシラン、6−アミノ−n−ヘキシル−トリメトキシシラン、6−アミノ−n−ヘキシル−メチル−ジメトキシシランならびに特に3−アミノ−n−プロピル−トリメトキシシラン、3−アミノ−n−プロピル−メチル−ジメトキシシラン、3−アミノ−n−プロピル−トリエトキシシラン、3−アミノ−n−プロピル−メチル−ジエトキシシラン、1―アミノメチルトリエトキシシラン、1−アミノメチルメチルジエトキシシラン、1−アミノメチルトリメトキシシラン、1−アミノメチルメチルジエトキシシラン、N−ブチル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ブチル−3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−ブチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ブチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−ブチル−1−アミノ−メチルトリエトキシシラン、N−ブチル−1−アミノメチルメチルジメトキシシラン、N−ブチル−1−アミノメチルトリメトキシシラン、N−ブチル−1−アミノメチルメチルトリエトキシシラン、N−ホルミル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ホルミル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ホルミル−1−アミノメチルメチルジメトキシシラン及び/又はN−ホルミル−1−アミノメチルメチルジエトキシシラン又はそれらの混合物。
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキル基に相応する]
から誘導されるアルキル基に相応する。y=0又は1であるのが有利であり、その際、Cは1〜8個の炭素原子を有する線状又は分枝アルキル基であり、有利にはメチル、エチル、特に有利にはn−プロピル、イソプロピル又はオクチル基であるのが有利であり、R5は、1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基、有利にはメチル、エチルであり、特に有利にはn−プロピル基、イソプロピル基及び/又はオクチル基であり、R4は、1〜3個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキル基であり、特に有利にはメチル基、エチル基及び/又はイソプロピル基又はn−プロピル基に相応する。
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状及び/又は分枝アルキル基である]
から誘導されるエポキシ基、又はエーテル基に相応する。ポリエチレングリコール−3−プロピル(PEG−プロピル)、ポリプロピレングリコール−3−プロピル、ポリメチレン−グリコール−3−プロピルから成るグループ又はプロピレングリコール基及びエチレングリコール基とのコポリマー、例えば、ランダムな分布を有するもの又はブロックポリマーから選択されるポリアルキルグリコール基が好適であり、その際、ポリアルキレングリコール基は有利には分子当たり約3〜14個のアルキレングリコール基の平均分布度を有する。
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、その際、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、かつR8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、かつ/又はEはビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
から誘導される有機官能基に相応する。有利な実施態様によれば、EはF3C(CF2)r(CH2)s−基に相応し、その際rは0〜9の整数であり、sは0又は2であり、特に有利にはrは5であり、かつsは2であり、CF3(CF2)5(CH2)2−基、又はCF3(C6H4)−基、又はC6H5−基に相応する。好適な実施態様によれば、Eは、一般式IX
(CH2)q−X−(CH2)q−Si(R8)v(OR9)3-v (IX)
(式中、q=1、2又は3であり、X=Spであり、
pは平均2もしくは2.18であるか、又は平均4もしくは3.8であり、鎖中2〜12個の硫黄原子の分布を有し、かつv、R8とR9先に定義した通りである)
のスルファンアルキル基に相応する。
トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル−1−トリメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル−1−トリエトキシシラン又はこれらから誘導されるシランを含有する相応の混合物又は3,3,3−トリフルオロプロピル−トリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルメチル−ジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピル−メチル−ジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピル−シクロヘキシル−ジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピル−フェニル−ジエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピル−トリエトキシシラン、3,3,3,2,2−ペンタフルオロプロピル−メチル−ジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシエチル−トリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルメルカプトエチル−トリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシエチル−メチル−ジメトキシシランならびに特にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル−トリメトキシシラン及びトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル−トリエトキシシランならびにアクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランであり、その際、アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、又はプロポキシ基によって置換可能である。適切な化合物は、同様にメタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピル−メチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピル−メチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピル−メチルジエトキシシラン、メタクリロキシメチル−メチルジエトキシシラン及び/又はメタクリロキシメチル−メチルジメトキシシランである。
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(式中、i、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1=1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応し、その際i及び/又はi*は特に1、2、3又は4の数、有利には3である)
のビス−アミノ官能基に相応し、特にi、i*=3、かつg、g*=0である化合物ビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン((H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3、ビス−AMEO)が有利である]
の少なくとも1つのビス−アミノシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により、式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、Bは下記の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のうち1つのアミノ官能基に相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により、一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により、一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
の少なくとも1つエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、ここでスルファンアルキル基は、一般式IX
−(CH2)q−X−(CH2)q−Si(R8)v(OR9)3-v (IX)
(式中、q=1、2又は3であり、X=Spであり、pは平均で2もしくは2.18であるか、又は平均で4もしくは3.8であり、鎖中2〜12個の硫黄原子の分布を有し、v、R8及びR9は、先に定義した通りである)に相応する]
の少なくとも1つ有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を、
− 加水分解し、かつアルコールを実質的に除去する。
− ここで式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、
Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(式中、i、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1=1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基である)
のビス−アミノ官能基である]
のシランは、ビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、特に少なくとも部分的にプロトン化されている、
− 式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
のシランはアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、特に少なくとも部分的にプロトン化されている、
− 式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、エポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、
− 式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、アルキルアルコキシシランに相応する、
かつ場合により酸、場合によりアルコール及び場合により触媒及び場合により一般式II、IV、VI、VII及び/又はVIIIの1つ以上の更なるシラン又はそれらの縮合生成物を添加し、
− その際、添加される式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、アルキルアルコキシシランに相応し、
− 式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応する、
− 加水分解し、かつアルコールを実質的に除去する。
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、
Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、R1は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である)のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノ官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、
R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシシラン又はエーテルシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、かつR8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基に相応し、
ここでスルファンアルキル基は、一般式IX
−(CH2)q−X−(CH2)q−Si(R8)v(OR9)3-v (IX)
(式中、q=1、2又は3であり、X=Spであり、pは平均で2もしくは2.18であるか、又は平均で4もしくは3.8であり、鎖中2〜12個の硫黄原子の分布を有し、v、R8及びR9は、先に定義した通りである)に相応する]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、
と反応させ、加水分解、特に完全に加水分解させて実質的に完全にアルコールを除去することにより得られる、実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する水性組成物もしくは水性シラン系に関する。
− 式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、
Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、R1は、1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン、及び/又はその縮合生成物、及び場合により式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、
R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、その際、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基に相応する]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を、
−加水分解、特に完全に加水分解させ、かつ加水分解アルコール又は溶剤を実質的に除去することにより得られる。
− 式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、
Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、R1は、1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン、及び/又はその縮合生成物、及び場合により式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、
R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基に相応する]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を、
− 加水分解、特に完全に加水分解し、かつ加水分解アルコールと溶剤を実質的に除去することにより得られる。
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び/又は一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び/又は式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基に相応する]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を予め装入し、二者択一的に、式IV、VI及び/又はVIIIのシランを式II及び/又はIVの少なくとも1つのシランと混合した形で予め装入し、
− かつ水の存在、かつ酸及び/又は触媒と水の存在、及び場合により溶剤の存在で、少なくとも部分的に加水分解し、引き続き二番目の加水分解工程では、
− 更なる水及び場合により更なる酸の存在で、
− 式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、
Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、R1は、1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
−式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、
R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン、及び/又はその縮合生成物を添加し、加水分解し、かつアルコールを実質的に除去する。
分析による試験:
残留物:
水性シラン系の固形含有量を以下のように測定した:
試験体1gを小さな陶磁器シャーレに量り入れ、かつ105℃で乾燥棚中で重量が一定になるまで乾燥させた。
試験体1.0〜5.0gをケルダール錠剤及び硫酸20mlと一緒に400mlビーカー中で混合し、まずゆっくり加熱した。その際にビーカーを時計ガラスで覆った。硫酸が著しく煙を出し、かつ全ての有機成分が分解し、かつ溶液が透明で済んだままになるまで温度を高めた。冷たい溶解溶液を蒸留水で200mlまで希釈し、かつ短時間煮立たせた(水をビーカーの縁に流しながら)。白色バンドフィルターを通して残留物を濾過し、かつ洗浄水が>4のpH値(pH紙)を示すまで熱い水で洗浄した。フィルターを白金るつぼ内で乾燥させ、灰化し、かつマッフル炉中、800℃で1時間灼熱させた。残留物を揺り動かした後に、フッ化水素酸で蒸散させ、るつぼを吹管で灼熱させ、かつ場合によりもう一度800℃で灼熱させ、かつ冷却後に秤量した。両方の計量の差はSiO2の含有量に相応した。
評価:D×100/E=質量%SiO2
D=フッ素添加の前と後の質量差(mg)
100=%での換算
E=秤量(mg)
遊離メタノールとエタノール含有量の測定:
アルコールの測定はGCクロマトグラフィーにより実施した。
カラム:RTX200(60m)
温度プログラム:90−10−25−240−0
検出器:FID
注入量:1.0μl
内部標準物質:2−ブタノール
使用したシランとシラン系:
供給装置と還流冷却器を備えた撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水592.84gとギ酸(HCOOH濃度=85%)17.16gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO90.0gを供給した。pH値は3.5であった。これを60℃で3時間撹拌した。この後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでETOH/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は600gであった。圧力フィルター(Seitz-T-950)を介して残留物を濾過した。3.5のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.4%(w/w)
