KR101592608B1 - 비스(트리알콕시실릴알킬)아민 기재의 수성 실란 시스템 - Google Patents
비스(트리알콕시실릴알킬)아민 기재의 수성 실란 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101592608B1 KR101592608B1 KR1020107004508A KR20107004508A KR101592608B1 KR 101592608 B1 KR101592608 B1 KR 101592608B1 KR 1020107004508 A KR1020107004508 A KR 1020107004508A KR 20107004508 A KR20107004508 A KR 20107004508A KR 101592608 B1 KR101592608 B1 KR 101592608B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- radical
- branched
- atoms
- linear
- corresponds
- Prior art date
Links
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims description 98
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 94
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 title description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 279
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 236
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 78
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 33
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 13
- -1 aminoalkyl radical Chemical class 0.000 claims description 252
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 199
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 159
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 137
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 97
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 93
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 60
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 51
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 50
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 38
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 32
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 32
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 23
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 22
- 239000004567 concrete Substances 0.000 claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 12
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 11
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 11
- NMTZQIYQFZGXQT-UHFFFAOYSA-N C[C]=C Chemical compound C[C]=C NMTZQIYQFZGXQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 10
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 8
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 claims description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 6
- 230000037452 priming Effects 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 5
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000007522 mineralic acids Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) Chemical compound [Cr+3] BFGKITSFLPAWGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011435 rock Substances 0.000 claims description 3
- 235000020354 squash Nutrition 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 2
- 125000004990 dihydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims description 2
- CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N oxomethyl Chemical compound O=[CH] CFHIDWOYWUOIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 claims 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 claims 1
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims 1
- XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N silicon;hydrate Chemical compound O.[Si] XJKVPKYVPCWHFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 92
- 239000000047 product Substances 0.000 description 72
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 47
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 44
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 41
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 24
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 13
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 11
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 7
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 6
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 241001649081 Dina Species 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 5
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- DSWDPPJBJCXDCZ-UHFFFAOYSA-N ctk0h9754 Chemical class N[SiH2][SiH3] DSWDPPJBJCXDCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 4
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 4
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 4
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(OCC)OCC UJTGYJODGVUOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZIWKAEQLXNVUEL-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(OCC)[SiH2]CSSC[SiH2]C(OCC)OCC Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CSSC[SiH2]C(OCC)OCC ZIWKAEQLXNVUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOCAZKYFYOHVEY-UHFFFAOYSA-N CCO[SiH](CCN)OCC Chemical compound CCO[SiH](CCN)OCC BOCAZKYFYOHVEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- NDTSRXAMMQDVSW-UHFFFAOYSA-N benzthiazide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(S(N2)(=O)=O)=C1N=C2CSCC1=CC=CC=C1 NDTSRXAMMQDVSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCC(F)(F)F DIJRHOZMLZRNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N ethyl Chemical compound C[CH2] QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 2
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 2
- ZGJZKIWPDBYTJA-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)formamide Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC=O ZGJZKIWPDBYTJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OC)(OC)OC XCOASYLMDUQBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKYZKSCWBQYDSO-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)formamide Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC=O FKYZKSCWBQYDSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OYGYKEULCAINCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SPJORXVJXFCUOR-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[(triethoxysilylmethyldisulfanyl)methyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CSSC[Si](OCC)(OCC)OCC SPJORXVJXFCUOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanamine Chemical compound CCO[Si](CN)(OCC)OCC ROWWCTUMLAVVQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSCCC[Si](OC)(OC)OC NQRACKNXKKOCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- JAVBBFXUGDCHLZ-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-oxidanylpropane Chemical compound CCC[O] JAVBBFXUGDCHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZVSRHMBQDVNLW-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(methyl)silyl]ethanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCN CZVSRHMBQDVNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEYGFNXACHWELQ-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(phenyl)silyl]ethanamine Chemical compound NCC[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 JEYGFNXACHWELQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMCMBKXKEBELAE-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropyl-ethoxy-methylsilyl)oxybutan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(OCC)OC(C)CCN JMCMBKXKEBELAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOAUDAYOMHDUEU-UHFFFAOYSA-N 3-silylpropane-1-thiol Chemical compound [SiH3]CCCS AOAUDAYOMHDUEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZAKHNORFOVVDL-UHFFFAOYSA-N 6-triethoxysilylhexan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCN TZAKHNORFOVVDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRKIKESGAZRUEG-UHFFFAOYSA-N 6-trimethoxysilylhexan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCN RRKIKESGAZRUEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 241001071795 Gentiana Species 0.000 description 1
- PEZNMOIVUGYWPQ-UHFFFAOYSA-N N-(2-dimethoxysilylethyl)formamide Chemical compound CO[SiH](OC)CCNC=O PEZNMOIVUGYWPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFUGDMXLOKWTFH-UHFFFAOYSA-N N[SiH]([SiH3])[SiH3] Chemical class N[SiH]([SiH3])[SiH3] AFUGDMXLOKWTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- UKSJVDKLZMULIG-UHFFFAOYSA-N [SiH3]N[SiH2]N[SiH3] Chemical compound [SiH3]N[SiH2]N[SiH3] UKSJVDKLZMULIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQDVGQHVVOWLF-UHFFFAOYSA-N [diethoxy(methyl)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COC(=O)C=C SOQDVGQHVVOWLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)COC(=O)C(C)=C YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJSVDVPGINTNGX-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethanamine Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCN NJSVDVPGINTNGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 239000013011 aqueous formulation Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- FIRQYUPQXNPTKO-UHFFFAOYSA-N ctk0i2755 Chemical class N[SiH2]N FIRQYUPQXNPTKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBIXEZCWWLRUFH-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 HBIXEZCWWLRUFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- MHNUEQUGTGMGFX-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hexadecyl-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OCC)OCC MHNUEQUGTGMGFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hexyl-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(OCC)OCC YTDDWYQXURUACY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCMGZVOQDOAFED-UHFFFAOYSA-N diethoxy-phenyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 WCMGZVOQDOAFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNGBQSMUUQTRAK-UHFFFAOYSA-N diethoxymethyl-[(diethoxymethylsilylmethyltetrasulfanyl)methyl]silane Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CSSSSC[SiH2]C(OCC)OCC WNGBQSMUUQTRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- ZMDGYVVNQUWFCY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(2,2,3,3,3-pentafluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(F)(F)C(F)(F)F ZMDGYVVNQUWFCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXCBYIQEPYWUSW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(3,3,3-trifluoropropoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCCC(F)(F)F MXCBYIQEPYWUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-octylsilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](C)(OC)OC GOIPELYWYGMEFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASLHTENAUVCONN-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethyl-[(dimethoxymethylsilylmethyltetrasulfanyl)methyl]silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]CSSSSC[SiH2]C(OC)OC ASLHTENAUVCONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLYFOKIGLVMCFH-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethyl-[3-[3-(dimethoxymethylsilyl)propyltetrasulfanyl]propyl]silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]CCCSSSSCCC[SiH2]C(OC)OC RLYFOKIGLVMCFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- MCTWTUQSOKLGFJ-UHFFFAOYSA-N hexadecyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(OC)OC MCTWTUQSOKLGFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APQKDJQPCPXLQL-UHFFFAOYSA-N hexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCC[Si](C)(OC)OC APQKDJQPCPXLQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDELZIAYYKCTEM-UHFFFAOYSA-N n'-[1-[diethoxy(ethyl)silyl]oxyethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OC(C)NCCN SDELZIAYYKCTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMJMHJJKAWVHIV-UHFFFAOYSA-N n-(2-triethoxysilylethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCC[Si](OCC)(OCC)OCC GMJMHJJKAWVHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDVCZUXHVHXQA-UHFFFAOYSA-N n-(2-trimethoxysilylethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCC[Si](OC)(OC)OC AZDVCZUXHVHXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC KFOZMMAXUUCIKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLTAOXPOORASCD-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCC[Si](C)(OC)OC SLTAOXPOORASCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N n-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]cyclohexanamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNC1CCCCC1 DRRZZMBHJXLZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical class CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N tetrasulfane Chemical compound SSSS IKRMQEUTISXXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N tributoxy(propyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CCC)(OCCCC)OCCCC WAAWAIHPWOJHJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRTZJTKYLWFENK-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropylsilyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CCC[SiH2]CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC HRTZJTKYLWFENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWSQTXBRVIEOGT-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(tetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSS XWSQTXBRVIEOGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSIGLRIVXRKQRA-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanethiol Chemical compound CCO[Si](CS)(OCC)OCC XSIGLRIVXRKQRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDZRQZZFGYQJFZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(3,3,3-trifluoropropoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCCC(F)(F)F VDZRQZZFGYQJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POOJIYOOXPNLRP-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(3,3,3-trifluoropropylsulfanyl)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCSCCC(F)(F)F POOJIYOOXPNLRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(3-trimethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSSSSCCC[Si](OC)(OC)OC JTTSZDBCLAKKAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanamine Chemical compound CO[Si](CN)(OC)OC ARKBFSWVHXKMSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethanethiol Chemical compound CO[Si](CS)(OC)OC QJOOZNCPHALTKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/60—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only artificial stone
- C04B41/61—Coating or impregnation
- C04B41/62—Coating or impregnation with organic materials
- C04B41/64—Compounds having one or more carbon-to-metal of carbon-to-silicon linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/49—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes
- C04B41/4905—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon
- C04B41/495—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon applied to the substrate as oligomers or polymers
- C04B41/4961—Polyorganosiloxanes, i.e. polymers with a Si-O-Si-O-chain; "silicones"
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2222/00—Aspects relating to chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive medium
- C23C2222/20—Use of solutions containing silanes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/13—Hollow or container type article [e.g., tube, vase, etc.]
- Y10T428/131—Glass, ceramic, or sintered, fused, fired, or calcined metal oxide or metal carbide containing [e.g., porcelain, brick, cement, etc.]
- Y10T428/1317—Multilayer [continuous layer]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
Abstract
본 발명은 유기 용매가 본질적으로 없고, 가교결합 동안 더 이상의 알콜을 본질적으로 방출하지 않는 비스-아미노-관능성 규소 화합물의 수성 조성물, 그리고 그의 제조 방법, 및 예컨대 금속 또는 유리 표면의 소수화를 위한 그의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 유기 용매가 실질적으로 없고, 가교결합시에도 더 이상의 알콜을 실질적으로 방출하지 않는 비스-아미노관능성 규소 화합물의 수성 조성물, 및 그의 제조 방법은 물론, 예컨대 금속 또는 유리 표면의 소수화 또는 소유화(oleophobization)를 위한 그의 용도에 관한 것이다.
유기 용매를 덜 함유하거나 함유하지 않으며, 그에 따라 더 친환경적인 수성의 실란 시스템은 점점 더 관심을 끌고 있다. 그러나, 많은 실란들이 수성 상에 가용성이 아니며, 물과의 접촉시 가수분해 및 축합되기 때문에, 단순히 실란을 물과 혼합하는 것에 의해서는 안정한 수성 실란 시스템이 제조될 수 없다.
예를 들어, DE 10 2005 004 872 A1호는 에멀션화제 존재하의 알콕시실란 기재 수성 수-중-유 에멀션 및 그의 축합된 중합체의 제조에 대해 기술하고 있다. 상기 에멀션은 고압 호모게나이저에서 제조된다. 상기 수성 에멀션은 예를 들면 다공성 광물질 건축 기재의 표면 처리에 사용된다. 사용시, 가수분해의 결과로서 여전히 알콜이 방출된다. EP 0 590 270 A2호에는, 수용성 아미노폴리실록산의 제조에 대해 기술되어 있다. 50 ％ 농도 알콜 용액 중의 아미노실란이 사용되는 실란 중 규소 몰 함량의 0.25- 내지 4-배에 해당하는 상응량의 물과 혼합된 후, 60 ℃에서 부분적으로 가수분해된다. 언급된 공정 조건하에서는, 비교적 다량의 물이 가수분해 생성물의 합성에 사용되면서 침전이 발생한다. 이어서 수득되는 생성물은 물에 가용성이다. 유기 용매의 높은 함량 및 그와 관련된 낮은 인화점은 불리하다. 묽은 수성 폴리실록산 혼합물의 경화는 80 ℃에서 이루어진다.
DE 103 35 178 A1호는 수-희석가능 실란 시스템, 예를 들면 알콜 용매 중 3-아미노프로필트리알콕시실란과 비스(트리알콕시실릴프로필)아민의 혼합물의 제조에 대해 개시하고 있다. 이와 같은 실란 혼합물은 한정된 몰량의 물에 의해 부분적으로 가수분해된다. 25 내지 99.99 ％의 알콜 함량을 갖는 상기 실란 혼합물에는 VOC (휘발성 유기 화합물)이 없지 않다.