SiO2含有量:3.1%
遊離エタノール:1.8%
供給装置と還流冷却器を備えた撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水598.6gとギ酸(HCOOH濃度=85%)10.49gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO75.0gを供給した。pH値は4.2であった。これを60℃で1時間撹拌し、その後にPTMO28.91gを供給し、かつ反応混合物を更に2時間60℃まで温度調節した。その後に60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は600gであった。圧力フィルター(Seitz-T-950)を介して残留物を濾過した。4.2のpH値を有し、かつ貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.5%(w/w)
SiO2含有量:4.8%
遊離メタノール:0.8%
遊離エタノール:1.4%
供給装置と還流冷却器を備えた撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水597.41gとギ酸(HCOOH濃度=85%)36.97gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO90.0gとAMEO90.0gならびにPTMO30gを供給した。pH値は4.03であった。これを60℃で3時間撹拌した。この後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は600gであった。圧力フィルター(Seitz-T-950)を介して残留物を濾過した。3.86のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:22.2%(w/w)
SiO2含有量:9.1%
遊離メタノール:0.3%
遊離エタノール:1.2%
引火点: >95℃
供給装置と還流冷却器を備えた撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水597.41gとギ酸(HCOOH濃度=85%)30.0gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO90.0gとAMEO90.0gならびにPTMO60.0gを供給した。更にギ酸4.09gを供給した。pH値は5.39であった。これを60℃で3時間撹拌した。この後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は600gであった。圧力フィルター(Seitz-T-950)を介して残留物を濾過した。5.4のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:21.9%(w/w)
SiO2含有量:10.0%
遊離メタノール:0.7%
遊離エタノール:1.0%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。更にギ酸1.55gを添加した。pH値は4.17であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きPTMO40gを供給し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.11のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:11.8%(w/w)
SiO2含有量:6.1%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:<1.0%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。更にギ酸1.45gを添加した。pH値は4.15であった。これを60℃で90分間(供給時間も含める)撹拌した。引き続きPTMO32gを供給し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.10のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.1%(w/w)
SiO2含有量:5.1%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:1.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。更にギ酸0.54gを添加した。pH値は4.28であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きPTMO40.0gを供給し、かつ反応体を65℃で更に2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.3のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:8.9%(w/w)
SiO2含有量:4.9%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:0.3%
引火点: >95℃
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。更にギ酸0.50gを添加した。pH値は4.24であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きPTMO32.0gとジメチルジメトキシシラン8.0gを供給し、かつ65℃で更に2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.0のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:8.8%(w/w)
SiO2含有量:5.1%
遊離メタノール:0.7%
遊離エタノール:0.2%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)8.3gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。pH値は3.60であった。これを60℃で60分間撹拌した。引き続きPTMO40gとAMEO10gから成る混合物を供給し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。3.8のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:13.6%(w/w)
SiO2含有量:7.1%
遊離メタノール:1.2%
遊離エタノール:1.0%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)10.8gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。pH値は3.25であった。これを60℃で60分間撹拌した。引き続きPTMO40.0gとDAMO10gから成る混合物を供給し、かつ65℃で更に2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。3.38のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:14.3%(w/w)
SiO2含有量:7.0%
遊離メタノール:1.3%
遊離エタノール:0.6%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水性製品Dynasylan(R)F 8815 150gを予め装入した。次に、撹拌しながら蒸留水60gとギ酸(HCOOH濃度=85%)1.1gを供給した。引き続き、供給装置によりビス−AMEO7.5gを供給した。これを60℃で90分間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は200gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.41のpH値を有し、貯蔵安定性である乳濁した僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:4.9%(w/w)
SiO2含有量:1.4%
遊離メタノール:0.3%
遊離エタノール:3.8%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下にエタノール200.00gと水20gならびにギ酸(HCOOH濃度=85%)2.9gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO20.0gとDynasylan(R)F 826110gを供給した。更にギ酸2.85gを添加した。pH値は3.45であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き水200gをゆっくり添加した。この溶液は均一のままで、かつ僅かに乳濁していた。引き続き、混合物を65℃で2時間撹拌した。次に、新たに水200gを添加し、かつ続いてエタノール/水−混合物を60〜65℃かつ130〜200mbarで除去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。3.70のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに乳濁している液体が得られた。
残留物:4.9%(w/w)
SiO2含有量:1.3%
遊離メタノール:<0.1%
遊離エタノール:2.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。pH値は4.24であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きPTMO40.0gとGLYMO10gから成る混合物を添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.4のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.9%(w/w)
SiO2含有量:5.6%
遊離メタノール:0.7%
遊離エタノール:2.0%
前記反応体(400g)に、新たに蒸留水100gを添加し、かつ約130〜200mbarでアルコール/水−混合物約100を留去した。残留物の最終重量は400gであった。透明で黄色がかった液体が得られた。
遊離エタノール含有量 <0.1%(w/w)
遊離メタノール含有量 <0.1%(w/w)
引火点: >95℃
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。更にギ酸1.8gを添加した。pH値は4.21であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きPTMO32.0gとGLYMO18.0gから成る混合物を添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を蒸留により除去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.35のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:11.4%(w/w)
SiO2含有量:5.5%
遊離メタノール:1.5%
遊離エタノール:0.4%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。pH値は4.3であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きMTES(メチルトリエトキシシラン)40.0gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を蒸留により除去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.35のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で僅かに黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.7%(w/w)
SiO2含有量:6.0%
遊離メタノール:<0.1%
遊離エタノール:0.8%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、窒素雰囲気下に室温でGLYMO40.00gをまず氷酢酸(100%濃度酢酸)4.8gと混合した。5分後に、ジルコニウム−n−プロピレート4.8gを添加し、かつ更に5分後に水83.7gとLevasil 100S/45%12.0gから成る混合物を供給装置を介して添加した。該溶液は僅かに不透明であり、かつpH値は3.1であった。Levasil 100S/45%を添加している間に温度が僅かに上がった。引き続き前記混合物を65℃まで2時間加熱した。その後に、前記溶液を水400gで希釈し、かつ65℃まで加熱した。引き続き、新たに酢酸10.6gを添加し、その後にビス−AMEO75.0gをゆっくり供給した。pH値は4.5であった。反応体を撹拌しながら65℃で2時間保持した。次に、60〜65℃でメタノール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は500gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.67のpH値を有し、貯蔵安定性である不透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:16.9%(w/w)
SiO2含有量:6.5%
遊離メタノール:0.4%
遊離エタノール:0.5%
供給装置と還流冷却器を備えた撹拌装置内に、水597.41gとギ酸(HCOOH濃度=85%)30gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO90.0gとAMEO90gならびにPTMO60gを供給した。更にギ酸4.09gを供給した。pH値は5.39であった。これを60℃で3時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は600gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。5.4のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:21.9%(w/w)
SiO2含有量:10.0%
遊離メタノール:0.7%
遊離エタノール:1.0%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、エタノール200.00gと水20gならびにギ酸(HCOOH濃度=85%)1.4gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO10.0gとDynasylan(R)F 8261 7.5gを供給した。更にギ酸2.01gを添加した。pH値は3.53であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き水100gをゆっくり添加した。引き続き、混合物を65℃で2時間撹拌した。次に、新たに水150gを添加し、かつ続いてエタノール/水−混合物を60〜65℃かつ130〜200mbarで除去した。残留物の最終重量は200gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。3.85のpH値を有し、貯蔵安定性である乳濁した黄色がかった液体が得られた。
残留物:5.8%(w/w)
SiO2含有量:1.4%
遊離エタノール:2.0%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、エタノール200.00gと水20gならびにギ酸(HCOOH濃度=85%)1.8gを装入した。供給装置を介してビス−AMEO10.0gとAMEO1.0gならびにDynasylan(R)F 8261 9gを供給した。更にギ酸0.65gを添加した。pH値は3.52であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き水100gをゆっくり添加した。引き続き、混合物を65℃で2時間撹拌した。次に、新たに水150gを添加し、かつ続いてエタノール/水−混合物を60〜65℃かつ130〜200mbarで除去した。残留物の最終重量は200gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。3.78のpH値を有し、貯蔵安定性である乳濁した黄色がかった液体が得られた。
残留物:6.3%(w/w)
SiO2含有量:1.7%
遊離エタノール:3.4%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)40gから成る混合物を供給した。更にギ酸2.40gを添加した。pH値は3.99であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.05のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.9%(w/w)
SiO2含有量:5.7%
遊離エタノール:0.8%]
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)60gから成る混合物を供給した。pH値は4.3であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きGL YMO10gをゆっくり添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.38のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:13.6%(w/w)
SiO2含有量:8.4%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:0.6%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。pH値は4.23であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きDynasylan(R)4144 40.0gを供給し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.45のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:12.4%(w/w)
SiO2含有量:2.3%
遊離メタノール:0.2%
遊離エタノール:0.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)2.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO20.0gを供給した。pH値は4.21であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きDynasylan(R)4144 60.0gを供給し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.37のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:16.0%(w/w)
SiO2含有量:2.0%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:0.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00g、Levasil 100S 12.0gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)60gから成る混合物を供給した。更にギ酸2.18gを添加した。pH値は4.33であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.43のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:12.9%(w/w)
SiO2含有量:8.4%
遊離エタノール:0.5%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gと85%濃度のリン酸5.0gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)60gから成る混合物を供給した。更にギ酸6.25gを添加した。pH値は4.19であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.32のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:13.3%(w/w)
SiO2含有量:7.9%
遊離エタノール:2.7%
反応体(400g)に新たに蒸留水100gを添加し、かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物約100を留去した。残留物の最終重量は400gであった。<0.1%(w/w)の遊離エタノール含有量を有する透明で黄色がかった液体が得られた。
引火点: >95%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gと70%濃度の硝酸7.9gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)60gから成る混合物を供給した。更にギ酸0.95gを添加した。pH値は4.15であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.15のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:11.8%(w/w)
SiO2含有量:7.2%
遊離エタノール:0.8%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.0gを予め装入した。次に良く撹拌しながら水性製品Dynasylan(R) HS 2926 100gを添加した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。pH値は4.15であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.25のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:13.5%(w/w)
SiO2含有量:5.0%
遊離エタノール:0.2%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.0gを予め装入した。次に良く撹拌しながら水性製品Dynasylan(R) HS 2926 120gを添加した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO32.0gを供給した。pH値は4.03であった。これを60℃で90分間撹拌し、引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.10のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:14.4%(w/w)
SiO2含有量:4.9%
遊離エタノール:<0.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.0gを予め装入した。次に撹拌しながらLevasil 100S/45 12gと水性製品Dynasylan(R) HS 2926 120gを添加した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO32.0gを供給した。pH値は4.20であった。これを60℃で90分間撹拌した。その後に、滴下漏斗によりVTMO20gをゆっくり添加し、かつ引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.23のpH値を有し、貯蔵安定性である不透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:18.1%(w/w)
SiO2含有量:8.2%
遊離メタノール:<0.1%
遊離エタノール:<0.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)3.2gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO30.0gを供給した。これに更にギ酸2.45gを添加した。pH値は4.27であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きGLYMO30.0gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.36のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.6%(w/w)
SiO2含有量:4.1%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:<0.1%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.3gならびにLevasil 100S/45 12gを予め装入した。pH値は4.17であった。供給装置を介してビス−AMEO30gを供給した。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、GLYMO30.0gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.30のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:11.9%(w/w)
SiO2含有量:5.2%
遊離メタノール:0.7%
遊離エタノール:0.6%
二重外壁、供給装置及び還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)6.9gを予め装入した。pH値は4.34であった。供給装置を介してビス−AMEO50.0gを供給した。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、DMDMO9.6gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.16のpH値を有し、貯蔵安定性である不透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:8.90%(w/w)
SiO2含有量:4.3%
遊離メタノール:0.1%
遊離エタノール:0.3%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gと塩酸(濃度HCl=37%)7.8gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO34.0gを供給した。pH値を塩酸(37%濃度)0.33gで2.04に調節した。これを60℃で30分間撹拌した。引き続きMTES(メチルトリエトキシシラン)40gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。次に、新たにビス−AMEO3gを添加した。その際に、pH値は5.4に上がった。新たに塩酸(37%濃度)0.37gを添加することによりpH値を3.2に調節した。引き続き、新たにビス−AMEO3.0gを添加し、その際にpH値が6.0に上がった。塩酸(37%濃度)0.74gの添加により、pH値を4.1に調節した。引き続き、アルコール/水−混合物を65℃の塔底温度かつ130〜200mbarの圧力下に取り去った。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.30のpH値を有し、貯蔵安定性である不透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.1%(w/w)
SiO2含有量:5.7%
遊離エタノール:1.7%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gと塩酸(濃度HCl=37%)9.3gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。pH値を塩酸(37%濃度)2.41gで2.05に調節した。これを60℃で30分間撹拌した。引き続きMTES(メチルトリエトキシシラン)40gを添加し、かつ65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。1.75のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.6%(w/w)
SiO2含有量:5.7%
遊離エタノール:1.5%
二重外壁、供給装置及び還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水426.9gとギ酸(HCOOH濃度=85%)5.1gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO40.0gを供給した。これに更にギ酸0.55gを添加した。pH値は4.30であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、N−ホルミル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン14.0gとMTES14.0gから成る混合物を供給した。pH値は4.3であった。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.1のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.3%(w/w)
SiO2含有量:4.5%
遊離エタノール:0.2%
二重外壁、供給装置及び還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gとギ酸(HCOOH濃度=85%)6.0gを予め装入した。引き続き、供給装置を介してビス−AMEO50.0gを供給した。これに更にギ酸2.51gを添加した。pH値は4.28であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続きN−ホルミル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン19.20gを供給した。pH値は4.3であった。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.07のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:12.7%(w/w)
SiO2含有量:5.1%
遊離エタノール:0.2%
磁気撹拌機及び温度装置及びN2−供給管を備えた250mlのマルチネックフラスコ内に、ビス−AMEO40.0g、MTES40.0g及びエタノール40.0gを予め装入した。撹拌しながら、水4.0gを供給した。反応混合物を60℃で1時間撹拌した。供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.0gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。引き続き、供給装置を介して事前に加水分解した反応混合物を60℃で供給した。これに更にギ酸1.00gを添加した。pH値は4.25であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.24のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:9.9%(w/w)
SiO2含有量:5.1%
遊離エタノール:0.3%
磁気撹拌機及び温度装置及びN2−供給管を備えた250mlのマルチネックフラスコ内に、ビス−AMEO40.0g、MTES40.0g及びエタノール40.0gを予め装入した。撹拌しながら、水8.0gを供給した。反応混合物を60℃で1/4時間撹拌した。供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.0gとギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。引き続き、供給装置を介して事前に加水分解した反応混合物を60℃で供給した。これに更にギ酸0.93gを添加した。pH値は4.27であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.3のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.2%(w/w)
SiO2含有量:6.0%
遊離エタノール:1.4%
磁気撹拌機及び温度装置及びN2−供給管を備えた250mlのマルチネックフラスコ内に、ビス−AMEO40.0g、MTES40.0g及びエタノール40.0gを予め装入した。撹拌しながら、ギ酸(HCOOH濃度=85%)5.5gを一気に添加した。引き続き、水3.2gを供給した。反応混合物を60℃で1時間撹拌した。供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00gを予め装入した。供給装置を介して、事前に加水分解した混合物を60℃で供給した。これに更にギ酸0.23gを添加した。pH値は4.10であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き、65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.00のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:10.0%(w/w)
SiO2含有量:5.8%
遊離エタノール:1.0%
供給装置と還流冷却器を備えた10リットルの撹拌装置内に、水5000.00gと85%濃度のギ酸95.34gを予め装入した。供給装置により、ビス−AMEO750gをゆっくり供給した。これに更にギ酸11.66gを添加した。pH値は4.30であった。これを65℃で3時間間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は5000gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-950フィルタープレートにより濾過した。4.25のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:8.9%(w/w)
SiO2含有量:3,7%
遊離エタノール:1.7%
供給装置と還流冷却器を備えた1リットルの撹拌装置内に、水400.00g、Levasil 100S 12g及びギ酸(HCOOH濃度=85%)4.75gを予め装入した。供給装置を介してビス−AMEO40.0gとMTES(メチルトリエトキシシラン)80gから成る混合物を供給した。これにギ酸2.54gを添加した。pH値は4.24であった。これを60℃で90分間撹拌した。引き続き65℃で2時間撹拌した。その後に、60〜65℃かつ130〜200mbarでアルコール/水−混合物を留去した。残留物の最終重量は400gであった。前記生成物を室温にてSeitz-T-2100フィルタープレートにより濾過した。4.27のpH値を有し、貯蔵安定性である透明で黄色がかった液体が得られた。
残留物:14.9%(w/w)
SiO2含有量:10.2%
遊離エタノール:1.0%
1.方法
1.1 ガラスプレートの被覆
塗布前に表面を洗浄し、特にオイルフリーであることに注意した。ガラス表面(ガラスプレートの大きさ0.07×0.15m)を前処理した。ガラスプレートをイソプロパノールで事前に洗浄し、かつ水性酸化セリウム研磨剤で活性化した。乾き始めた酸化セリウムをペーパータオルで完全に除去した。
鉛筆硬度試験をISO 15184に倣って"ERICHSON Scratch Hardness Tester Model 291"を用いて実施した。これらの試験結果は表2にまとめてある。
被覆したガラスプレートを沸騰した蒸留水中に1時間置いた。試験結果は表2と3にまとめてある。煮沸試験後の被覆の視覚的評価は以下の評点により行った。
(−)=破壊もしくは溶解した層
(0)=前処理したが粗く、疎水性の失われた層
(+)=変化の無い層
静止接触角の測定は、DIN EN 828に従い、KRUESS社製の接触角測定器G-15を用いて多重測定することにより行った。疎水性特性の検査には、静止接触角(RW)を蒸留水で測定した。疎油特性の検査には、Kaydol(鉱油)で静止接触角(RW)を測定した。
試験体(キューブ、縁の長さ=5cm=0.0015m2)の処理は、実施例からのシラン水溶液中に浸漬することにより行った。るつぼ挟みを用いて試験体を2×5秒間、水性シラン系に浸漬した。浸漬工程の間の待ち時間は1分間であった。試験体の検査を1日後に行った。結果は表4に示してある。
使用例5でのコンクリート表面の処理は、コンクリートプレート(1.5cm×7.5cm×15cm=0.02925m2)上にブラシで1回塗布することにより行った。3日間の停止時間の後に、抗落書き−高速試験を実施した。
次に倣って行った:抗落書き登録団体の品質基準の落書き除去及び防止の方法、技術及び材料を評価する工業規則(1998年5月18日時点)。
除去 0〜30% (実質的に色の除去なし)=1点
除去 30〜75% (部分的な色の除去、色の輪郭が著しく識別できる)=2点
除去 75〜90% (大部分の色の除去、輪郭を持った陰が識別できる)=3点
除去 >90% (効果的な色の除去、輪郭を持った薄い陰が識別できる)=4点
完全な色の除去(孔の中に若干の着色顔料が有り得る)=5点
各々の洗浄の後に、個々のカラードットの視覚的評価によりCi値を算出した。これらは以下のように計算した。Ci値=(個々のカラードットの点数を加える*20)/(色点の数)Ci値max=100