US 5 051 129호는 수용성 아미노실란 및 알킬트리알콕시실란의 수용액 조성물에 대해 개시하고 있다. 제조는 실란 혼합물에 대한 한정된 양의 물의 첨가 및 이어지는 60 ℃에서의 가열에 의해 수행된다. 이렇게 제조되는 실란 혼합물은 소정 비로 물에 용해되어 표면의 소수화를 위해 기능한다.
EP 0 716 128 A1호는 수-기재의 유기폴리실록산-함유 조성물, 그의 제조 방법은 물론, 그의 용도에 대해 개시하고 있다. 수용성 아미노알킬알콕시실란의 알킬트리알콕시실란 및/또는 디알킬디알콕시실란과의 혼합, 및 한정된 pH에서의 물의 첨가에 의해, 유기폴리실록산-함유 조성물이 형성된다. 생성되는 가수분해 알콜은 증류에 의해 제거된다. 그에 따라, 표면, 광물질 건축 기재 및 기타 적용분야의 소수화에 사용될 수 있는 무-VOC 수성 폴리실록산-함유 조성물이 수득된다.
아미노알킬트리알콕시실란과 비스실릴아미노실란의 반응의 반응 생성물로 구성되는 수성 실란 시스템이 EP 1 031 593 A2호에 개시되어 있다. 비스실릴아미노실란의 가수분해만을 바탕으로 하는 상기 수용액은 겔화 및 응집되는 경향이 있어서, 적용이 불가능한 것으로 언급되고 있다.
WO 00/39177 A2호는 수성 알콜-함유 용액 중 비스실릴아미노실란 및/또는 비스실릴폴리술판의 용도에 대해 기술하고 있다. 상기 실란은 물, 알콜 및 임의로는 아세트산과 혼합된 후, 24시간 이상 동안 가수분해된다. 이후, 금속 상에서의 사용으로 이어진다.
US 6,955,728 B1호는 수용액 중에서 다른 실란과 조합된 아세톡시실란의 용도, 및 금속 상에서의 사용에 대해 기술하고 있다. 특히, 비스(트리알콕시실릴프로필)아민도 아세톡시실란과 조합되어 사용된다. 수용액의 안정성과 관련하여서는 아무것도 언급되지 않고 있다. 실란의 축합을 억제하기 위하여, 2-성분 시스템 형태의 비가수분해 농축물 또는 무수 예비혼합 농축물이 상업용으로 권장되고 있다. 상기 수용액은 혼합 후 항상 가수분해 알콜을 함유한다.
WO 2006/010666 A1호는 알킬트리알콕시실란으로부터 제조되는 블록 공축합물 및 플루오르화 실란의 아미노실란과의 공축합물, 그리고 임의로는 아미노실란의 알킬실란과의 공축합물의 수성 시스템에 관한 것이다.
WO 2004/076717 A1호에서는, 비스실릴아미노실란이 수용액 중에서 다른 실란 및 금속 킬레이트화합물과 조합되어 사용된다. 상기 실란은 수성 농축물 중에서의 2주 이상 동안의 숙성에 의해 부분적으로 가수분해된다. 이후, 금속 킬레이트화합물이 첨가되고, 물을 사용하여 추가 희석이 수행된다. 역시, 모든 수성 배합물이 여전히 가수분해 유래의 알콜을 함유한다. 상기 수성 시스템은 금속 표면의 예비처리에 사용된다.
WO 2004/076718 A1호는 부분적으로 가수분해된 예컨대 비스실릴아미노실란과 같은 실란, 및 부분적으로 가수분해된 플루오르-함유 실란을 함유하는 수용액을 사용한 금속 표면의 코팅 방법에 관한 것이다. 플루오르-함유 실란을 사용함으로써, 코팅 시스템의 방수성 및 부식 내성이 향상된다. 가수분해 알콜은 시스템으로부터 제거되지 않는다.
US 5 206 285호는 에폭시실란과 1차 아미노실란의 수-기재 첨가 생성물의 제조 및 용도에 대해 기술하고 있다. 상기 수성 실란 시스템은 무-용매가 아니다. 그것은 금속 코팅에 사용되며, 부식 내성을 향상시키는 것으로 언급되고 있다.
EP 1 760 128 A1호는 2종의 성분으로 구성되는 수성 접착 촉진제 조성물에 대해 개시하고 있는데, 성분 중 하나는 Si-O-Si 결합이 없는 유기실록산 및 무수 계면활성제를 포함하며, 두 번째 성분은 수성이다. 또한, 접착성 결합 또는 밀봉 공정에서의 그의 용도가 청구되고 있다. 접착 촉진제 중 한 가지 성분이 비스실릴아미노실란을 함유할 수 있다.
DE 10 2004 037 045 A1호는 가수분해 촉매의 존재하에 글리시딜옥시프로필알콕시실란 및 수성 실리카 졸로부터 제조되는 수성 실란 나노복합체를 청구하고 있다. 상기 수성 시스템은 실질적으로 무-용매이며, 금속 코팅에 적합하다. 200 ℃의 높은 가교결합 온도가 불리하다.
다양한 용도를 가지며, 특히 우수한 소수성, 부식-방지 및/또는 프라이밍(priming) 특성을 가지고, 바람직하게는 낮은 온도에서 가교결합되는, 수성이며 무-VOC인 비스-아미노관능성 알콕시실란 기재의 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목적이었다.
상기 목적은 본 특허의 청구항에 의해 달성된다.
놀랍게도, 유기관능성 알콕시실란, 특히 알킬-관능성 알콕시실란을 갖는 비스-아미노관능성 알콕시실란으로부터 안정한 수성의 실질적으로 무-알콜인 규소 화합물 기재의 조성물이 수득될 수 있으며, 상기 규소 화합물은 특히 실질적으로 완전히 가수분해된 형태로 존재한다는 것이 발견되었다. 게다가, 상기 조성물은 낮은 온도에서 가교결합된다.
가교결합은 규소 화합물의 서로 간의 축합, 및 특히 기재 관능기와의 축합을 의미하는 것으로 양해된다. 결과적으로, 그리고 임의로는 예컨대 규소 화합물 아미노 관능기의 기재 관능기와의 착물 형성과 같은 상호작용 또는 반응을 통하여, 끓는 물에 내성인 안정한 층이 형성된다.
유리 판, 금속 표면 또는 기타 기재 표면에 적용되는 경우, 공축합물을 함유하는 조성물은 기재와 신속하게 가교결합되어 고강도의 소수성 층을 형성한다. 따라서, 실온에서 가교결합된 실란 시스템은 끓는 물에서조차도 유리 또는 금속 표면으로부터 다시 분리되지 않는다. 비스(트리에톡시실란)아민 또는 비스(트리메톡시실란)아민과 같은 비스-아미노관능성 알콕시실란의, n-프로필트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란 (PTMO), 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란 (GLYEO), 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 (GLYMO), 3-아미노프로필트리에톡시실란 (AMEO), 3-아미노프로필트리메톡시실란 (AMMO), 메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 (MEEO), 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 (MEMO), N-(n-부틸)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란 (VTMO), N-(n-부틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란 (디나실란(Dynasylan)® 1189), 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 (MTMO), 3-메르캅토프로필트리에톡시실란 (MTEO), N-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란 (DAMO), 폴리에틸렌 글리콜-관능화 알콕시실란, 테트라에톡시실란 (디나실란 A), 테트라메톡시실란 (디나실란 M), 메틸트리에톡시실란 (MTES), 메틸트리메톡시실란 (MTMS), 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술판 (Si 69), 비스(트리에톡시실릴프로필)디술판 (Si 266), 비스(트리메톡시실릴프로필)디술판, 비스(트리메톡시실릴프로필)테트라술판, 비닐트리에톡시실란 (VTEO), 1-아미노메틸트리에톡시실린, 1-아미노메틸트리메톡시실린, 1-메타크릴옥시메틸트리메톡시실란, 1-메타크릴옥시메틸트리에톡시실란, 1-메르캅토메틸트리에톡시실란, 1-메르캅토메틸트리메톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란 (디나실란® OTEO), 옥틸트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시시란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 우레이도프로필트리메톡시실란, 우레이도프로필트리에톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란, 디나실란® 1151 (무-알콜 아미노실란 가수분해 생성물), 디나실란® HS 2627 (아미노실란과 알킬실란의 무-알콜 공축합물), 디나실란® HS 2776 (디아미노실란과 알킬실란의 수성 무-알콜 공축합물), 디나실란® HS 2909 (아미노실란과 알킬실란의 수성 무-알콜 공축합물), 디나실란® HS 2926 (에폭시실란 기재의 수성 무-알콜 생성물), 디나실란® SIVO 110 (에폭시실란의 수성 무-알콜 생성물)과의 공축합물을 기재로 하는 실란 시스템 역시 기재 층 상에서 상기와 같은 높은 강도를 가진다.
경화된 표면의 방수성과 반응성이 특정 실란 조합을 통하여 목표하는 방식으로 조정될 수 있는지가 특별한 관건이다. 그러나, 낮은 경화 온도를 얻기 위한 전제조건은 언제나 실질적으로 무-용매인 조성물 중의 예컨대 비스(트리알콕시실란)아민과 같은 하나 이상의 비스-아미노관능성 화합물, 또는 그의 가수분해 생성물 및/또는 축합물의 존재이다. 서로 다르게 치환된 알콕시실란들을 기재로 하며, 그에 따라 낮은 온도에서 경화되는 수성 실란 시스템조차도 비스-아미노관능성 화합물이 추가 성분으로서 존재할 것을 전제로 한다. 실온에서 경화되는, 다시 말하면 특히 기재 표면의 반응성 관능기와 가교결합되거나, 및/또는 상호작용 또는 반응을 하여 안정한 소유성 표면을 형성하는 수성 실란 시스템은 플루오로실란과의 공축합에 의해서도 제조될 수 있다.
일 구현예에 따르면, 추가의 실란 시스템과 함께 혼합물 중에 비스-아미노관능성 규소 화합물을 함유하는 수성의 실질적으로 무-용매인 본 발명의 조성물을 사용함으로써, 이러한 실란 시스템들의 생성물 특성을 긍정적으로 개질하는 것이 가능하다. 예를 들면, 이러한 실란 시스템들의 경화 온도는 성능에 대한 불리한 영향 없이 감소될 수 있다.
본 발명에 따른 수성 실란 시스템의 사용 범위는 매우 다양하며; 그에 따라 예컨대 유리 또는 콘크리트, 벽돌, 사암 등과 같은 매우 광범위한 기재에서 방수제로서 사용될 수 있다. 플루오로실란과의 - 공축합물 또는 혼합물로서의 - 조합에서는, 더욱 소유성이며 내그래피티성(antigraffiti) 및/또는 내지문성(antifingerprint)인 특성을 갖는 기재를 수득하는 것도 가능하다. 다른 사용 분야로는 예컨대 유리, 금속, 콘크리트, 사암, 벽돌 및 기타 무기 기재 등과 같은 기재 표면의 프라이밍이 있다. 예를 들면 금속 표면의 프라이밍에 의해, 상부코팅(topcoat)의 접착성은 물론, 그에 따른 향상된 부식 방지성이 달성된다. 또한, 비스-아미노관능성 실란 화합물을 기재로 하는 수성 실란 시스템은 암반 강화(rock consolidation)를 위하여, 또는 수성 코팅 배합물에 사용될 수도 있다.
하기-언급되는 조성물 (최종 생성물)에서의 중량％ 함량은 본 발명에 따른 반응 및 반응 혼합물로부터의 가수분해 알콜 제거 전에 사용되는 알콕시실란 화합물(들)의 비율을 나타낸다.