防水効果を決定するために、パスツールピペットで蒸留水1mlを試験体に載せた。この場合に、パスツールピペットの先端は支持体表面に触れていなくてはならない。10分後に水滴を振り落とし、かつ湿潤度を視覚的に評価した。
0=液滴を弾く
1=液滴が吸収されない → 湿りなし
2=液滴が吸収されない → 接触面が半分まで湿った
3=液滴が吸収されない → 接触面が完全に湿った
4=液滴が幾分か吸収される → 接触面が暗色を呈し、接触面が完全に湿った
5=液滴が50%まで吸収される → 接触面が暗色を呈する
6=液滴が完全に吸収される → 接触面が暗色を呈する。
例1からの製品10.0gを水性製品Dynasylan(R) F88151.0gと混合した。この混合物を12μmのドクターブレードで洗浄したガラスプレート(サイズ=8×15cm)上に塗布した。これから生じた被覆を室温で1時間乾燥させ、かつ引き続き循環空気乾燥棚中、150℃で30分間後硬化させた。これから生じた被覆は、透明で非常に硬くかつ極めて顕著な疎水性と疎油特性を示した。この層は、Edding 800 パーマネントマーカーで書けなかった。
使用例1に対する比較として、水性製品Dynasylan(R) F8815を12μmのドクターブレードで洗浄したガラスプレート(サイズ=8×15cm)上に塗布した。ガラス表面は完全に湿らなかった。これから生じた被覆を室温で1時間乾燥させ、かつ引き続き循環空気乾燥棚中、150℃で30分間後硬化させた。これから生じた被覆は、非常に柔らかく、かつ乳白色の外観を有した。
例40からの生成物5.0gを水性製品Dynasylan(R) Hydrosil 2926 5.0gと混合した。この混合物を12μmのドクターブレードで洗浄したガラスプレート(サイズ=8×15cm)上に塗布した。これから生じた被覆を室温で1週間乾燥させた。これを鉛筆硬度HBに固定した。
使用例2に対する比較として、水性製品Dynasylan(R) HS2926を12μmのドクターブレードで洗浄したガラスプレート(サイズ=8×15cm)上に塗布した。ガラス表面は完全に湿らなかった。これから生じた被覆は、硬化せずにかつ極めて粘性であった。
例43からの生成物50.0gをDynasylan(R) F8815 50.0gと混合した。これから生じた被覆調製物を1.7の工程によりコンクリート表面(サイズ=1.5cm×7.5cm×15cm)上に塗布した。これらの試験結果は表1に記載されている。
例12、18及び19からの生成物を1.1の方法によりガラス表面上に塗布した。被覆の硬化は1週間後に行った。結果は表3にある。
研磨した特殊鋼表面を例41からの生成物で片側を被覆した。これに、例41からの調製物をスポンジで塗布した。室温で1日架橋した後に、被覆表面を被覆していない特殊鋼表面と比較した。
実施:
Dynasylan(R) SIVO 110と例1から製造された生成物を室温(21〜25℃)にて20mlシンチレーションボトル内で磁気撹拌機を用いて混合:例1からの生成物40.0gをSIVO 110 60.0gと混合した。混合の約30分後に、エチルアセテートで洗浄したアルミニウム試験薄板(Pausch社製、合金: 5005 H024)上に塗布した。そのために、前記混合物を4μmのドクターブレードで塗布し、室温(21〜25℃)で乾燥させ、かつヘレウス(Heraeus)循環空気乾燥棚中150℃で10分間硬化させた(乾燥層厚さ≦1μm)。
図2 ビス−アミノ官能性シリコン化合物と加水分解したエポキシシラン縮合体から成る被覆。
Claims (78)
- ビス−アミノ官能性シリコン化合物と水を含有する実質的に水溶性の組成物であって、前記シリコン化合物がアルコキシシランから誘導され、かつ鎖状、環状、架橋構造及び/又は立体架橋構造を形成する架橋構造エレメントを有し、その際、少なくとも1つの構造は理想的な形で一般式I
(R2O)[(R2O)1-x(R3)xSi(B)O]b[(Y)2Si(A)Si(Y)2O]a[Si(C)(R5)y(OR4)1-yO]c[Si(D)(R7)u(OR6)1-uO]d[Si(E)(R8)v(OR9)1-vO]w R9・(HX)e (I)
[式中、アルコキシシランから誘導される構造エレメント中
− Aは、ビス−アミノアルキル基であり、
− Bは、アミノアルキル基であり、
− Cは、アルキル基であり、
− Dは、エポキシ基、又はエーテル基であり、かつ
− Eは、有機官能基に相応し、
− Yは、OR1に相応するか、又は互いに無関係に架橋及び/又は立体架橋構造の形のOR1又はO1/2に相応し、
− R1、R2、R4、R6及び/又はR9は実質的に水素であり、かつR3、R5、R7及び/又はR8は、有機官能性基に相応し、かつ
− HXは酸であり、その際、Xは無機又は有機酸基であり、
− 0≦x≦1、0≦y≦1、0≦u≦1、a≧1、b≧0、c≧0、d≧0、
w≧0、e≧0であり、かつ(a+b+c+d+w)≧2である]
に相応し、前記組成物は実質的に有機溶剤不含であり、かつ架橋の際に実質的にアルコールを放出しない、ビス−アミノ官能性シリコン化合物と水を含有する実質的に水溶性の組成物。 - 構造エレメント中のAは、一般式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
から誘導されるビス−アミノアルキル基に相応し、Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
[式中、i、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1=1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基である]
のビス−アミノ官能基に相応する、請求項1に記載の組成物。 - 構造エレメント中のBは、一般式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、R3は、1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基である]
から誘導されるアミノ官能基に相応し、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のうち1つのアミノ官能基に相応する、請求項1に記載の組成物。 - 構造エレメント中のCは、一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
から誘導されるアルキル基に相応する、請求項1に記載の組成物。 - 構造エレメント中のDは、一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
から誘導されるエポキシ基、又はエーテル基に相応する、請求項1に記載の組成物。 - 構造エレメント中のEは、一般式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基である]
から誘導される有機官能基に相応し、
−Eは、基R8*−Ym−(CH2)s−であり、R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、かつ/又は
−Eはビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつ
−R9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である、請求項1に記載の組成物。 - 90℃を上回る引火点を有する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の組成物。
- 0℃以上で既に架橋する、請求項1から7までのいずれか1項に記載の組成物。
- 15〜25℃の間で架橋する、請求項8に記載の組成物。
- 1〜5.4の間のpH値を有する、請求項1から9までのいずれか1項に記載の組成物。
- 3.0〜5.4の間のpH値を有する、請求項10に記載の組成物。
- 3.5〜5.4の間のpH値を有する、請求項11に記載の組成物。
- 使用されるアルコキシシランに対して、7.5〜40質量%のシリコン化合物の含有量を有する、請求項1から12までのいずれか1項に記載の組成物。
- 3.0〜4.8のpH値の場合に、12.5〜30質量%のシリコン化合物の含有量を有する、請求項13に記載の組成物。
- アルキル基を構造エレメントに含んでいるCに関しては、c≧1である、請求項1から14までのいずれか1項に記載の組成物。
- pH値は12未満である、請求項15に記載の組成物。
- 密閉された容器内で、室温で少なくとも3カ月の安定性を有する、請求項1から16までのいずれか1項に記載の組成物。
- 酸は、ギ酸、酢酸、酸性シリカゾル、氷酢酸、硝酸、硫酸及び/又はリン酸である、請求項1から17までのいずれか1項に記載の組成物。
- 水又は水溶液で希釈可能である、請求項1から18までのいずれか1項に記載の組成物。
- 任意に希釈可能である、請求項19に記載の組成物。
- 実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法において、水、酸及び場合によりアルコール及び場合により触媒を予め装入し、かつ
− 式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1は1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、
R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であるか、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基である]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を
− 加水分解し、かつアルコールを実質的に除去することを特徴とする、実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法。 - ビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する実質的に水溶性の組成物を製造する方法において、一般式II、IV及び/又はVIIの少なくとも1つの水溶性シランの水溶液又はそれらの水溶性縮合生成物又は一般式VIのシランの水溶性加水分解生成物を予め装入し、その際、
− 式IIの
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1は1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
のシランは、ビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、
− 式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
のシランはアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、
− 式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、エポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応し、
− 式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、アルキルアルコキシシランに相応する、
かつ場合により酸、場合によりアルコール及び場合により触媒及び場合により一般式II、IV、VI、VII及び/又はVIIIの1つ以上の更なるシラン又はそれらの縮合生成物を添加し、
− その際、添加した式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、アルキルアルコキシシランに相応し、
− 式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
のシランは、有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物に相応する、かつ
− 加水分解し、かつアルコールを実質的に除去することを特徴とする、実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法。 - 一般式II、IV、VI、VII及び/又はVIIIのシラン、それらの縮合生成物及び/又はこれらの混合物を水溶液及び/又はアルコール性溶液に添加する、請求項21又は22に記載の方法。
- 一般式II、IV、VI、VII及び/又はVIIIのシラン及び/又はその縮合生成物を連続して又は混合物として添加する、請求項21から23までのいずれか1項に記載の方法。
- 少なくとも1つのシランを添加した後に更に水を添加する、請求項21から24までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解の間の含水量は50〜90質量%である、請求項21から25までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解の間の含水量は65〜90質量%である、請求項25に記載の方法。
- 加水分解の間のpH値は2.0〜5.4である、請求項21から27までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解の間のpH値は3.0〜5.4である、請求項28に記載の方法。
- pH値は酸の更なる添加により調節される、請求項21から29までのいずれか1項に記載の方法。
- シリコン化合物は全部で7.5〜40質量%の含有量で存在する、請求項21から30までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解は水性−アルコール性溶液中で12未満のpH値で実施される、請求項21から25までのいずれか1項に記載の方法。
- 実質的に加水分解されていない式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランを使用する、請求項21に記載の方法。
- 式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランと一般式VIのアルキルアルコキシシランを使用する、請求項21から33までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解及び場合により縮合は55〜80℃で実施される、請求項21から34までのいずれか1項に記載の方法。
- 無機充填剤を添加する、請求項21から35までのいずれか1項に記載の方法。
- 組成物が実質的にアルコール不含になるまで水を添加し、かつアルコール/水−混合物を除去する、請求項21から36までのいずれか1項に記載の方法。
- 組成物のpH値はアルコールを除去した後に1.0〜5.4の間である、請求項21から37までのいずれか1項に記載の方法。
- 組成物のpH値はアルコールを除去した後に3.0〜5.4の間である、請求項38に記載の方法。
- ビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する実質的に水溶性の組成物を製造する方法において、有機溶剤、場合により水、場合により酸及び/又は場合により触媒を予め装入し、かつ
− 式IIの
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[式中、Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(ここでi、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1は1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、
x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のアミノ官能基のうち1つに相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基である]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくともエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルコキシ基である]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン、及び/又はその縮合生成物を
− 加水分解し、かつ加水分解アルコールと溶剤を実質的に除去することを特徴とする、実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法。 - 溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール及び/又はこれらの混合物を含むグループから選択される少なくとも1つのアルコールである、請求項40に記載の方法。
- 一般式II、IV、VI、VII及び/又はVIIIのシラン、それらの縮合生成物及び/又はこれらの混合物を水溶液及び/又はアルコール性溶液に添加する、請求項40又は41に記載の方法。
- 一般式II、IV、VI、VII又はVIIIのシラン及び/又はその縮合生成物は、連続して又は混合物として添加される、請求項40から42までのいずれか1項に記載の方法。
- 実質的に加水分解されていない式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランを使用する、請求項40から43までのいずれか1項に記載の方法。
- 式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランと一般式VIのアルキルアルコキシシランを使用する、請求項40から44までのいずれか1項に記載の方法。
- アルコールを予め装入し、一般式IIの少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を添加し、かつ水及び場合により酸の添加により加水分解し、かつ場合により縮合する、請求項40から45までのいずれか1項に記載の方法。
- 引き続き、式VIの少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン、及び場合により式IVの少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン、場合により一般式VIIの少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン、及び場合により式VIIIの少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を連続して又は混合物として添加する、請求項46に記載の方法。
- 加水分解の間のpH値は12未満である、請求項40から47までのいずれか1項に記載の方法。
- 無機充填剤を添加する、請求項40から48までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解及び場合により縮合は55〜80℃の温度で実施される、請求項40から49までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解及び場合により縮合の後のpH値は1.0〜7.0の間の値に調節される、請求項40から50までのいずれか1項に記載の方法。
- pH値は酸の添加により調節される、請求項40から51までのいずれか1項に記載の方法。
- 水を添加し、かつ組成物が実質的に溶剤不含になるまで溶剤/水−混合物が除去される、請求項40から52までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解アルコールと溶剤を除去した後の組成物のpH値は1.0〜5.4の間である、請求項40から53までのいずれか1項に記載の方法。
- 加水分解アルコールと溶剤を除去した後の組成物のpH値は3.0〜5.4の間である、請求項54に記載の方法。
- 実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法において、
− 一般式VII
D−Si(R7)u(OR6)3-u (VII)
[式中、
u=0又は1であり、その際、Dは3−グリシドキシアルキル基、3−グリシドキシプロピル基、エポキシアルキル基、エポキシシクロアルキル基、ポリアルキルグリコールアルキル基、又はポリアルキルグリコール−3−プロピル基であり、R7は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、かつR6は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのエポキシ−アルコキシシラン又はエーテル−アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び/又は
− 一般式VI
C−Si(R5)y(OR4)3-y (VI)
[式中、
y=0又は1であり、その際、Cは1〜20個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、R5は1〜12個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基及び/又はアリール基であり、R4は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つのアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び/又は
− 式VIII
E−Si(R8)v(OR9)3-v (VIII)
[式中、
v=0又は1であり、R8は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基であり、Eは基R8*−Ym−(CH2)s−であり、その際R8*は、1〜9個の炭素原子を有するモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアルキル基であるか、又はモノ−、オリゴ−又はペルフルオロアリール基であり、その際、YはCH2−基、O−基、アリール基、又はS−基に相応し、かつm=0又は1であり、かつs=0又は2であり、又はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、メルカプトアルキル基、スルファンアルキル基、ウレイドアルキル基、アクリロキシアルキル基、又は1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルコキシ基であり、かつR9は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝又は環状アルキル基に相応する]
の少なくとも1つの有機官能性アルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を予め装入し、かつ
− 水の存在で、かつ酸及び/又は触媒と水、及び場合により溶剤の存在で少なくとも部分的に加水分解し、かつ
− 引き続き2番目の加水分解工程で
− 更なる水及び場合により更なる酸の存在で、
− 式II
(OR1)3Si−A−Si(OR1)3 (II)
[Aは式III
−(CH2)i−[NH(CH2)f]gNH[(CH2)f* NH]g*−(CH2)i*− (III)
(式中、i、i*、f、f*、g又はg*は、同じ又は異なっていてよく、i及び/又はi*=0〜8であり、f及び/又はf*=1、2又は3であり、g及び/又はg*=0、1又は2であり、かつR1=1〜4個の炭素原子を有する線状、環状及び/又は分枝アルキル基に相応する)
のビス−アミノ官能基である]
の少なくとも1つのビス−アミノアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物、及び場合により
− 式IV
B−Si(R3)x(OR2)3-x (IV)
[式中、x=0又は1であり、R2は、1〜4個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基であり、かつBは以下の一般式Va又はVb
R10 h*NH(2-h*)[(CH2)h(NH)]j[(CH2)l(NH)]n−(CH2)k−(Va)
(式中、0≦h≦6;h*=0、1又は2、j=0、1又は2;0≦l≦6;n=0、1又は2;0≦k≦6であり、かつR10は、ベンジル基、アリール基、ビニル基、ホルミル基及び/又は1〜8個の炭素原子を有する線状、分枝及び/又は環状アルキル基に相応する)及び/又は
[NH2(CH2)m]2N(CH2)p− (Vb)
(式中、0≦m≦6かつ0≦p≦6である)
のうち1つのアミノ官能基に相応する]
の少なくとも1つのアミノアルキルアルコキシシラン及び/又はその縮合生成物を添加し、
− 加水分解し、かつアルコールを実質的に除去する
ことを特徴とする、実質的に水溶性のビス−アミノ官能性で、かつ実質的にアルコキシ基不含のシリコン化合物、水及び酸を含有する組成物を製造する方法。 - 一般式VI、VII、VIIIのシラン及び/又はその縮合生成物を連続して又は混合物として添加する、請求項56に記載の方法。
- 2番目の加水分解工程で更に水を添加する、請求項56又は57に記載の方法。
- 加水分解の間のpH値は2.0〜5.4である、請求項56から58までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸を更に添加することによりpH値を調節する、請求項56から59までのいずれか1項に記載の方法。
- 実質的に加水分解されていない式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランを使用する、請求項56から60までのいずれか1項に記載の方法。
- 式IIのビス−アミノアルキルアルコキシシランと一般式VIのアルキルアルコキシシランを使用する、請求項56から61までのいずれか1項に記載の方法。
- 無機充填剤を添加する、請求項56から62までのいずれか1項に記載の方法。
- 水を添加し、かつ組成物が実質的にアルコール不含になるまでアルコール/水−混合物が除去される、請求項56から63までのいずれか1項に記載の方法。
- アルコールを除去した後の組成物のpH値は1.0〜5.4の間である、請求項56から64までのいずれか1項に記載の方法。
- アルコールを除去した後の組成物のpH値は3.0〜5.4の間である、請求項65に記載の方法。
- 請求項21から39までのいずれか1項に記載の方法により得られる組成物。
- 請求項40から55までのいずれか1項に記載の方法により得られる組成物。
- 請求項56から66までのいずれか1項に記載の方法により得られる組成物。
- シランベースの組成物と混合した形の、請求項1から69までのいずれか1項に記載の組成物の使用。
- 混合物は、アルキル−、アルケニル−、アリール−、エポキシ−、ジヒドロキシアルキル−、アミノアルキル−、ポリアルキルグリコールアルキル−、ハロゲンアルキル−、メルカプトアルキル−、スルファンアルキル−、ウレイドアルキル−、アクリロキシアルキル−官能性及び/又はテトラアルコキシ−官能性シラン及び/又はこれらの混合物をベースとするシランベースの組成物と一緒に、ビス−アミノ官能性シリコン化合物を含む組成物を含有している、請求項70に記載の使用。
- 混合物の硬化温度は、シランベースの組成物よりも低い、請求項70又は71に記載の使用。
- 支持体表面を変性、処理するための、及び/又はバリヤー層を支持体表面上に構成するための、請求項1から69までのいずれか1項に記載の組成物又は請求項70又は71に記載の混合物の使用。
- 支持体表面を疎水化するための、腐食防止としての、岩石を固化するための及び/又は疎油化するための、請求項73に記載の組成物又は混合物の使用。
- 特殊鋼、アルミニウム、鋼鉄、チタンのような金属、ガラス、プラスチック、ポリマー、鉱物表面、コンクリート、煉瓦、モルタル、セメントの床、砂岩、天然繊維、紙、木材を疎水化するための、ガラス表面、金属表面、鉱物表面、コンクリート、モルタル、セメントの床、砂岩又は天然繊維、紙、木材をプライマー処理するための、金属、コンクリート、モルタル及び/又は煉瓦の腐食防止としての、及び/又は水性塗料調製物又は樹脂調製物中の添加剤としての、又は抗指紋性被覆としての、請求項73又は74に記載の組成物又は混合物の使用。
- 未処理又は前処理した金属もしくは金属表面、特にリン酸塩処理、クロム酸塩処理、亜クロム酸塩処理又は亜鉛めっきされた金属表面の、ならびにそれ自体がリン酸塩処理、クロム酸塩処理、亜クロム酸塩処理してある亜鉛めっきされた金属表面の、腐食防止としての、請求項73から75までのいずれか1項に記載の組成物又は混合物の使用。
- 請求項73から76までのいずれか1項に記載の組成物の使用により得られた被覆製品又は固定製品。
- 鋼鉄補強材、コンクリート管及び/又はコンクリート既成部材である、請求項77に記載の製品。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007040807.4 | 2007-08-28 | ||
DE102007040807 | 2007-08-28 | ||
DE200810007261 DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2008-02-01 | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
DE102008007261.3 | 2008-02-01 | ||
PCT/EP2008/058509 WO2009030538A1 (de) | 2007-08-28 | 2008-07-02 | Wässrige silansysteme basierend auf bis(trialkoxysilylalkyl)aminen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010537016A true JP2010537016A (ja) | 2010-12-02 |
JP6004607B2 JP6004607B2 (ja) | 2016-10-12 |
Family
ID=40299240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010522275A Active JP6004607B2 (ja) | 2007-08-28 | 2008-07-02 | ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミンをベースとする水性シラン系 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8298679B2 (ja) |
EP (2) | EP2183321B1 (ja) |
JP (1) | JP6004607B2 (ja) |
KR (1) | KR101592608B1 (ja) |
CN (2) | CN102634025A (ja) |
DE (1) | DE102008007261A1 (ja) |
ES (2) | ES2643948T3 (ja) |
WO (1) | WO2009030538A1 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014515771A (ja) * | 2011-03-25 | 2014-07-03 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | シランベースの水性防食配合物 |
KR20170126979A (ko) * | 2015-03-06 | 2017-11-20 | 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드 | 부분 반응된 실란 프라이머 조성물 |
KR20190126575A (ko) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 주식회사 인실리코 | 보온 단열재용 실리콘계 발수제 및 이를 이용한 보온 단열재 |
JP2020520396A (ja) * | 2017-05-03 | 2020-07-09 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | 亜鉛末塗料用の貯蔵安定性前駆体としての水性ゾル・ゲル組成物 |
US11173692B2 (en) | 2019-12-19 | 2021-11-16 | Prc-Desoto International, Inc. | Free radical polymerizable adhesion-promoting interlayer compositions and methods of use |
US11608458B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-03-21 | Prc-Desoto International, Inc. | Adhesion-promoting interlayer compositions containing organic titanates/zirconates and methods of use |
US11624007B2 (en) | 2020-01-29 | 2023-04-11 | Prc-Desoto International, Inc. | Photocurable adhesion-promoting compositions and methods of use |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004031785A1 (de) * | 2004-07-01 | 2006-01-26 | Degussa Ag | Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion |
DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
DE102005004872A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung |
DE102005032427A1 (de) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Degussa Ag | Aluminiumoxid-Dispersion |
DE102005053071A1 (de) * | 2005-11-04 | 2007-05-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung |
DE102006017701A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-25 | Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
DE102006039269A1 (de) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium |
DK1982964T3 (da) | 2007-04-20 | 2019-05-20 | Evonik Degussa Gmbh | Blanding indeholdende organosiliciumforbindelse og anvendelse heraf |
DE102007040246A1 (de) * | 2007-08-25 | 2009-02-26 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierungen |
DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
DE102007049743A1 (de) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
DE102009000614A1 (de) | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Evonik Degussa Gmbh | Fluorfreie Zusammensetzung zur wasserabweisenden Beschichtung von Oberflächen mit verbesserten Abperleigenschaften |
DE102009002499A1 (de) | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel |
DE102009002477A1 (de) | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Quartäre-aminofunktionelle, siliciumorganische Verbindungen enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung |
DE102009017822A1 (de) * | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Tris(alkoxysilylalkyl)aminen und deren Verwendung |
DE102010030114B4 (de) | 2009-08-11 | 2021-11-04 | Evonik Operations Gmbh | Wässriges Silansystem für den Blankkorrosionsschutz, Verfahren zu dessen Herstellung, dessen Verwendung sowie mit diesem behandelte Gegenstände und Korrosionsschutzschicht |
DE102010002356A1 (de) | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Zusammensetzungen von mit oligomeren Siloxanolen funktionalisierten Metalloxiden und deren Verwendung |