하기에서 실란 시스템으로도 지칭되는 본 발명에 따른 조성물은 실질적으로 수용성인 비스-아미노관능성 규소 화합물, 특히 알콕시 기가 실질적으로 없는 규소 화합물, 및 물을 함유하고, 구체적으로 상기 규소 화합물은 알콕시실란으로부터 유래하며, 사슬형, 고리형, 가교결합 및/또는 3차원적 가교결합 구조, 예를 들면 하기 일반 화학식 I에 상응하는 이상화된 형태이거나 또는 이상화된 화학식 I에 따라 나타내어질 수 있는 하나 이상의 구조 (도식 I 참조)를 형성하는 가교결합 구성 요소를 가지고, 특히 90 ℃를 초과하는 인화점을 가진다:
<화학식 I>
(알콕시실란으로부터 유래하는 상기 구성 요소에서,
- A는 비스아미노알킬 라디칼에 해당하고,
- B는 아미노알킬 라디칼에 해당하고,
- C는 알킬 라디칼에 해당하고,
- D는 에폭시 또는 에테르 라디칼에 해당하고,
- E는 유기관능성 라디칼에 해당하고,
- Y는 OR1, 또는 가교결합 및/또는 3차원적 가교결합 구조에서 서로 독립적으로 OR1 또는 O1 /2에 해당하고,
- R1, R2, R4, R6 및/또는 R9는 실질적으로 수소에 해당하고, R3, R5, R7 및/또는 R8은 유기관능성 라디칼에 해당하고,
- HX는 산이며, 여기서 X는 무기 또는 유기 산 라디칼이고,
- 0 ≤ x ≤ 1, 0 ≤ y ≤ 1, 0 ≤ u ≤ 1, v = 0 또는 1, a ≥ 1, b ≥ 0, c ≥ 0, d ≥ 0, w ≥ 0, e ≥ 0이며, 특히 e는 ≥ 1이고, (a+b+c+d+w) ≥ 2이며,
- 상기 조성물은 실질적으로 유기 용매가 없고, 가교결합시 더 이상의 알콜을 실질적으로 방출하지 않음).
본원에서, 구성 요소, 단량체 실록산 단위 또는 비스실록산 단위는 개별적인 구성 단위 M, D, T 또는 Q, 즉 알콕시-치환 실란, 그로부터 형성되는 가수분해 실란 및/또는 축합물을 의미하는 것으로 양해된다. 본 발명에 있어서, 상기 구성 요소, 특히 하기의 구성 요소
그에 따라, 치환 패턴 역시 이상화된 형태에 나타내지 않은 사슬형, 고리형, 가교결합 및/또는 3차원적 가교결합 실란 시스템/규소 화합물로 확장되는데, Y는 OR1, 또는 가교결합 및/또는 3차원적 가교결합 구조에서 서로 독립적으로 OR1 또는 - 실록산 결합에서 - O1 /2에 해당하고, R1, R2, R4, R6 및/또는 R9는 실질적으로 수소에 해당하고, 라디칼 OR2, OR4, OR6 및/또는 OR9로부터도 각 경우 서로 독립적으로 가교결합 및/또는 3차원적 가교결합 구조로 O1 /2을 갖는 실록산 결합이 형성되는 것이 가능하거나, 이들 라디칼들이 서로 독립적으로 O1 /2로서 존재할 수 있으며, R3, R5, R7 및/또는 R8은 유기관능성 라디칼에 해당하고, A는 비스아미노알킬 라디칼에 해당하고, B는 아미노알킬 라디칼에 해당하고, C는 알킬 라디칼에 해당하고, D는 에폭시 또는 에테르 라디칼에 해당하고, E는 유기관능성 라디칼에 해당한다. 도식 I에, 일반 화학식 I의 가능한 이상화된 대표적인 변형들을 제한하는 것이 아닌 예로써 나타내었다.
실질적으로 유기 용매가 없는 조성물은 매우 낮은 함량은 물론, 어떠한 유기 용매도 더 이상 함유하지 않는, 특히 메탄올, 에탄올 또는 프로판올과 같은 알콜이 없는 조성물을 의미하는 것으로 양해되어야 한다. 정의상, 알콕시실란의 가수분해에서 형성되는 가수분해 알콜 역시 상기 조성물로부터 실질적으로 완전히 제거되었다. 함량이 5 중량％ 미만, 특히 4 중량％ 미만, 바람직하게는 2 중량％ 미만, 특히 1 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.5 중량％ 미만 또는 0.1 중량％ 미만인 경우에, 조성물은 유기 용매가 실질적으로 없는 것으로, 특히 알콜 및/또는 알콕시 기가 없는 것으로 간주되는데, 다시 말하자면 가교결합시에도 실질적으로 더 이상의 알콜이 방출되지 않는다. 구체적으로, 상기 규소 화합물의 함량은 1 내지 40 중량％, 특히 5 내지 40 중량％, 바람직하게는 7.5 내지 40 중량％, 특히 바람직하게는 12.5 내지 40 중량％이다.
본 발명에 따른 비스-아미노관능성 조성물은 하기 화학식 II의 비스-아미노관능성 실란을 기재로 하는 하나 이상의 비스-아미노관능성 구성 요소를 함유하며, 0 ℃ 이상, 특히 5 ℃ 이상, 바람직하게는 5 내지 30 ℃, 특히 바람직하게는 15 내지 25 ℃의 온도에서 가교결합된다. 뛰어난 특성을 갖는 조성물은 5 내지 30 ℃에서 24시간 이내에, 특히 12시간 이내에, 바람직하게는 2시간 이내에 가교결합된다.
본 발명에 따른 비스-아미노관능성 조성물은 비스(트리알콕시실란)아민을 기재로 하는 하나 이상의 비스-아미노관능성 구성 요소를 함유하며, 상기 구성 요소의 계산인자(numerator)는 b ≥ 0, a ≥ 1, c ≥ 1, d ≥ 0, w ≥ 0 및 e ≥ 1이다. 하나 이상의 비스(트리알콕시실릴알킬)아민, 비스-N,N'-(트리알콕시실릴알킬)알킬렌디아민 및/또는 비스-N,N'-(트리알콕시실릴알킬)디알킬렌트리아민, 특히 비스(트리에톡시실릴프로필)아민 ((H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3, 비스-AMEO), 비스(트리메톡시실릴프로필)아민 ((H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OCH3)3, 비스-AMMO), 비스-DAMO ((H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3) 및/또는 비스-TRIAMO ((H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3) (여기서 비스(트리에톡시실릴프로필)아민 ((H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3, 비스-AMEO)이 특히 바람직함)의, 알킬알콕시실란, 특히 n-프로필트리에톡시실란 (PTEO), n-프로필트리메톡시실란 (PTMO), 디메틸디메톡시실란 (DMDMO), 디메틸디에톡시실란, n-옥틸트리알콕시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란 (디나실란® OTEO), 옥틸트리메톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페틸트리에톡시실란 및/또는 메틸트리에톡시실란 (상기 실란들이 메톡시- 및 에톡시-치환되는 것 모두가 가능함)과의 조합이 바람직하다. 개시 물질이 서로에 대하여 사용되며, 그에 따라 또한 이후 조성물에 존재하는 적절한 중량비는 비스-아미노관능성 실란 대 알킬관능성 실란에 대하여 3:1 내지 1:2이다.
바람직하게는, 상기 규소 화합물은 5 내지 35 중량％ 또는 7.5 내지 35 중량％, 특히 12.5 내지 35 중량％, 바람직하게는 15 내지 35 중량％, 특히 바람직하게는 15 내지 30 중량％의 총 함량으로 조성물에 존재한다. 1 내지 12.5 중량％, 특히 1 내지 7.5 중량％의 규소 화합물 함량을 갖는 조성물이 적절할 수도 있는데; 이는 특히 예컨대 기재의 처리 및/또는 개질을 위한 제제로서의 그의 사용 직전의 조성물의 추가의 희석에 의해 이루어질 수 있다.
조성물이 a ≥ 1 및 b, c 및 d = 0인 실란 또는 a ≥ 1 및 b ≥ 1 및 c, d = 0인 실란으로 구성되는 경우, 규소 화합물은 바람직하게는 12.5, 바람직하게는 15 내지 35 중량％, 특히 바람직하게는 15 내지 30 중량％의 총 함량으로 조성물 중에 존재한다.
일반적으로, pH가 1.0 내지 5.4, 특히 3.0 내지 5.4, 바람직하게는 3.0 내지 4.8, 특히 바람직하게는 3.5 내지 4.8의 범위인 경우에, 모든 조성물은 특히 안정하다. 가교결합시에도 더 이상의 알콜을 실질적으로 방출하지 않는 실질적으로 무-용매인 조성물에서, pH는 규소 화합물이 여전히 수용성이거나 및/또는 안정하도록 적절하게 조정될 수도 있다. 일반적으로, 약 6.0 또는 그를 약간 초과하는 pH 이하까지 그러할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 구성 요소, 예컨대 특히 일반 화학식 I에서의 [(Y)2Si(A)Si(Y)2O]a 중 A는 하기 일반 화학식 II로부터 유래하는 비스아미노알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 II>
여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하며, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이고, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당하고, i 및/또는 i*은 특히 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 3의 수 중 하나에 해당하고, 특히 바람직한 것은 비스(트리에톡시실릴프로필)아민 [(H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3, 비스-AMEO]이며, 여기서 i, i* = 3이고, g, g* = 0이다.
다른 바람직한 비스-아미노관능성 알콕시실란으로는 하기가 있다: (H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OCH3)3 (비스-AMMO), (H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3 (비스-DAMO), (H3CO)3Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3 (비스-TRIAMO), 비스(디에톡시메틸실릴프로필)아민, 비스(디메톡시메틸실릴프로필)아민, 비스(트리에톡시실릴메틸)아민, 비스(트리메톡시실릴메틸)아민, 비스(디에톡시메틸실릴메틸)아민, 비스(디메톡시메틸실릴메틸)아민, (H3CO)2(CH3)Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)2(CH3) 및/또는 (H3CO)3 (CH3)Si(CH2)3NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)2(CH3).
본 발명에 따른 조성물에서, 구성 요소, 예컨대 특히 일반 화학식 I에서의 (R2O)[(R2O)1-x(R3)xSi(B)O]b 중 B는 하기 일반 화학식 IV로부터 유래하는 아미노관능성 라디칼에 해당한다
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임). 바람직하게는, k = 3, n = 1 또는 2, l = 1, 2 또는 3이며, j = 0이고, 특히 바람직하게는 N,N-디(2-아미노에틸)-3-아미노프로필 라디칼을 위하여 k = 3, n = 1 또는 2, l =2이며, j = 0이고; m = 2이며 p = 3이다.
바람직하게 사용될 수 있는 아미노알킬알콕시실란의 예로는 하기가 있다: 아미노프로필트리메톡시실란 (H2N(CH2)3Si(OCH3)3, AMMO), 아미노프로필트리에톡시실란 (H2N(CH2)3Si(OC2H5)3, AMEO), 디아미노에틸렌-3-프로필트리메톡시실란 (H2N(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3,DAMO), 트리아미노디에틸렌-3-프로필트리메톡시실란인 H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)3Si(OCH3)3 (TRIAMO), 아미노프로필메틸디에톡시실란, 아미노프로필메틸디메톡시실란, 2-아미노에틸트리메톡시실란, 2-아미노에틸메틸디메톡시실란, 2-아미노에틸페닐디메톡시실란, 2-아미노에틸트리에톡시실란, 2-아미노에틸메틸디에톡시실란, 2-아미노에틸트리에톡시실란, (2-아미노에틸아미노)에틸트리에톡시실란, 6-아미노-n-헥실트리에톡시실란, 6-아미노-n-헥실트리메톡시실란, 6-아미노-n-헥실메틸디메톡시실란, 특히 3-아미노-n-프로필트리메톡시실란, 3-아미노-n-프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노-n-프로필트리에톡시실란, 3-아미노-n-프로필메틸디에톡시실란, 1-아미노메틸트리에톡시실란, 1-아미노메틸메틸디에톡시실란, 1-아미노메틸트리메톡시실란, 1-아미노메틸메틸디에톡시실란, N-부틸-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-부틸-3-아미노프로필메틸디에톡시실란, N-부틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-부틸-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-부틸-1-아미노메틸트리에톡시실란, N-부틸-1-아미노메틸메틸디메톡시실란, N-부틸-1-아미노메틸트리메톡시실란, N-부틸-1-아미노메틸메틸트리에톡시실란, N-포르밀-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-포르밀-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-포르밀-1-아미노메틸메틸디메톡시실란 및/또는 N-포르밀-1-아미노메틸메틸디에톡시실란 또는 이들의 혼합물.
또한, 본 발명에 따른 조성물에서, 구성 요소, 예를 들면 특히 일반 화학식 I에서의 [Si(C)(R5)y(OR4)1- yO] 중 C는 하기 일반 화학식 VI로부터 유래하는 알킬 라디칼에 해당한다
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함). 바람직하게는, y = 0 또는 1이며, C는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 또는 에틸 라디칼, 특히 바람직하게는 n-프로필, 이소프로필 또는 옥틸 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 또는 에틸 라디칼, 특히 바람직하게는 n-프로필, 이소프로필 및/또는 옥틸 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 3 C 원자를 갖는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸 및/또는 이소프로필 또는 n-프로필 라디칼에 해당한다.