RU2543756C2 (ru) | 2010-04-01 | 2015-03-10 | Эвоник Дегусса Гмбх | Гидравлически схватывающаяся смесь для строительных материалов, пригодных для легкой уборки |
WO2011121027A1 (de) | 2010-04-01 | 2011-10-06 | Evonik Degussa Gmbh | Härtbare mischung |
DE102010003870A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Verwendung wässriger Alkyl- und Amino-funktionalisierter Silizium enthaltender Co-Kondensate zur Massenhydrophobierung mineralischer Baustoffe |
DE102010003869A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Alkyl- und Amino-funktionalisierte Siloxane mit Bis(alkoxysilyl)amin zur Massenhydrophobierung mineralischer Baustoffe |
DE102010003868A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Zusammensetzung geeignet zur Massenmodifizierung von mineralischen Baustoffen |
JP5182535B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2013-04-17 | 信越化学工業株式会社 | 水性シロキサン塗料組成物及びその製造方法、表面処理剤、表面処理鋼材並びに塗装鋼材 |
DE102010031178A1 (de) | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Evonik Degussa Gmbh | Quartäre-aminoalkoholfunktionelle, siliciumorganische Verbindungen, diese enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung |
DE102010031184A1 (de) | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Siliciumdioxidpartikel und Kationisierungsmittel aufweisenden Dispersion |
US9029491B2 (en) * | 2010-12-22 | 2015-05-12 | Teknologisk Institut | Repellent coating composition and coating, method for making and uses thereof |
DE102011081074A1 (de) * | 2011-08-17 | 2013-02-21 | Areva Np Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Uranoxid als aktive Komponente enthaltenden Katalysators |
WO2013073401A1 (ja) * | 2011-11-14 | 2013-05-23 | 関西ペイント株式会社 | 金属表面処理剤用水性バインダ組成物 |
EP2599844A1 (en) | 2011-12-02 | 2013-06-05 | PPG Industries Ohio Inc. | Coating composition for a food or beverage can |
DE102012206508A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Neue, einfach herstellbare, VOC reduzierte, umweltfreundliche (Meth)acrylamido-funktionelle Siloxan-Systeme Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verwendung |
DE102012206509A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Umweltfreundliches Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylamido-funktionellen Silanen |
DE102012206510A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Neue, einfach synthetisierbare, spontan wasserlösliche, im Wesentlichen VOC freie, umweltfreundliche (Meth)acrylamido-funktionelle Siloxanolsysteme, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verwendung |
KR101599954B1 (ko) * | 2013-08-08 | 2016-03-04 | 제일모직 주식회사 | 실리카계 절연층 형성용 조성물, 실리카계 절연층 및 실리카계 절연층의 제조방법 |
CN105531337B (zh) | 2013-09-16 | 2020-01-10 | 霍尼韦尔国际公司 | 含氟聚硅氧烷涂料 |
US9206322B2 (en) | 2013-09-27 | 2015-12-08 | National Taiwan University Of Science And Technology | Non-fluorinated coating materials with anti-fingerprint property, and evaluation method thereof |
EP2987835A1 (de) | 2014-08-22 | 2016-02-24 | Evonik Degussa GmbH | Hybridhärtung von wässrigen Silansystemen |
EP2987836A1 (de) | 2014-08-22 | 2016-02-24 | Evonik Degussa GmbH | Hybridhärtung von wässrigen Silansystemen |
DE102015104945B4 (de) * | 2014-10-01 | 2016-05-04 | Hochschule Karlsruhe-Technik Und Wirtschaft | Markersystem, inbesondere für die Bestimmung der Eindringtiefe von siliziumorganischen Hydrophobierungsmitteln in mineralischen Materialien |
CN107206418A (zh) * | 2014-10-30 | 2017-09-26 | 贝克曼考尔特公司 | 用于涂层服务的组合物和方法 |
CN107108880A (zh) | 2014-12-08 | 2017-08-29 | 3M创新有限公司 | 氟化硅烷化合物、组合物及制品 |
CN107001858B (zh) * | 2014-12-08 | 2020-05-15 | 3M创新有限公司 | 包含改性的二有机硅氧烷聚合物的化合物 |
KR102505019B1 (ko) * | 2015-05-28 | 2023-03-03 | 에보니크 오퍼레이션즈 게엠베하 | 아미노알킬트리알콕시실란으로부터 수성 가수분해물을 제조하는 방법 |
CN104927650A (zh) * | 2015-06-15 | 2015-09-23 | 北京化工大学 | 一种功能涂料的制备方法 |
DE102015225883A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Bis(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, ein Verfahren zur deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102015225879A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
EP3199597A1 (en) | 2016-01-29 | 2017-08-02 | Jotun A/S | Shop primer |
DE102016215260A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verwendung einer (Alkylalkoxysily)amin-, Bis-(alkylalkoxysilyl)amin und/oder Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-enthaltenden Zusammensetzung |
BR112019007547A2 (pt) * | 2016-10-12 | 2019-07-02 | Us Energy | sorvente de amina imobilizado estável e regenerável e método para sua produção, métodos de utilização de um material sorvente para capturar elementos a partir de uma fonte |
US10392408B2 (en) | 2017-06-27 | 2019-08-27 | Avmor Ltd | Siloxane oligomers for the treatment of solid surfaces |
KR102703889B1 (ko) | 2017-07-25 | 2024-09-05 | 요툰 에이/에스 | 수성 프라이머 |
US11939490B2 (en) * | 2017-07-31 | 2024-03-26 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable surface-protective coating composition, processes for its preparation and application to a metallic substrate and resulting coated metallic substrate |
CN111094444B (zh) * | 2017-09-25 | 2022-06-03 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 水性聚合物组合物 |
CN109957111A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种自固化金属防腐蚀杂化硅溶胶及其制备方法与应用 |
WO2020086599A1 (en) | 2018-10-22 | 2020-04-30 | Chevron U.S.A. Inc. | Ph control in fluid treatment |
CN111500191A (zh) | 2019-01-30 | 2020-08-07 | 佐敦有限公司 | 水性底漆 |
EP4400551A1 (en) * | 2019-03-01 | 2024-07-17 | Henkel AG & Co. KGaA | Invisible-fingerprint coatings and process for forming same |
EP4103653A1 (en) | 2020-02-14 | 2022-12-21 | Evonik Corporation | Anti-corrosion kit and anti-corrosion agent formed therefrom |
JP2023523983A (ja) * | 2020-04-27 | 2023-06-08 | ベーアーエスエフ・エスエー | 高い透過率、高い耐摩耗性及び低い摩擦を特色とする、指紋耐性コーティング用の親油性シラン |
WO2022155081A1 (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-21 | Glen Raven, Inc. | Polysiloxane compositions and coatings and methods for producing the same |
WO2024078990A1 (en) * | 2022-10-10 | 2024-04-18 | Evonik Operations Gmbh | Method for treating the surface of glass |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08208997A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-08-13 | Huels Ag | 水を基礎とするオルガノポリシロキサン含有組成物、その製造法、該組成物からなる疎水性化剤および建築物保護剤、被覆剤およびシラン化剤、流動性の性質を改善するための薬剤、付着助剤、分離剤、架橋剤ならびに着色添加剤およびラッカー添加剤 |
WO2000039177A2 (en) * | 1998-12-30 | 2000-07-06 | University Of Cincinnati | Silane treatment for electrocoated metals |
JP2000247984A (ja) * | 1999-02-27 | 2000-09-12 | Degussa Huels Ag | アミノ官能性ケイ素化合物の水ベース組成物、その製造法ならびにその使用 |
JP2003504200A (ja) * | 1999-07-19 | 2003-02-04 | ザ ユニバーシティ オブ シンシナティ | 混合シランコーティング |
WO2005014741A1 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-17 | Degussa Ag | Composition of a mixture of aminoalkyl-functional and oligosilylated aminoalkyl-functional silicon compounds, its preparation and use |
WO2008025846A2 (de) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Sika Technology Ag | Wässrige haftmittlerzusammensetzung umfassend ein aminosilan und ein mercaptosilan |
Family Cites Families (97)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5051129A (en) | 1990-06-25 | 1991-09-24 | Dow Corning Corporation | Masonry water repellent composition |
US5206285A (en) | 1990-12-21 | 1993-04-27 | Northrop Corporation | Aqueous coating of silane precursor from epoxy and amino trialkoxysilanes |
DE4233021A1 (de) | 1992-10-01 | 1994-04-07 | Huels Chemische Werke Ag | Organosilanpolykondensate |
DE4443825A1 (de) | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Huels Chemische Werke Ag | Wasserbasierende Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE19624032A1 (de) | 1996-06-17 | 1997-12-18 | Huels Chemische Werke Ag | Oligomerengemisch kondensierter Alkylalkoxysilane |
DE19639782A1 (de) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Huels Chemische Werke Ag | Glycidether-, Acryl- und/oder Methacryl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasser-Basis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19639783A1 (de) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Merck Patent Gmbh | Modifizierte Perlglanzpigmente für Wasserlacksysteme |
DE19649954A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organosiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Alkoholbasis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
US6713186B1 (en) | 1996-12-03 | 2004-03-30 | Degussa Ag | Fluoroalkyl-functional organosiloxane-containing compositions based on alcohol, a process for their preparation and their use |
DE19649953A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasserbasis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19649955A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasser/Alkohol-Basis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
TW436500B (en) | 1997-06-17 | 2001-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | N-[ω-(methyl),ω-(silyl)]alkyl-N-organocarboxamides, oligomeric and polycondensed Si-containing compounds thereof, processes for their preparation, and their use |
DE19818924A1 (de) | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Degussa | Oberflächenmodifizierte Füllstoffe, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19818923A1 (de) | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Degussa | Stabile Zusammensetzungen wasserlöslicher, Amino- und Alkenyl-funktioneller Organosiloxane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE19823390A1 (de) | 1998-05-26 | 1999-12-16 | Degussa | Oligomerisiertes Organopolysiloxan-Cokondensat, dessen Herstellung und dessen Verwendung |
DE19834990B4 (de) | 1998-08-03 | 2005-09-15 | Degussa Ag | Acryloxypropyl- oder Methacryloxypropyl-Gruppen enthaltende Siloxan-Oligomere, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19849308A1 (de) | 1998-10-27 | 2000-05-04 | Degussa | Aminopropyl-funktionelle Siloxan-Oligomere |
DE19904132C2 (de) | 1999-02-03 | 2002-11-28 | Degussa | Zusammensetzung fluororganofunktioneller Silane und Siloxane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE19964309C2 (de) | 1999-11-15 | 2003-07-03 | Degussa | Triamino- und fluoralkylfunktionelle Organosiloxane oder deren Gemische |
DE50016060D1 (de) | 2000-09-26 | 2011-03-03 | Evonik Degussa Gmbh | Eisenoxid- und Siliciumdioxid-Titandioxid-Mischung |
DE10049153A1 (de) | 2000-09-27 | 2002-04-11 | Degussa | Farbe, Lack, Schadstoffe, Bioorganismen, Öl, Wasser, und/oder Schmutz abweisende Beschichtung |
DE10054345A1 (de) | 2000-11-02 | 2002-05-08 | Degussa | Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
DE10056343A1 (de) | 2000-11-14 | 2002-05-16 | Degussa | Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxysiloxanen |
DE10056344A1 (de) | 2000-11-14 | 2002-05-16 | Degussa | n-Propylethoxysiloxane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE10065027A1 (de) | 2000-12-23 | 2002-07-04 | Degussa | Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
DE10126163A1 (de) | 2001-05-30 | 2002-12-05 | Degussa | Pharmazeutische Zubereitungen |
ATE280203T1 (de) | 2001-08-08 | 2004-11-15 | Degussa | Mit siliziumdioxid umhüllte metalloxidpartikel |
DE10149130A1 (de) | 2001-10-05 | 2003-04-10 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes, mit zweiwertigen Metalloxiden dotiertes Aluminiumoxid und wässerige Dispersion hiervon |
DE10152745A1 (de) | 2001-10-25 | 2003-05-15 | Degussa | Dispersion von Aluminiumoxid |
US7815936B2 (en) | 2001-10-30 | 2010-10-19 | Evonik Degussa Gmbh | Use of granular materials based on pyrogenically produced silicon dioxide in pharmaceutical compositions |
US20030108580A1 (en) | 2001-10-30 | 2003-06-12 | Steffen Hasenzahl | Use of granulates based on pyrogenically - produced silicon dioxide in cosmetic compositions |
DE10153803A1 (de) | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Degussa | Korrosionsinhibitor für Stahlbeton |
DE10163938A1 (de) | 2001-12-22 | 2003-07-10 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver mit an der Oberfläche angereichertem Siliciumdioxid, dessen Herstellung und Verwendung |
DE10203047A1 (de) | 2002-01-26 | 2003-08-07 | Degussa | Kationische Mischoxid-Dispersion, Streichfarbe und tintenaufnehmendes Medium |
DE10204470C1 (de) | 2002-02-05 | 2003-08-14 | Degussa | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen |
DE10204471C1 (de) | 2002-02-05 | 2003-07-03 | Degussa | Wässerige Dispersion enthaltend mit Ceroxid umhülltes Siliciumdioxidpulver, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
DE10205280C1 (de) | 2002-02-07 | 2003-07-03 | Degussa | Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren |
ATE273799T1 (de) | 2002-03-22 | 2004-09-15 | Degussa | Dispersion, streichfarbe und aufnahmemedium |
DE10218871A1 (de) | 2002-04-26 | 2003-11-13 | Degussa | Verfahren zur Imprägnierung von porösen mineralischen Substraten |
DE10225122A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Hochkonzentrierte wässrige Dispersionen enthaltend hydrophobe mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
DE10225123A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Hochkonzentrierte wässrige Dispersion enthaltend hydrophile mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
DE10225125A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Wässerige Dispersion enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
DE10229761B4 (de) | 2002-07-03 | 2004-08-05 | Degussa Ag | Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
US7374787B2 (en) | 2002-08-22 | 2008-05-20 | Dequssa Ag | Stabilized, aqueous silicon dioxide dispersion |
DE10250711A1 (de) | 2002-10-31 | 2004-05-19 | Degussa Ag | Pharmazeutische und kosmetische Zubereitungen |
DE10250712A1 (de) | 2002-10-31 | 2004-05-19 | Degussa Ag | Pulverförmige Stoffe |
DE10256267A1 (de) | 2002-12-03 | 2004-06-24 | Degussa Ag | Dispersion, Streichfarbe und Aufnahmemedium |
DE10259860A1 (de) | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Pulvergemisch bestehend aus Titandioxid, Zinkoxid und Zink-Titan-Mischoxid |
DE10260718A1 (de) | 2002-12-23 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Mit Siliziumdioxid umhülltes Titandioxid |
EP1599616B1 (de) | 2003-02-25 | 2012-04-11 | Chemetall GmbH | Verfahren zur beschichtung von metallischen oberflächen mit einem gemisch enthaltend mindestens zwei silane |
DE10316661A1 (de) | 2003-04-11 | 2004-11-04 | Degussa Ag | Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver |
DE10317066A1 (de) | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Metalloxid- und Metalloidoxid-Dispersionen |
DE10320779A1 (de) | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Degussa Ag | Korrosionsschutz auf Metallen |
DE10320765A1 (de) | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Degussa Ag | Mittel zur Beschichtung von Metallen zum Schutz vor Korrosion |
DE10330020A1 (de) | 2003-07-03 | 2005-01-20 | Degussa Ag | Hochgefüllte Silan-Zubereitung |
DE10336544A1 (de) | 2003-08-05 | 2005-02-24 | Degussa Ag | Zweikomponentenbeschichtungssystem für die Ausstattung glatter Oberflächen mit "Easy-to-clean" - Eigenschaften |
DE10337198A1 (de) | 2003-08-13 | 2005-03-17 | Degussa Ag | Träger auf Basis von Granulaten, die aus pyrogen hergestelltem Siliciumdioxiden hergestellt sind |
DE10361893A1 (de) | 2003-12-19 | 2005-07-21 | Degussa Ag | Spezielles Verfahren zur Herstellung von Fluoralkylgruppen tragenden Siliciumverbindungen durch Hydrosilylierung |
DE10360087A1 (de) | 2003-12-20 | 2005-07-21 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes, hochoberflächiges Aluminiumoxidpulver |
DE10360766A1 (de) | 2003-12-23 | 2005-07-28 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen |
DE102004004147A1 (de) | 2004-01-28 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte, mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloid/Metalloxide |
DE102004021092A1 (de) | 2004-04-29 | 2005-11-24 | Degussa Ag | Verwendung einer kationischen Siliciumdioxid-Dispersion als Textilveredlungsmittel |
DE102004025143A1 (de) | 2004-05-21 | 2005-12-08 | Degussa Ag | Ternäres Metall-Mischoxidpulver |
DE102004025767A1 (de) | 2004-05-26 | 2005-12-22 | Degussa Ag | Stabile Lösungen von N-substituierten Aminopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung |
DE102004031785A1 (de) | 2004-07-01 | 2006-01-26 | Degussa Ag | Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion |
DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
DE102004037043A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Blockkondensate organofunktioneller Siloxane, deren Herstellung, Verwendung sowie deren Eigenschaften |
DE102004037118A1 (de) | 2004-07-30 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Titandioxid enthaltende Dispersion |
DE102004046093A1 (de) | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte Zink-Titan-Mischoxide |
DE102004049427A1 (de) | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Degussa Ag | Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102004053384A1 (de) | 2004-11-02 | 2006-05-04 | Degussa Ag | Flüssiges, viskoses Mittel auf Basis eines organofunktionellen Silansystems zur Herstellung witterungsstabiler Schutzbeschichtungen zur Verhinderung von Verschmutzungen von Oberflächen |
DE102004056862A1 (de) | 2004-11-25 | 2006-06-14 | Degussa Ag | Pulverförmige, kosmetische Zubereitung mit hohem Wassergehalt |
ATE484551T1 (de) | 2004-12-23 | 2010-10-15 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte siliciumdioxid- titandioxid-mischoxide |