이들의 예로는 하기가 있다: 프로필트리메톡시실란 (PTMO), 디메틸디메톡시실란 (DMDMO), 디메틸디에톡시실란, 메틸트리에톡시실란 (MTES), 프로필메틸디메톡시실란, 프로필메틸디에톡시실란, n-옥틸메틸디메톡시실란, n-헥실메틸디메톡시실란, n-헥실메틸디에톡시실란, 프로필메틸디에톡시실란, 프로필메틸디에톡시실란, 프로필트리에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, n-헥실트리에톡시실란, 시클로헥실트리에톡시실란, n-프로필-트리-n-부톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥사데실트리에톡시실란, 헥사데실트리메톡시실란, 옥타데실트리에톡시실란, 옥타데실트리메톡시실란, 옥타데실메틸디에톡시실란, 옥타데실메틸디메톡시실란, 헥사데실메틸디메톡시실란 및/또는 헥사데실메틸디에톡시실란 및 이들 실란의 혼합물.
본 발명에 따른 조성물에서, 구성 요소, 예를 들면 특히 일반 화학식 I에서의 [Si(D)(R7)u(OR6)1- uO] 중 D는 하기 일반 화학식 VII로부터 유래하는 에폭시 또는 에테르 라디칼에 해당한다
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함). 상기 폴리알킬글리콜 라디칼은 폴리에틸렌 글리콜-3-프로필 (PEG-프로필), 폴리프로필렌 글리콜-3-프로필, 폴리메틸렌 글리콜-3-프로필로 이루어진 군에서, 또는 예컨대 무작위 분포의 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜 기를 갖는 공중합체 또는 블록 중합체에서 적절하게 선택되며, 상기 폴리알킬렌 글리콜 기는 바람직하게는 분자 당 약 3 내지 14 알킬렌 글리콜 기의 평균 분포도를 가진다.
본 발명에 따른 조성물의 특히 일반 화학식 I에서의 예를 들면 구성 요소 [Si(E)(R8)v(OR9)1-vO]wR9와 같은 구성 요소 중 E는 하기 일반 화학식 VIII로부터 유래하는 유기관능성 라디칼에 해당한다
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이고/거나 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함). 바람직한 구현예에 있어서, E는 F3C(CF2)r(CH2)s 기 (r은 0 내지 9의 정수이며, s는 0 또는 2이고, 특히 바람직하게는 r은 5이며, s는 2임), CF3(CF2)5(CH2)2 기, 또는 CF3(C6H4) 또는 C6F5 기에 해당한다. 적절한 구현예에 있어서, E는 하기 일반 화학식 IX의 술판알킬 라디칼에 해당한다
<화학식 IX>
(여기서 q = 1, 2 또는 3이고, X = Sp이며, p는 평균 2 또는 2.18, 또는 평균 4 또는 3.8에 해당하고, 2 내지 12의 사슬 중 황 원자 분포를 가지며, v, R8 및 R9는 상기 정의된 바와 같음). E가 일반 화학식 IX에 해당하는 최종 실란은 예를 들면 비스(트리에톡시실릴프로필)디술판 (Si 266), 비스(트리메톡시실릴프로필)디술판, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술판 (Si 69), 비스(트리메톡시실릴프로필)테트라술판, 비스(트리에톡시실릴메틸)디술판, 비스(트리메톡시실릴메틸)디술판, 비스(트리에톡시실릴프로필)디술판, 비스(디에톡시메틸실릴프로필)디술판, 비스(디메톡시메틸실릴프로필)디술판, 비스(디메톡시메틸실릴메틸)디술판, 비스(디에톡시메틸실릴메틸)디술판, 비스(디에톡시메틸실릴프로필)테트라술판, 비스(디메톡시메틸실릴프로필)테트라술판, 비스(디메톡시메틸실릴메틸)테트라술판 및/또는 비스(디에톡시메틸실릴메틸)테트라술판일 수 있다. 추가의 적절한 구현예에 있어서, E는 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시 또는 n-프로폭시 라디칼에 해당하고, 여기서 v는 0이어서, 일반 화학식 VIII의 화합물은 테트라알콕시실란에 해당한다. 통상적인 테트라알콕시실란은 테트라메톡시실란 또는 테트라에톡시실란이다.
특히 바람직한 일반 화학식 VIII의 화합물로는 하기가 있다: 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸-1-트리메톡시실란, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸-1-트리에톡시실란 또는 그로부터 유래하는 실란들을 함유하는 상응 혼합물, 또는 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필메틸디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필메틸디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필시클로헥실디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필페닐디에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리에톡시실란, 3,3,3,2,2-펜타플루오로프로필메틸디메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필옥시에틸트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필메르캅토에틸트리메톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필옥시에틸메틸디메톡시실란, 특히 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리메톡시실란 및 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸트리에톡시실란 및 아크릴옥시프로필트리알콕시실란, 메타크릴옥시프로필트리알콕시실란 (알콕시 라디칼이 메톡시, 에톡시 또는 프로폭시 라디칼에 의해 치환되는 것이 가능함). 적합한 화합물은 역시 메타크릴옥시메틸트리에톡시실란, 메타크릴옥시메틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 메타크릴옥시메틸메틸디에톡시실란 및/또는 메타크릴옥시메틸메틸디메톡시실란이다.
본 발명에 따른 조성물은 1.0 내지 5.4 범위, 특히 3.0 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 5.4, 특히 바람직하게는 3.5 내지 4.8 범위의 pH를 가진다. 조성물의 제조에 원래 사용되는 알콕시실란을 기준으로, 그것은 5 내지 35 중량％, 특히 7.5 내지 40 중량％, 바람직하게는 10 내지 40 중량％, 특히 바람직하게는 12.5 내지 30 중량％의 규소 화합물 함량을 가질 수 있다. 상기 조성물의 장점은 2.0 내지 5.4, 특히 3.5 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 4.8, 특히 바람직하게는 4.2 내지 4.8의 pH에서, 12.5 내지 30 중량％의 규소 화합물 함량의 경우에도, 그것이 안정하게 유지된다는 것이다.
조성물은 그것이 폐쇄된 용기 중 실온에서 2개월 이상, 바람직하게는 6개월의 기간 동안, 특히 바람직하게는 실온 (20 내지 25 ℃)에서 10개월 동안 겔을 형성하지 않는 경우에 안정한 것으로 간주된다. 특히 안정한 조성물은 상기 조건하에서 12개월 동안 안정하다. 다르게는, 특히 안정한 조성물은 스트레스 조건하에서 2개월 이하, 특히 6개월의 안정성을 가질 수 있다. 스트레스 조건은 60 ℃에서의 폐쇄된 용기 중 저장을 의미하는 것으로 양해된다.
조성물의 pH는 일반적으로 이후의 pH 조정이 생략될 수 있도록 그의 제조시에 조정된다. 바람직하게는, 포름산, 아세트산, 산성 실리카 겔, 산성 실리카 졸, 빙초산, 질산, 황산 및/또는 인산이 pH 조정용 산, 구체적으로 HX (여기서 X는 무기 또는 유기 산 라디칼임)로서 사용된다. 적합한 실리카 졸은 특히 산성 실리카 졸은 물론, 침전 실리카 또는 분산 실리카로서의 레바실(Levasil) 100S이다.
나노규모 충전재 또는 일반적으로는 통상의 충전재가 보조제로서, 그리고 추가 성분으로서 조성물에 첨가될 수 있다. 이들 역시 중성 또는 염기성의 실리카 졸 또는 실리카 겔일 수 있다. 유동성 개선제와 같은 첨가제, 또는 예를 들면 경화 속도를 변경하기 위한 촉매가 조성물에 첨가될 수도 있다. 역시 본 발명에 따른 실질적 무-용매의 조성물은, 하나 이상의 구조가 이상화된 형태로 표시된 일반 화학식 (I)에 해당하고, 여기서 b ≥ 0, a ≥ 1, c ≥ 1, d ≥ 0 및/또는 w ≥ 0 및 e ≥ 1이고, pH는 < 12이며, 특히 b가 0인 것이 가능한, 실질적으로 완전히 가수분해되고 실질적으로 수용성인 비스-아미노관능성 규소 화합물을 포함한다.
상기 조성물은 바람직하게는 물, 산, 그리고 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실질적으로 수용성인 알콕시실란 및/또는 실질적으로 완전히 가수분해된 그의 수용성 공축합물로부터 유래하며, 하나 이상의 구조가 이상화된 형태로 표시된 일반 화학식 (I)에 해당하는 규소 화합물로만 구성될 수 있으며, 유기 용매가 실질적으로 없다. 따라서, 본 발명에 따른 조성물은 유리하게도 상기 규소 화합물 5 내지 40 중량％, 바람직하게는 7.5 내지 35 중량％, 특히 12.5 내지 30 중량％의 활성 물질 함량을 가질 수 있다. 바람직하게는, 이러한 조성물의 pH는 2.0 내지 5.4이다. 조성물을 안정화하기 위한 추가의 첨가제는 일반적으로 필요하지 않다. 본 발명에 따른 다른 실질적 무-용매의 조성물은 하나 이상의 구조가 이상화된 형태로 표시된 일반 화학식 (I)에 해당하고, 여기서 b = 0, a ≥ 1, c = 0, d = 0, w = 0 및 e ≥ 1인, 실질적으로 완전히 가수분해되고 실질적으로 수용성인 비스-아미노관능성 규소 화합물로 구성되는데, 특히 비스아미노알킬알콕시실란의 함량은 12.5 이상, 특히 12.5 내지 35 중량％, 바람직하게는 15 내지 35 중량％, 특히 바람직하게는 15 내지 25 중량％의 범위로 상기 정의에 따른 조성물에 존재하며, 제조 공정 동안 및/또는 조성물에서의 pH는 바람직하게는 1.0 내지 5.4, 특히 3.5 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 4.8, 특히 바람직하게는 4.2 내지 4.8이다. 이러한 조성물도 실온에서 6개월 이상, 바람직하게는 실온에서 12개월, 특히 60 ℃에서 5개월 이하의 폐쇄 용기 중 저장-수명(shelf-life)을 가진다. 적절한 구현예에 있어서, 이러한 조성물 중 비스아미노알킬알콕시실란의 함량은 1 내지 12.5 중량％, 특히 5 내지 12.5 중량％ 범위일 수도 있으며, 제조 공정 동안 및/또는 조성물에서의 pH는 바람직하게는 1.0 내지 5.4, 특히 3.5 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 4.8, 특히 바람직하게는 4.2 내지 4.8이다.
다른 구현예에 있어서, 실질적으로 무-용매인 조성물은 하나 이상의 구조가 이상화된 형태로 표시된 일반 화학식 (I)에 해당하고, 여기서 b ≥ 1, a ≥ 1, c = 0, d = 0, w = 0 및 e ≥ 1인, 실질적으로 완전히 가수분해되고 실질적으로 수용성인 비스-아미노관능성 규소 화합물로 구성되며, 비스-아미노관능성 알콕시실란 대 아미노관능성 알콕시실란의 몰 비는 ≥ 1.0이고, pH는 1.0 내지 5.4, 특히 3.5 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 4.8이다. pH가 3.5 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 4.8인 경우, 이러한 조성물은 ≥ 1.2, 특히 2의 비스-아미노관능성 알콕시실란 대 아미노관능성 알콕시실란 비에서 특히 안정하다. 이러한 조성물의 경우, 폐쇄된 용기 중 60 ℃에서 6개월 이상, 특히 8개월 이하의 저장-수명이 달성될 수 있다. 다르게는, 실질적으로 무-용매인 조성물은 특히 하나 이상의 구조가 이상화된 형태로 표시된 일반 화학식 (I)에 해당하고, 여기서 b ≥ 1, a ≥ 1, c ≥ 0, d ≥ 0, w ≥ 1 및 e ≥ 1인 것을 전제로 하는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물을 포함하며, pH는 바람직하게는 1.0 내지 5.4, 특히 3.0 내지 5.4, 특별히 3.5 내지 5.4, 특히 바람직하게는 3.5 내지 4.5이다. 바람직하게는 알콕시실란 화합물과 관련하여 5 내지 20 중량％의 함량이 사용됨으로써, 이 경우에는 플루오로-관능성 알콕시실란의 함량이 1 내지 18 중량％, 바람직하게는 2 내지 15 중량％, 특히 바람직하게는 3 내지 10 중량％가 되는 것이 가능하다.
또한, 본 발명에 따른 조성물은 유리하고도 실질적으로 물 또는 - 필요에 따라 - 수용성 용매와는 물론, 예컨대 메탄올, 에탄올 또는 이소프로판올과 원하는 대로 희석될 수 있다. 본 발명에 따른 조성물에서의 활성 물질 함량, 즉 상기 언급된 규소 화합물의 함량은 물 및/또는 수성 용매와의 희석에 의해 0.0001 내지 40 중량％의 함량까지 사실상 연속적으로 조정될 수 있다.
본 발명은 또한 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법에 관한 것으로서, 여기에서는 먼저 물, 산, 임의로는 알콜 및/또는 임의로는 촉매가 도입되고,
하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, i 및/또는 i*은 특히 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 3의 수 중 하나에 해당하며; i, i* = 3이고, g, g* = 0인 화합물 비스(트리에톡시실릴프로필)아민 ((H5C2O)3Si(CH2)3NH(CH2)3Si(OC2H5)3, 비스-AMEO)이 특히 바람직함),
임의로 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
임의로 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
임의로 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
임의로 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, 상기 술판알킬 라디칼은 하기 일반 화학식 IX에 해당함
<화학식 IX>
(여기서 q = 1, 2 또는 3이고, X = Sp이며, p는 평균 2 또는 2.18, 또는 평균 4 또는 3.8에 해당하고, 2 내지 12의 사슬 중 황 원자 분포를 가지며, v, R8 및 R9는 상기 정의된 바와 같음))
이 가수분해되고, 알콜이 실질적으로 제거된다.
본 발명에서는, 화학식 II의 실질적으로 가수분해되지 않은 비스-아미노관능성 알킬알콕시실란이 사용되는데, 가수분해되지 않은 것은 > 80 중량％, 특히 > 95 중량％, 구체적으로 98 중량％의 비스-아미노관능성 실란 화합물이 아직 가수분해되지 않은 형태로 반응 혼합물에 첨가된다는 것을 의미한다. 본 발명에 따른 다른 대안에 있어서는, 화학식 II의 하나 이상의 비스-아미노관능성 알킬알콕시실란과 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란만이 공정에 사용된다. 특히 바람직한 화합물은 비스-AMEO, 프로필트리알콕시실란 (PTMO, PTEO), 메틸트리에톡시실란, 메틸트리에톡시실란이다. 상기 정의에 따라, 이러한 알콕시실란들은 바람직하게는 비가수분해 형태로도 공정에 사용된다.
조성물 pH의 조정은 이후의 pH 조정이 생략될 수 있도록 일반적으로 그의 제조시에 수행된다. 바람직하게는, 포름산, 아세트산, 산성 실리카 겔 또는 산성 실리카 졸, 빙초산, 질산, 황산 및/또는 인산이 pH 조정을 위한 산으로서, 특히 HX로서 사용되며, X는 무기 또는 유기 산 라디칼이다. 적합한 실리카 졸은 특히 산성 실리카 졸은 물론, 침전 실리카 또는 분산 실리카로서의 레바실 100S이다. 예컨대 지르코늄 n-프로필레이트 또는 또 다른 통상적인 촉매가 촉매로서 사용될 수 있다.
일반적으로, 물 및 산이 먼저 도입되고, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실란 및/또는 그로부터 유래하는 생성물, 예컨대 양성자화 실란, 가수분해 생성물, 공축합물 및/또는 축합물이 연속적으로 및/또는 혼합물로서 첨가된 후, 특히 2.0 내지 5.4의 pH, 바람직하게는 3.0 내지 5.4의 pH에서 가수분해 및 임의로는 축합된다. 추가의 산 첨가에 의해, pH는 공정 동안 유지 또는 조정될 수 있다. 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실란, 그의 가수분해 생성물, 공축합물 또는 축합물, 및/또는 그의 혼합물은 수용액 및/또는 알콜 용액으로 첨가될 수 있다. 이는 연속적으로 또는 혼합물로서 수행될 수 있다. 수용액/알콜 용액에서 공정을 수행함에 있어서, 알콜 또는 알콜성 실란 용액의 첨가에 의해 가수분해는 12 미만의 pH에서, 즉 알칼리성 범위에서도 수행될 수 있다. 이후에, 가수분해 알콜 및 모든 추가적으로 첨가된 알콜은 반응 혼합물로부터 실질적으로 완전히 제거된다. pH 조정은 알콜의 제거 전 또는 후에 수행될 수 있다.
먼저 도입된 산성화된 물에 대한 알콜 용액의 첨가는 특히 하기의 방식으로 수행될 수 있다. 먼저, 알콜 예컨대 메탄올이 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실란, 임의로는 약간의 물 및 임의로는 촉매 또는 임의로는 산과 혼합되고, 짧은 반응 후, 산성화된 먼저 도입된 물에 첨가된다. pH가 원하는 범위에 있지 않은 경우, 그것은 추가의 산의 첨가에 의해 변경될 수 있다. 마찬가지로, 반응 혼합물에 대한 하나 이상의 실란의 첨가 후, 추가의 물이 첨가될 수도 있다.
조성물의 원하는 특성에 따라, TiO2, SiO2, 실리카 졸, 에어로실 분산액 및/또는 Al2O3와 같은 무기 충전재를 공정 자체에 첨가하는 것이 적절할 수 있다.
가수분해 알콜 또는 첨가된 알콜의 완전한 제거를 위해서는, 조성물이 실질적으로 무-알콜이 될 때까지 물이 일정하게 조성물에 첨가되어, 알콜과 함께 공비식으로 증류 제거될 수 있다.
다르게는, 일반 화학식 II의 수성 실란 및/또는 그의 공축합물 또는 축합물, 예를 들면 화학식 II의 VI와의 공축합물이 먼저 도입될 수 있으며, 낮은 pH, 예컨대 1.0 내지 3.5에서 가수분해된 후, 일반 화학식 IV, VII 및/또는 VIII의 실란 및/또는 그의 축합물이 개별적으로 또는 혼합물로서 첨가될 수 있는데; 바람직하게는 화학식 VI의 하나 이상의 실란이 첨가된다. 화학식 II 및/또는 IV의 추가의 아미노실란 첨가에 의해, pH는 증가될 수 있다. 최종 실란의 첨가 후, 반응 혼합물은 교반에 의해, 또한 30 내지 100 ℃의 온도에서 실질적으로 완전히 가수분해될 수 있다. 가수분해는 바람직하게는 모든 공정에서 55 내지 80 ℃로 수행된다.
따라서, 본 발명은 또한 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법은 물론, 상기 방법에 의해 수득가능한 조성물에 관한 것으로서, 여기에서는 하기 일반 화학식 II, IV 및/또는 VII의 하나 이상의 수용성 실란 또는 그의 수용성 축합물, 특히 하기 화학식 II, IV 및/또는 VII의 실란의 서로 간의, 또는 VI 및/또는 VIII과의 공축합물의 수용액이 예를 들면 실리카 졸, 또는 하기 일반 화학식 VI 실란의 수용성 가수분해 생성물, 특히 메틸-관능화된 것과 함께 먼저 도입된 후, 임의로는 산, 임의로는 알콜 및 임의로는 촉매 및 임의로는 하기 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 하나 이상의 추가 실란 또는 그의 축합물이 첨가된 다음, 가수분해되고, 알콜이 실질적으로 제거된다.
- 하기 비스아미노알콕시실란에 해당하는 화학식 II의 실란 및/또는 특히 적어도 부분적으로 양성자화된 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 아미노알킬알콕시실란에 해당하는 화학식 IV의 실란 및/또는 특히 적어도 부분적으로 양성자화된 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 하기 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란에 해당하는 화학식 VII의 실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 알킬알콕시실란에 해당하는 화학식 VI의 실란
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 알킬알콕시실란에 해당하는 화학식 VI의 추가 실란
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 유기관능성 알콕시실란에 해당하는 화학식 VIII의 실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함).
조성물의 원하는 특성에 따라, TiO2, SiO2, 실리카 졸, 에어로실 분산액 및/또는 Al2O3와 같은 무기 충전재를 공정 자체에 첨가하는 것이 적절할 수 있다.
본 발명에 따른 모든 방법 변형에서, 기존의 알콜 및/또는 반응 동안 형성되는 알콜은 반응 혼합물로부터 제거된다. 알콜의 증류 분리는 바람직하게는 감압하에서 수행된다. 알콜의 증류 제거는 바람직하게는 컬럼의 상부에서 물의 비점에 해당하는 온도가 달성될 때까지 수행된다. 알콜이 실질적으로 완전히 제거될 수 없는 경우에는, 추가의 물이 첨가된 후, 알콜/물 혼합물이 추가 제거되는데, 특히 증류에 의해 제거된다. 이와 같은 절차는 알콜이 실질적으로 제거될 때까지 반복된다. 알콜은 그의 함량이 4 중량％ 미만, 특히 2 중량％ 미만, 바람직하게는 1 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.5 중량％ 미만, 0.1 중량％ 미만 또는 0.05 중량％ 미만인 경우에 실질적으로 제거된 것으로 간주된다. 생성되는 조성물은 실질적으로 무-알콜로서, 다시 말하면 바람직하게는 임의로는 첨가된 알콜은 물론 가수분해 알콜도 대략 완전한 가수분해 후 반응 시스템으로부터 완전히 제거된다. 따라서, 그 함량이 4 중량％ 미만, 특히 2 중량％ 미만, 바람직하게는 1 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.5 중량％ 미만, 0.1 중량％ 미만 또는 0.05 중량％ 미만인 경우, 사용되는 조성물에는 유리 알콜 및/또는 알콕시 라디칼이 실질적으로 없다.
선행 기술의 공정들과는 달리, 상기언급된 방법에서는 물 50 내지 90 중량％, 특히 65 내지 90 중량％의 물 함량에서 치환된 알콕시실란이 가수분해된다. 상기 물 함량은 알콜 및/또는 물이 혼합물로부터 제거되기 전의 먼저 도입되는 물의 양 또는 총 반응 혼합물 중 총 물 함량을 기준으로 한다. 반응 동안, pH는 2.0 내지 5.4, 특히 3.0 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 5.4이어야 한다. 반응 혼합물로부터의 알콜의 제거 후에도, 조성물의 pH는 1.0 내지 5.4, 특히 3.0 내지 5.4, 바람직하게는 3.5 내지 5.4일 수 있다. 비스아미노, 아미노, 알킬, 에폭시, 폴리알킬글리콜알킬, 3-글리시딜옥시알킬, 글리시딜옥시알킬, 플루오로알킬, 메르캅토, 우레이도알킬, 알케닐 또는 아크릴로일옥시알킬 라디칼에 의해 치환된 사용 알콕시실란 및/또는 테트라알콕시실란은, 알콜의 제거 후, 모두 합쳐 조성물에 사용되는 알콕시실란 기준 7.5 내지 50 중량％, 특히 10 내지 40 중량％, 바람직하게는 10 내지 35 중량％, 특히 바람직하게는 20 내지 35 중량％의 함량으로 존재한다.
본 발명에 따른 방법에 의해 제조되는 조성물은 안정하고, 투명하거나 또는 일부 경우에는 탁한 용액으로서 유백광이기도 하며, 유기 용매가 실질적으로 없고, 어떠한 비로도 물과 희석될 수 있으며, 물의 첨가시에 가수분해 알콜을 실질적으로 발생시키지 않으며, 63 ℃ 초과, 바람직하게는 80 ℃ 초과, 특히 바람직하게는 93 ℃ 초과의 인화점을 가진다.
본 발명은 또한 먼저 물, 산, 및 임의로는 알콜을 도입한 후,
하기 화학식 II의 하나 이상의 비스-아미노관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
임의로 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
임의로 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
임의로 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
임의로 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, 상기 술판알킬 라디칼은 하기 일반 화학식 IX에 해당함
<화학식 IX>
(여기서 q = 1, 2 또는 3이고, X = Sp이며, p는 평균 2 또는 2.18, 또는 평균 4 또는 3.8에 해당하고, 2 내지 12의 사슬 중 황 원자 분포를 가지며, v, R8 및 R9는 상기 정의된 바와 같음))
을 반응시키고, 가수분해, 특히 완전히 가수분해한 다음, 알콜을 실질적으로 완전히 제거함으로써 수득가능한, 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 수성 조성물 또는 수성 실란 시스템에 관한 것이다.
언급한 바와 같이, 바람직하게는 실질적으로 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스-아미노관능성 알킬알콕시실란 또는 화학식 IV, VI, VII 및/또는 VIII의 비가수분해 알콕시실란이 사용된다. 생성되는 조성물은 실질적으로 무-알콜이다.
본 발명은 또한 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법에 관한 것으로서, 여기에서는 먼저 유기 용매, 임의로는 물, 임의로는 산 및/또는 임의로는 촉매가 도입되고,
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 임의로는 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 임의로는 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 임의로는 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 임의로는 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
이 가수분해, 특히 완전히 가수분해되고, 가수분해 알콜 및 용매가 실질적으로 제거된다.
적합한 용매는 특히 메탄올, 에탄올, 프로판올 및/또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 알콜이다. 그러나, 적절한 용매는 에틸 아세테이트, THF, 케톤 또는 탄화수소일 수도 있다.
본 발명에 있어서, 알콜은 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실란들 중 1종 이상, 그의 축합물 및/또는 이들의 혼합물과 함께 먼저 도입된다. 이후에, 물 및/또는 산이 첨가될 수 있다. 물만이 첨가될 경우, 가수분해는 알칼리성 범위에서 이루어질 수 있다.
공정은 바람직하게는 알콜 및 임의로는 물이 먼저 도입된 후, 일반 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 및/또는 그의 축합물이 첨가되고, 가수분해 및 임의로는 축합되는 방식으로 수행된다. 일반 화학식 I의 비스아미노알콕시실란 첨가의 결과로서, 반응 혼합물은 알칼리성이 된다. 바람직하게는, 실질적으로 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란이 사용된다. 본 발명에서는, 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알킬알콕시실란 및 1종의 일반 화학식 VI의 알킬알콕시실란이 사용된다.
알콜 및 임의로는 물 및 임의로는 산이 먼저 도입되는 경우에는, 일반 화학식 II의 비스아미노알콕시실란 및/또는 그의 축합물을 첨가하고, 가수분해 및 임의로는 축합된다. 바람직하게는, 다음에 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및 임의로는 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란, 임의로는 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및 임의로는 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물이 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가된다. 이 경우, 가수분해는 알칼리성 범위에서 이루어지며, pH는 바람직하게는 12 미만이다.
일반 화학식 II, IV, VI, VII 또는 VIII의 실란 및/또는 그로부터 유래하는 생성물, 예컨대 가수분해 생성물 및/또는 축합물, 예컨대 공축합물의 첨가는 연속적으로 또는 혼합물로서 수행될 수 있다. 마찬가지로, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및/또는 VIII의 실란 및/또는 그의 축합물의 첨가는 수용액 및/또는 알콜 용액 중에서 수행될 수 있다. 필요에 따라, 이산화 티타늄, 실리카, 실리카 졸, 에어로실 분산액 또는 산화 알루미늄과 같은 하나 이상의 무기 충전재가 공정 동안에 첨가될 수 있다.
가수분해 전 또는 동안에 산이 첨가되지 않는 경우, pH가 알칼리성이 될 수 있는데, 특히 12 미만일 수 있다. 반응은 30 내지 100 ℃, 바람직하게는 55 내지 80 ℃에서 수행될 수 있다. 가수분해 및 임의로는 축합 수행 후, pH는 1.0 내지 7.0의 값으로 조정될 수 있다. 이것은 산의 첨가에 의해 수행된다.
바람직하게는, 포름산, 아세트산, 산성 실리카 겔, 산성 실리카 졸, 빙초산, 질산, 황산 및/또는 인산이 pH 조정용 산, 특히 HX로서 사용되며, X는 무기 또는 유기 산 라디칼이다. 적합한 실리카 졸은 특히 산성 실리카 졸은 물론 침전 실리카 또는 분산 실리카로서의 레바실 100S이다.
용매 및 반응 동안 형성되는 알콜은 반응 혼합물로부터 제거된다. 용매 및/또는 알콜의 증류 분리는 바람직하게는 감압하에서 수행된다. 증류 제거는 바람직하게는 컬럼의 상부에서 물의 비점에 해당하는 온도가 달성될 때까지 수행된다. 알콜 및/또는 용매가 실질적으로 완전히 제거될 수 없는 경우에는, 추가의 물이 첨가된 후, 용매/물 또는 알콜/물 혼합물이 추가 제거되는데, 특히 증류에 의해 제거된다. 이와 같은 절차는 알콜이 실질적으로 제거될 때까지 반복된다.
생성되는 조성은 실질적으로 무용매, 특히 무-알콜로서, 다시 말하자면 대략적으로 완전한 가수분해 후, 임의로는 첨가된 알콜은 물론 가수분해 알콜도 반응 시스템으로부터 바람직하게는 완전히 제거된다. 따라서, 그 함량이 5 중량％ 미만, 4 중량％ 미만, 특히 2 중량％ 미만, 바람직하게는 1 중량％ 미만, 특히 바람직하게는 0.5 중량％ 미만, 0.1 중량％ 미만 또는 0.05 중량％ 미만인 경우, 사용되는 조성물에는 유리 알콜 및/또는 알콕시 라디칼이 실질적으로 없다. 가수분해 알콜 및 용매의 제거 후 조성물의 pH는 바람직하게는 3.0 내지 5.4, 특히 바람직하게는 3.5 내지 5.4이다.
본 발명은 또한 유기 용매, 임의로는 물, 임의로는 산 및/또는 임의로는 촉매, 그리고
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 임의로는 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 임의로는 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 임의로는 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 임의로는 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
을 먼저 도입하고, 가수분해, 특히 완전히 가수분해하고, 가수분해 알콜 및 용매를 실질적으로 완전하게 제거하여 수득가능한, 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방법에 의해 제조되는 조성물은 안정하고, 투명하거나 또는 일부 경우에는 탁한 용액으로서 유백광이기도 하며, 유기 용매가 실질적으로 없고, 어떠한 비로도 물과 희석될 수 있으며, 물의 첨가시에 가수분해 알콜을 실질적으로 발생시키지 않으며, 63 ℃ 초과, 바람직하게는 80 ℃ 초과, 특히 바람직하게는 93 ℃ 초과의 인화점을 가진다.
본 발명은 또한 실질적으로 알콕시 기가 없는 실질적으로 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법은 물론, 상기 방법에 의해 수득가능한 조성물에 관한 것으로서, 상기 방법에서는,
하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및/또는
하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 및/또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및/또는
하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8 *-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8 *은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
이 먼저 도입된 후 (대안으로써, 화학식 IV, VI 및/또는 VIII의 실란이 화학식 II 및/또는 IV의 하나 이상의 실란과의 혼합물로서 먼저 도입되는 것이 가능함),
- 물의 존재하에, 및 산 및/또는 촉매와 물 및 임의로는 용매의 존재하에 적어도 부분적으로 가수분해된 다음, 제2 가수분해 단계에서
- 추가의 물 및 임의로는 추가의 산의 존재하에
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및/또는 i* = 0 내지 8, f 및/또는 f* = 1, 2 또는 3, g 및/또는 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 및/또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 임의로는 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 및/또는 그의 축합물
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 및/또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 및/또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고/거나
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임)
이 첨가되고, 가수분해된 후, 알콜이 실질적으로 제거된다.
일반 화학식 VI, VII 또는 VIII의 실란 및/또는 축합물은 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가될 수 있다. 제2 가수분해 단계에서의 물 첨가는 수성 실란 혼합물의 첨가 또는 별도의 물 첨가에 의해 수행될 수 있다. 구체적으로, 제2 가수분해 단계 동안의 물 함량은 50 내지 90 중량％, 특히 바람직하게는 65 내지 90 중량％이다. 반면, 가수분해 동안의 pH는 특히 2.0 내지 5.4, 바람직하게는 3.0 내지 5.4이다. pH는 상기에서 언급된 것들에 속하는 산의 첨가에 의해 언제든지 조정될 수 있다.
규소 화합물의 함량은 모두 합쳐 7.5 내지 40 중량％일 수 있다. 바람직한 구현예에서는, 실질적으로 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란이 사용된다. 본 발명에서는, 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알킬알콕시실란 및 1종의 일반 화학식 VI의 알킬알콕시실란이 사용된다.
적절한 구현예에서는, TiO2, SiO2, 실리카 졸, 에어로실 분산액 및/또는 Al2O3와 같은 하나 이상의 무기 충전재가 공정 동안 사용될 수 있다. 가수분해 및 축합은 30 내지 100 ℃, 바람직하게는 55 내지 80 ℃의 온도 범위에서 수행된다.
가수분해 알콜 및 임의로는 첨가된 알콜의 추가 제거를 위해서는, 추가의 물이 혼합물에 첨가될 수 있으며, 조성물에 실질적으로 알콜이 없게 될 때까지 알콜/물 혼합물이 다시 제거될 수 있다. 이와 같은 절차는 조성물이 실질적으로 무-알콜이 될 때까지 반복될 수 있다. 알콜의 제거 후, 조성물의 pH는 바람직하게는 1.0 내지 5.4, 특히 바람직하게는 3.0 내지 5.4이다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 조성물의 추가 실란-기재 조성물과의 혼합물에서의 용도에 관한 것으로서, 구체적으로 상기 혼합물은 알킬-, 알케닐-, 아릴-, 에폭시-, 디히드록시알킬-, 아미노알킬-, 폴리알킬글리콜알킬-, 할로알킬-, 메르캅토알킬-, 술판알킬-, 우레이도알킬- 또는 아크릴로일옥시알킬관능성 및/또는 테트라알콕시관능성 실란을 기재로 하는 실란-기재 조성물, 및/또는 그의 혼합물과 함께, 비스-아미노관능성 규소 화합물을 함유하는 조성물을 포함한다. 특히, 추가 실란을 포함하는 혼합물에 대한 본 발명에 따른 조성물의 첨가는 경화 온도를 감소시키며, 추가 실란의 방수 특성은 바람직하게도 유지 또는 향상된다. 이에 대한 예는 사용 실시예에 개시되어 있다.
본 발명에 따른 조성물 및/또는 혼합물은 예를 들면 유리 히드록실 관능기를 갖는 기재 표면의 소수화에 사용될 수 있다. 히드록실 관능기와의 가교결합의 결과로서, 및/또는 있을 수 있는 아미노 관능기의 착물 형성 및/또는 반응에 의해, 기재 표면 상에 적용된 층의 높은 강도가 달성된다. 일반적으로, 상기 조성물 및/또는 혼합물은 기재 표면을 처리 또는 개질하는 데에, 특히 기재 표면 상에 장벽 층을 구축하는 데에 사용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 조성물 또는 혼합물은 예를 들면 스테인리스강, 알루미늄, 강철 또는 티타늄과 같은 금속 표면, 유리 표면, 플라스틱 표면과 같은 유기 기재, 또는 특히 예를 들면 종이, 면 또는 목재와 같은 천연 섬유질, 콘크리트, 벽돌, 사암 및 기타 무기 표면과 같은 광물질 표면의 소수화에 사용된다. 조성물이 공축합물의 형태로 또는 혼합물로서 플루오로실란을 함유하는 규소 화합물을 기재로 하는 경우에는, 소유성 및 내그래피티성 특성이 달성될 수도 있다. 다른 사용 분야는 유리, 금속, 콘크리트, 모르타르, 스크리드(screed) 또는 사암과 같은 광물질 표면, 유기 기재, 특히 예를 들면 종이, 면 또는 목재와 같은 천연 섬유질을 포함하는 표면의 프라이밍으로 열려 있다. 예를 들면, 금속 표면의 프라이밍에 의해 개선된 접착성 및 그에 따른 특히 더 우수한 부식 방지성이 달성될 수 있다. 마찬가지로, 본 발명에 따른 조성물 또는 그와 같은 조성물을 기재로 하는 혼합물은 유리하게도 - 몇 가지 예만 언급하자면 - 철, 강철, 스테인리스강, 알루미늄, 알루미늄 합금, 은, 구리와 같은 금속의 부식 방지에 사용될 수 있다. 부식으로부터 방지되는 금속 또는 금속 표면은 처리되지 않거나 예비처리될 수 있는데; 포스페이트화, 크롬(VI)도금(chromatized), 크롬(III)도금(chromitized) 또는 아연도금된 금속 표면, 또는 추가적으로 크롬(VI)도금, 크롬(III)도금 또는 포스페이트화된 아연도금 금속 표면이 처리된 금속 표면의 예로서 구체적으로 언급될 수 있다. 일반적으로, 크롬(VI)도금된 금속 표면은 크롬(VI)-함유 제제를 사용하여 처리 또는 부동태화된 것을 의미하는 것으로 양해될 수 있다. 유사하게, 크롬(III)도금된 금속 표면은 본원에서 크롬(III)-함유 제제를 사용하여 처리 또는 부동태화된 금속 표면을 의미하는 것으로 양해된다. 또한, 상기 수성 조성물은 광물성 오일 추출에서, 예를 들면 사전조립 콘크리트 및/또는 모르타르 구성요소, 예컨대 파이프 등의 제조에서, 또는 수성 코팅 또는 수지 배합물에서 암반 강화에 사용될 수 있다. 있을 수 있는 추가 용도에 있어서, 본 발명에 따른 조성물은 특히 첨가제 및/또는 충전재의 첨가에 의해 그의 생성물 특성이 추가 개질될 수 있다. 그에 따라, 예를 들면 유동성 개선제의 첨가에 의해 표면 전체에 걸친 향상된 분포가 달성될 수 있다. 촉매, 예를 들면 지르코늄 n-프로필레이트의 첨가, 또는 pH의 변경에 의해서는, 제조된 조성물의 경화가 촉진될 수 있다.
본 발명은 또한 상기 조성물 및/또는 혼합물을 사용함으로써 수득되는 코팅되거나 강화된 생성물에 관한 것이다. 코팅된 유리, 코팅된 아크릴 유리, 부식-방지된 금속 또는 부식-방지된 광물질 기재, 예컨대 경화된 콘크리트 또는 모르타르, 또는 상기 유기 기재, 특히 처리되거나 코팅된 천연 섬유질을 포함하는 생성물이 구체적으로 여기에 언급될 수 있다. 이들의 예로 조성물을 사용하여 처리된 보강재가 있는데, 이것은 콘크리트에서의 그의 사용 전에 조성물로 코팅된다. 그밖에, 아직 경화되지 않은 콘크리트 혼합물이 본 발명에 따른 조성물과 혼합되어 가공된 다음, 경화될 수도 있다. 이와 같은 경우에는, 예를 들면 올바른 pH 또는 기타 파라미터를 선택하는 것에 의해 조성물이 가공가능하게 유지될 수 있도록 해야 한다. 이와 같은 방식으로, 예를 들면 콘크리트를 포함하는 소수성의 부식-내성인 콘크리트 또는 생성물, 예컨대 건물용 유출 파이프 또는 사전조립 구성요소가 수득될 수 있다. 이와 같은 방식으로 처리된 콘크리트는 환경적인 영향에 대하여 상당히 더 우수한 부식 내성을 가진다.
하기의 실시예를 참고하여, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
[실시예]
분석 조사:
잔류물:
수성 실란 시스템의 고체 함량은 하기와 같이 측정한다:
1 g의 샘플을 소형 자기 접시로 칭량하여, 건조 오븐에서 일정 중량까지 105 ℃로 건조한다.
SiO2 함량:
1.0 내지 5.0 g의 샘플을 400 ml 비이커에서 키옐달(Kjeldahl) 정제 및 20 ml의 황산과 혼합하고, 먼저 천천히 가열한다. 이와 같은 절차 동안 비이커는 시계접시로 덮어 놓는다. 황산이 격렬하게 훈증되고 모든 유기 성분이 파괴된 후 용액이 투명하고 밝게 유지될 때까지 온도를 증가시킨다. 증류수를 사용하여 냉각된 분해 용액을 약 200 ml로 희석하고, 짧게 끓인다 (비이커의 가장자리에서 산 아래로 물이 유동하도록 함). 와이스밴드(Weissband) 필터를 통하여 잔류물을 여과하고, 세척수가 > 4의 pH (pH 페이퍼)를 나타낼 때까지 열수로 세척한다. 필터를 백금 도가니에서 건조한 후, 머플(muffle) 노에서 800 ℃로 1시간 동안 애싱(ashed) 및 연소시킨다. 칭량 후, 증기가 방출될 때까지 잔류물을 플루오르화수소산과 함께 가열하고, 송풍토치(blowtorch)를 이용하여 도가니를 연소시킨 후, 임의로는 800 ℃에서 다시 연소시키고, 냉각 후 칭량한다. 2회 칭량 사이의 차이가 SiO2의 함량에 해당한다.
산정: D × 100/W = SiO2의 중량％
D = 플루오르화수소산과의 가열 전 및 후의 mg 중량 차이
100 = ％ 전환계수
W = mg 개시 중량
유리 메탄올 및 에탄올 함량의 측정:
알콜 측정은 GC를 이용하여 수행하였다.
컬럼: RTX 200 (60 m)
온도 프로그램: 90-10-25-240-0
검출기: FID
주입된 양: 1.0 ㎕
내부 표준: 2-부탄올
사용된 실란 및 실란 시스템:
실시예
1
592.84 g의 물 및 17.16 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 90.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 3.5이었다. 60 ℃에서 3시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 ETOH/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 600 g이었다. 압력 필터 (세이쯔(Seitz) T-950)를 통하여 잔류물을 여과하였다. 3.5의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.4 ％ (w/w)
SiO2 함량: 3.1 ％
유리 에탄올: 1.8 ％
실시예
2
598.6 g의 물 및 10.49 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 75.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.2이었다. 60 ℃에서 1시간 동안 교반을 수행한 이후, 28.91 g의 PTMO를 계량 투입하고, 반응 혼합물을 추가 2시간 동안 60 ℃로 가열하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 600 g이었다. 압력 필터 (세이쯔 T-950)를 통하여 잔류물을 여과하였다. 4.2의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.5 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.8 ％
유리 메탄올: 0.8 ％
유리 에탄올: 1.4 ％
실시예
3
597.41 g의 물 및 36.97 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 90.0 g의 비스-AMEO, 90.0 g의 AMEO 및 30 g의 PTMO를 계량 투입하였다. pH는 4.03이었다. 60 ℃에서 3시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 600 g이었다. 압력 필터 (세이쯔 T-950)를 통하여 잔류물을 여과하였다. 3.86의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 22.2 ％ (w/w)
SiO2 함량: 9.1 ％
유리 메탄올: 0.3 ％
유리 에탄올: 1.2 ％
인화점: > 95 ℃
실시예
4
597.41 g의 물 및 30.0 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 90.0 g의 비스-AMEO, 90.0 g의 AMEO 및 60.0 g의 PTMO를 계량 투입하였다. 추가 4.09 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 5.39이었다. 60 ℃에서 3시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 600 g이었다. 압력 필터 (세이쯔 T-950)를 통하여 잔류물을 여과하였다. 5.4의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 21.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 10.0 ％
유리 메탄올: 0.7 ％
유리 에탄올: 1.0 ％
실시예
5
400.00 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 1.55 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.17이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40 g의 PTMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.11의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 11.8 ％ (w/w)
SiO2 함량: 6.1 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: < 0.1 ％
실시예
6
400.00 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 1.45 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.15이었다. 60 ℃에서 90분 (계량 투입 시간 포함) 동안 교반을 수행하였다. 이후, 32 g의 PTMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.10의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.1 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.1 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: 1.1 ％
실시예
7
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 0.54 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.28이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40.0 g의 PTMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 추가 2시간 동안 배치를 교반하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.3의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 8.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.9 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: 0.3 ％
인화점: > 95 ℃
실시예
8
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 0.50 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.24이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, PTMO 32.0 g 및 디메틸디메톡시실란 8.0 g의 혼합물을 계량 투입하고, 65 ℃에서 추가 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.0의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 8.8 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.1 ％
유리 메탄올: 0.7 ％
유리 에탄올: 0.2 ％
실시예
9
400.00 g의 물 및 8.3 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 3.60이었다. 60 ℃에서 60분 동안 교반을 수행하였다. 이후, PTMO 40.0 g 및 AMEO 10 g의 혼합물을 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 3.8의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 13.6 ％ (w/w)
SiO2 함량: 7.1 ％
유리 메탄올: 1.2 ％
유리 에탄올: 1.0 ％
실시예
10
400.00 g의 물 및 10.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 3.25이었다. 60 ℃에서 60분 동안 교반을 수행하였다. 이후, PTMO 40.0 g 및 DAMO 10 g의 혼합물을 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 3.38의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 14.3 ％ (w/w)
SiO2 함량: 7.0 ％
유리 메탄올: 1.3 ％
유리 에탄올: 0.6 ％
실시예
11
150 g의 수성 제품 디나실란® F 8815를 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 60 g의 증류 H2O 및 1.1 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 교반하면서 첨가하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 7.5 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 200 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.41의 pH를 가지며 저장-안정성인 유백광의 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 4.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 1.4 ％
유리 메탄올: 0.3 ％
유리 에탄올: 3.8 ％
실시예
12
200.00 g의 에탄올, 20 g의 물 및 2.9 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO 및 10 g의 디나실란® F 8261을 계량 투입하였다. 추가 2.85 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 3.45이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 200 g의 물을 천천히 첨가하였다. 용액은 균질하게 유지되었으며, 약간 유백광이었다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 혼합물을 교반하였다. 이후, 추가 200 g의 물을 첨가한 다음, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 에탄올/물 혼합물을 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 3.70의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 유백광인 액체를 수득하였다.
잔류물: 4.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 1.3 ％
유리 메탄올: < 0.1 ％
유리 에탄올: 2.1 ％
실시예
13
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.24이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, PTMO 40.0 g 및 GLYMO 10 g의 혼합물을 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.4의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 약간 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.6 ％
유리 메탄올: 0.7 ％
유리 에탄올: 2.0 ％
100 g의 탈염수를 다시 배치 (400 g)에 첨가하고, 약 130 내지 200 mbar에서 약 100의 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다.
투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
유리 에탄올 함량: < 0.1 ％ (w/w)
유리 메탄올 함량: < 0.1 ％ (w/w)
인화점: > 95 ℃
실시예
14
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소 분위기하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 1.8 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.21이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, PTMO 32.0 g 및 GLYMO 18.0 g의 혼합물을 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 증류에 의해 알콜/물 혼합물을 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.35의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 11.4 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.5 ％
유리 메탄올: 1.5 ％
유리 에탄올: 0.4 ％
실시예
15
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 질소하에서 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.3이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40.0 g의 MTES (메틸트리에톡시실란)를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 증류에 의해 알콜/물 혼합물을 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 4.35의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.7 ％ (w/w)
SiO2 함량: 6.0 ％
유리 메탄올: < 0.1 ％
유리 에탄올: 0.8 ％
실시예
16
계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에서, 먼저 N2하에서 40.0 g의 GLYMO에 실온에서 4.8 g의 빙초산 (100 ％ 농도 아세트산)을 첨가하였다. 5분 후, 4.8 g의 지르코늄 n-프로필레이트를 첨가하고, 추가 5분 후, 계량 장치를 통하여 물 83.7 g 및 레바실 100S/45 ％ 12.0 g의 혼합물을 첨가하였다. 용액은 약간 불투명하였으며, pH는 3.1이었다. 레바실 100S/45 ％의 첨가 동안, 온도가 약간 증가하였다. 다음에, 용액을 2시간 동안 65 ℃로 가열하였다. 이후, 용액을 400 g의 물로 희석하고, 65 ℃로 가열하였다. 이후, 추가 10.6 g의 아세트산을 첨가하고, 이어서 75.0 g의 비스-AMEO를 천천히 계량 투입하였다. pH는 4.5이었다. 배치를 65 ℃에서 2시간 동안 교반하면서 유지하였다. 다음에, 60 내지 65 ℃에서 메탄올/에탄올/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 500 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.67의 pH를 가지며 어느 정도까지 저장-안정성인 불투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 16.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 6.5 ％
유리 메탄올: 0.4 ％
유리 에탄올: 0.5 ％
실시예
17
597.41 g의 물 및 30 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 90.0 g의 비스-AMEO, 90 g의 AMEO 및 60 g의 PTMO를 계량 투입하였다. 추가 4.09 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 5.39이었다. 60 ℃에서 3시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 600 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다. 5.4의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 21.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 10.0 ％
유리 메탄올: 0.7 ％
유리 에탄올: 1.0 ％
실시예
18
200.00 g의 에탄올, 20 g의 물 및 1.4 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 10.0 g의 비스-AMEO 및 7.5 g의 디나실란® F 8261을 계량 투입하였다. 추가 2.01 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 3.53이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 100 g의 물을 천천히 첨가하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 혼합물을 교반하였다. 이후, 추가 150 g의 물을 첨가한 다음, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 에탄올/물 혼합물을 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 200 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
3.85의 pH를 가지며 저장-안정성인 유백광의 노란색을 띤 액체를 수득하였다.
잔류물: 5.8 ％ (w/w)
SiO2 함량: 1.4 ％
유리 에탄올: 2.0 ％
실시예
19
200.00 g의 에탄올, 20 g의 물 및 1.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 10.0 g의 비스-AMEO, 1.0 g의 AMEO 및 9 g의 디나실란® F 8261을 계량 투입하였다. 추가 0.65 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 3.52이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 100 g의 물을 천천히 첨가하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 혼합물을 교반하였다. 이후, 추가 150 g의 물을 첨가한 다음, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 에탄올/물 혼합물을 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 200 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
3.78의 pH를 가지며 저장-안정성인 유백광의 노란색을 띤 액체를 수득하였다.
잔류물: 6.3 ％ (w/w)
SiO2 함량: 1.7 ％
유리 에탄올: 3.4 ％
실시예
20
400.00 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g + MTES (메틸트리에톡시실란) 40 g의 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 2.40 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 3.99이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.05의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.7 ％
유리 에탄올: 0.8 ％
실시예
21
400.00 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g 및 MTES (메틸트리에톡시실란) 60 g의 혼합물을 계량 투입하였다. pH는 4.3이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 10 g의 GLYMO를 천천히 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.38의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 13.6 ％ (w/w)
SiO2 함량: 8.4 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: 0.6 ％
실시예
22
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.23이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40.0 g의 디나실란® 4144를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.45의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 12.4 ％ (w/w)
SiO2 함량: 2.3 ％
유리 메탄올: 0.2 ％
유리 에탄올: 0.1 ％
실시예
23
400.00 g의 물 및 2.8 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 20.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.21이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60.0 g의 디나실란® 4144를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.37의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 16.0 ％ (w/w)
SiO2 함량: 2.0 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: 0.1 ％
실시예
24
400.00 g의 물, 12.0 g의 레바실 100S 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g 및 MTES (메틸트리에톡시실란) 60 g의 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 2.18 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.33이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.43의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 12.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 8.4 ％
유리 에탄올: 0.5 ％
실시예
25
400.00 g의 물 및 5.0 g의 85 ％ 농도 인산을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g 및 MTES (메틸트리에톡시실란) 60 g의 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 6.25 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.19이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.32의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 13.3 ％ (w/w)
SiO2 함량: 7.9 ％
유리 에탄올: 2.7 ％
100 g의 탈염수를 다시 배치 (400 g)에 첨가하고, 약 130 내지 200 mbar에서 약 100의 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다.
< 0.1 ％ (w/w)의 유리 에탄올 함량을 갖는 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
인화점: > 95 ℃
실시예
26
400.00 g의 물 및 7.9 g의 70 ％ 농도 질산을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g 및 MTES (메틸트리에톡시실란) 60 g의 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 0.95 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.15이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.15의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 11.8 ％ (w/w)
SiO2 함량: 7.2 ％
유리 에탄올: 0.8 ％
실시예
27
400.00 g의 물 및 4.0 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 100 g의 수성 제품 디나실란® HS 2926을 철저하게 교반하면서 첨가하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.15이었다. 60 ℃에서 90분 동안, 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.25의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 13.5 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.0 ％
유리 에탄올: 0.2 ％
실시예
28
400.00 g의 물 및 4.0 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 다음에, 120 g의 수성 제품 디나실란® HS 2926을 철저하게 교반하면서 첨가하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 32.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. pH는 4.03이었다. 60 ℃에서 90분 동안, 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.10의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 14.4 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.9 ％
유리 에탄올: < 0.1 ％
실시예
29
400.00 g의 물 및 4.0 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 이후, 12 g의 레바실 100S/45를 교반하면서 첨가하고, 120 g의 수성 제품 디나실란® HS 2926을 첨가하였다. 다음에, 계량 장치를 통하여 32.0 g의 비스-AMEO를 천천히 계량 투입하였다. pH는 4.20이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 20 g의 VTMO를 적하 깔때기를 통하여 천천히 첨가한 다음, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.23의 pH를 가지며 저장-안정성인 불투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 18.1 ％ (w/w)
SiO2 함량: 8.2 ％
유리 메탄올: < 0.1 ％
유리 에탄올: < 0.1 ％
실시예
30
400.00 g의 물 및 3.2 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 30.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 2.45 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.27이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 30.0 g의 GLYMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.36의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.6 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.1 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: < 0.1 ％
실시예
31
400.00 g의 물, 4.3 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％) 및 12 g의 레바실 100S를 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. pH는 4.17이었다. 계량 장치를 통하여 30.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 30.0 g의 GLYMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.30의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 11.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.2 ％
유리 메탄올: 0.7 ％
유리 에탄올: 0.6 ％
실시예
32
400 g의 물 및 6.9 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 이중 재킷, 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. pH는 4.34이었다. 계량 장치를 통하여 50.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 9.6 g의 DMDMO를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.16의 pH를 가지며 저장-안정성인 불투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 8.90 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.3 ％
유리 메탄올: 0.1 ％
유리 에탄올: 0.3 ％
실시예
33
400.00 g의 물 및 7.8 g의 염산 (HCl의 농도 = 37 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 34.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 0.33 g의 염산 (37 ％ 농도)을 사용하여 pH를 2.04로 조정하였다. 60 ℃에서 30분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40 g의 MTES (메틸트리에톡시실란)를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 추가 3 g의 비스-AMEO를 첨가하였다. 그에 의해 pH는 5.4로 상승하였다. 염산 (37 ％ 농도) 0.37 g의 추가의 첨가에 의해, pH를 3.2로 조정하였다. 다음에, 추가 3.0 g의 비스-AMEO를 첨가함으로써, pH는 6.0으로 상승하였다. 염산 (37 ％ 농도) 0.74 g의 첨가에 의해, pH를 4.1로 조정하였다. 이후, 65 ℃의 저부 온도 및 130 내지 200 mbar의 감압에서 알콜/물 혼합물을 분리 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.30의 pH를 가지며 저장-안정성인 불투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.1 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.7 ％
유리 에탄올: 1.7 ％
실시예
34
400.00 g의 물 및 9.3 g의 염산 (HCl의 농도 = 37 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 2.41 g의 염산 (37 ％ 농도)을 사용하여 pH를 2.05로 조정하였다. 60 ℃에서 30분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 40 g의 MTES (메틸트리에톡시실란)를 계량 투입하고, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
1.75의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.6 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.7 ％
유리 에탄올: 1.5 ％
실시예
35
426.9 g의 물 및 5.1 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 이중 재킷, 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 40.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 0.55 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.30이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, N-포르밀-3-아미노프로필트리에톡시실란 14.0 g 및 MTES 14.0 g의 혼합물을 계량 투입하였다. pH는 4.3이었다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.1의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.3 ％ (w/w)
SiO2 함량: 4.5 ％
유리 에탄올: 0.2 ％
실시예
36
400.0 g의 물 및 6.0 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 이중 재킷, 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 50.0 g의 비스-AMEO를 계량 투입하였다. 추가 2.51 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.28이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 이후, 19.20 g의 N-포르밀-3-아미노프로필트리에톡시실란을 계량 투입하였다. pH는 4.3이었다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.07의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 12.7 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.1 ％
유리 에탄올: 0.2 ％
실시예
37
40.0 g의 비스-AMEO, 40.0 g의 MTES 및 40.0 g의 에탄올을 자석 교반기, 온도조절 장치 및 N2 밀봉장치(blanketing)가 구비된 250 ml 다목 플라스크에 먼저 도입하였다. 4.0 g의 물을 교반하면서 계량 투입하였다. 반응 혼합물을 60 ℃에서 1시간 동안 교반하였다. 400.0 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 60 ℃에서 상기 예비가수분해된 반응 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 1.00 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.25이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.24의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 9.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.1 ％
유리 에탄올: 0.3 ％
실시예
38
40.0 g의 비스-AMEO, 40.0 g의 MTES 및 40.0 g의 에탄올을 자석 교반기, 온도조절 장치 및 N2 밀봉장치가 구비된 250 ml 다목 플라스크에 먼저 도입하였다. 8.0 g의 물을 교반하면서 계량 투입하였다. 반응 혼합물을 60 ℃에서 1/4시간 동안 교반하였다. 400.0 g의 물 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 60 ℃에서 상기 예비가수분해된 반응 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 0.93 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.27이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.3의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.2 ％ (w/w)
SiO2 함량: 6.0 ％
유리 에탄올: 1.4 ％
실시예
39
40.0 g의 비스-AMEO, 40.0 g의 MTES 및 40.0 g의 에탄올을 자석 교반기, 온도조절 장치 및 N2 밀봉장치가 구비된 250 ml 다목 플라스크에 먼저 도입하였다. 5.5 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 교반하면서 신속하게 첨가하였다. 다음에, 3.2 g의 물을 계량 투입하였다. 반응 혼합물을 60 ℃에서 1시간 동안 교반하였다. 400.00 g의 물을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 60 ℃에서 상기 예비가수분해된 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 0.23 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.10이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.00의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 10.0 ％ (w/w)
SiO2 함량: 5.8 ％
유리 에탄올: 1.0 ％
실시예
40
5000.00 g의 물 및 95.34 g의 85 ％ 농도 포름산을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 10 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 750 g의 비스-AMEO를 천천히 계량 투입하였다. 추가 11.66 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.30이었다. 65 ℃에서 3시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 5000 g이었다. 세이쯔 T-950 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.25의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 8.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 3.7 ％
유리 에탄올: 1.7 ％
실시예
41
400.00 g의 물, 12 g의 레바실 100S 및 4.75 g의 포름산 (HCOOH의 농도 = 85 ％)을 계량 장치 및 환류 응축기가 구비된 1 l 교반 장치에 먼저 도입하였다. 계량 장치를 통하여 비스-AMEO 40.0 g 및 MTES (메틸트리에톡시실란) 80 g의 혼합물을 계량 투입하였다. 추가 2.54 g의 포름산을 첨가하였다. pH는 4.24이었다. 60 ℃에서 90분 동안 교반을 수행하였다. 다음에, 65 ℃에서 2시간 동안 교반을 수행하였다. 이후, 60 내지 65 ℃ 및 130 내지 200 mbar에서 알콜/물 혼합물을 증류 제거하였다. 수득된 잔류물의 중량은 400 g이었다. 세이쯔 T-2100 필터 시트를 통하여 실온에서 생성물을 여과하였다.
4.27의 pH를 가지며 저장-안정성인 투명하고 노란색을 띠는 액체를 수득하였다.
잔류물: 14.9 ％ (w/w)
SiO2 함량: 10.2 ％
유리 에탄올: 1.0 ％
사용
실시예
1. 방법
1.1 유리 판의 코팅
적용에 앞서 표면을 세척하여, 특히 그리스(grease)가 없도록 해야 하였다. 유리 표면 (유리 판의 크기 0.07 m × 0.15 m)을 예비처리하였다. 이소프로판올을 사용하여 유리 판을 미리 세척하고, 수성 산화 세륨 슬러리를 사용한 마찰에 의해 활성화시켰다. 종이 포를 사용하여 건조된 산화 세륨을 완전히 제거하였다.
12 ㎛ 나이프코팅기(knifecoater)를 이용하여 세척된 표면에 실시예로부터의 시스템들을 적용하였다. 다음에, 생성되는 코팅을 실온에서 12시간 이상 동안 경화하였다.
1.2 연필 경도의 측정
"에릭슨(ERICHSON) 긁힘 경도 시험기 모델 291"을 사용하여 ISO 15184 기준으로 연필 경도(pencil hardness) 시험을 수행하였다. 상기 시험의 결과를 표 2에 요약하였다.
1.3 비등 시험
코팅된 유리 판을 끓는 탈염수 중에 1시간 동안 넣어놓았다. 상기 시험의 결과를 표 2 및 3에 요약하였다.
하기의 평점에 따라 비등 시험 후의 코팅의 시각적인 평가를 수행하였다:
(-) = 층 파괴 또는 탈리
(0) = 층이 존재하나, 거칠어지고 방수성 상실
(+) = 층 변화 없음
1.5 정접촉각의 측정
크뤼스(KRUESS) 사의 접촉각 측정 기기 G-15를 사용하여 DIN EN 828 기준으로 다수 측정에 의해 정접촉각(static contact angle)을 측정하였다. 소수성 특성을 확인하기 위해서는, 탈염수를 사용하여 정접촉각 (CA)을 측정하였다. 소유성 특성을 확인하기 위해서는, 카이돌(Kaydol) (광물성 오일)을 사용하여 정접촉각 (CA)을 측정하였다.
1.6 광물성 시편의 처리
실시예로부터의 수성 실란 용액에 침지함으로써 시편 (입방체, 가장자리 길이 = 5 cm = 0.0015 m2)의 처리를 수행하였다. 도가니 집게를 사용하여 시편을 2 × 5초 동안 수성 실란 시스템에 침지하였다. 침지 과정들 사이의 대기 시간은 1분이었다. 1일 후, 시편을 확인하였다. 결과를 표 4에 나타내었다.
1.7 디나실란® F 8815/실시예 43 혼합물을 사용한 처리
브러시를 사용하여 1회 적용함으로써, 콘크리트 슬라브 (1.5 cm × 7.5 cm × 15 cm = 0.02925 m2) 상에 사용 실시예 5에서의 콘크리트 표면의 처리를 수행하였다. 3일의 대기 시간 후, 촉진 내그래피티성(accelerated antigraffiti) 시험을 수행하였다.
내그래피티성 코팅의 시험
기준: 문헌 [Guetegemeinschaft Anti Graffiti e.V. (date: May 18, 1998)]의 그래피티