ATE384763T1 (de) | 2004-12-23 | 2008-02-15 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte pyrogen hergestellte titandioxide |
EP1700825A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-09-13 | Degussa AG | Oberflächenmodifizierte, strukturmodifizierte Titandioxide |
EP1674427A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-06-28 | Degussa AG | Strukturmodifizierte Titandioxide |
DE102005055226A1 (de) | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Degussa Ag | Lagerung pulverförmiger Stoffe mit hohem Wassergehalt |
DE102005004872A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung |
DE102005004871A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Hochviskose wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen, deren kondensierten Oligomeren, Organopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung zur Oerflächenbehandlung von anorganischen Materialien |
DE102005032427A1 (de) | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Degussa Ag | Aluminiumoxid-Dispersion |
DE102006006656A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Silan enthaltendes Bindemittel für Verbundwerkstoffe |
DE102006006655A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel |
DE102006006654A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Spezielle Aminoalkylsilanverbindungen als Bindemittel für Verbundwerkstoffe |
EP1760128A1 (de) | 2005-09-02 | 2007-03-07 | Sika Technology AG | Wässrige zweikomponentige Organoalkoxysilanzusammensetzung |
DE102005053071A1 (de) | 2005-11-04 | 2007-05-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung |
DE102005060402A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Lagerstabile Beschichtungszusammensetzung für eine abriebfeste und witterungsbeständige Ausstattung glatter anorganischer Oberflächen mit "Easy-to-clean"Eigenschaften |
DE102005060401A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Lagerstabile Beschichtungszusammensetzung für eine abriebfeste und witterungsbeständige Ausstattung glatter anorganischer Oberflächen mit "Easy-to-clean"-Eigenschaften |
DE102005059960A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Degussa Gmbh | Hochgefüllte Übergangs-Aluminiumoxid enthaltende Dispersion |
DE102006003957A1 (de) | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Degussa Gmbh | Wasserverdünnbare Sol-Gel-Zusammensetzung |
DE102006013090A1 (de) | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Georg-August-Universität Göttingen | Kompositwerkstoff aus Holz und thermoplastischem Kunststoff |
DE102006017701A1 (de) | 2006-04-15 | 2007-10-25 | Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
DE102006039269A1 (de) | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium |
DK1982964T3 (da) | 2007-04-20 | 2019-05-20 | Evonik Degussa Gmbh | Blanding indeholdende organosiliciumforbindelse og anvendelse heraf |
DE102007038313A1 (de) | 2007-08-14 | 2009-02-19 | Evonik Degussa Gmbh | Anorganisch-modifizierte Polyesterbindemittelzubereitung, Verfahren zur Herstellung und ihre Verwendung |
DE102007040246A1 (de) | 2007-08-25 | 2009-02-26 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierungen |
DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
DE102007049743A1 (de) | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
-
2008
- 2008-02-01 DE DE200810007261 patent/DE102008007261A1/de not_active Withdrawn
- 2008-07-02 EP EP08774643.4A patent/EP2183321B1/de active Active
- 2008-07-02 KR KR1020107004508A patent/KR101592608B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-02 ES ES08774643.4T patent/ES2643948T3/es active Active
- 2008-07-02 ES ES14182564T patent/ES2768605T3/es active Active
- 2008-07-02 WO PCT/EP2008/058509 patent/WO2009030538A1/de active Application Filing
- 2008-07-02 EP EP14182564.6A patent/EP2813550B1/de active Active
- 2008-07-02 US US12/674,271 patent/US8298679B2/en active Active
- 2008-07-02 JP JP2010522275A patent/JP6004607B2/ja active Active
- 2008-08-27 CN CN2012100654251A patent/CN102634025A/zh active Pending
- 2008-08-27 CN CN2008101463768A patent/CN101376710B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08208997A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-08-13 | Huels Ag | 水を基礎とするオルガノポリシロキサン含有組成物、その製造法、該組成物からなる疎水性化剤および建築物保護剤、被覆剤およびシラン化剤、流動性の性質を改善するための薬剤、付着助剤、分離剤、架橋剤ならびに着色添加剤およびラッカー添加剤 |
WO2000039177A2 (en) * | 1998-12-30 | 2000-07-06 | University Of Cincinnati | Silane treatment for electrocoated metals |
JP2000247984A (ja) * | 1999-02-27 | 2000-09-12 | Degussa Huels Ag | アミノ官能性ケイ素化合物の水ベース組成物、その製造法ならびにその使用 |
JP2003504200A (ja) * | 1999-07-19 | 2003-02-04 | ザ ユニバーシティ オブ シンシナティ | 混合シランコーティング |
WO2005014741A1 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-17 | Degussa Ag | Composition of a mixture of aminoalkyl-functional and oligosilylated aminoalkyl-functional silicon compounds, its preparation and use |
WO2008025846A2 (de) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Sika Technology Ag | Wässrige haftmittlerzusammensetzung umfassend ein aminosilan und ein mercaptosilan |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014515771A (ja) * | 2011-03-25 | 2014-07-03 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | シランベースの水性防食配合物 |
KR20170126979A (ko) * | 2015-03-06 | 2017-11-20 | 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드 | 부분 반응된 실란 프라이머 조성물 |
JP2018513882A (ja) * | 2015-03-06 | 2018-05-31 | ピーアールシー−デソト インターナショナル,インコーポレイティド | 部分的に反応したシランプライマー組成物 |
KR102059253B1 (ko) * | 2015-03-06 | 2019-12-24 | 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드 | 부분 반응된 실란 프라이머 조성물 |
JP2020169342A (ja) * | 2015-03-06 | 2020-10-15 | ピーアールシー−デソト インターナショナル,インコーポレイティド | 部分的に反応したシランプライマー組成物 |
JP2020520396A (ja) * | 2017-05-03 | 2020-07-09 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | 亜鉛末塗料用の貯蔵安定性前駆体としての水性ゾル・ゲル組成物 |
KR20190126575A (ko) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 주식회사 인실리코 | 보온 단열재용 실리콘계 발수제 및 이를 이용한 보온 단열재 |
KR102122641B1 (ko) * | 2018-05-02 | 2020-06-12 | 주식회사 인실리코 | 보온 단열재용 실리콘계 발수제 및 이를 이용한 보온 단열재 |
US11173692B2 (en) | 2019-12-19 | 2021-11-16 | Prc-Desoto International, Inc. | Free radical polymerizable adhesion-promoting interlayer compositions and methods of use |
US11608458B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-03-21 | Prc-Desoto International, Inc. | Adhesion-promoting interlayer compositions containing organic titanates/zirconates and methods of use |
US11624007B2 (en) | 2020-01-29 | 2023-04-11 | Prc-Desoto International, Inc. | Photocurable adhesion-promoting compositions and methods of use |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2768605T3 (es) | 2020-06-23 |
EP2183321B1 (de) | 2017-08-30 |
EP2183321A1 (de) | 2010-05-12 |
CN101376710A (zh) | 2009-03-04 |
KR101592608B1 (ko) | 2016-02-11 |
EP2813550A1 (de) | 2014-12-17 |
WO2009030538A1 (de) | 2009-03-12 |
CN102634025A (zh) | 2012-08-15 |
KR20100066465A (ko) | 2010-06-17 |
JP6004607B2 (ja) | 2016-10-12 |
EP2813550B1 (de) | 2019-12-11 |
US20110268899A1 (en) | 2011-11-03 |
US8298679B2 (en) | 2012-10-30 |
ES2643948T3 (es) | 2017-11-27 |
CN101376710B (zh) | 2012-08-08 |
DE102008007261A1 (de) | 2009-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6004607B2 (ja) | ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミンをベースとする水性シラン系 | |
US8889812B2 (en) | Aqueous silane systems based on tris(alkoxysilylalkyl)amines and the use thereof | |
JP5661229B2 (ja) | オルガノ官能性シロキサンのブロック縮合物、その製造方法およびその使用ならびにその性質 | |
JP4469728B2 (ja) | 金属上の耐蝕性被膜 | |
JP4681094B2 (ja) | フルオル有機官能性シラン及び/又はシロキサンを有する組成物、その製法、その使用及び表面変性された支持体 | |
KR101055596B1 (ko) | 부식 방지를 위한 금속 피복용 조성물 | |
JP5032325B2 (ja) | ポリエーテル官能性シロキサン、ポリエーテルシロキサン含有組成物、該シロキサンの製造法および該シロキサンの使用 | |
US20120204762A1 (en) | Aqueous silane systems for bare corrosion protection and corrosion protection of metals | |
JP2013523923A (ja) | 改善された濡れ特性を有する落書き防止コーティングとしての使用に適した配合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120530 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120823 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130313 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130522 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130529 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130912 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140630 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141027 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20141105 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20141219 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20160609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6004607 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |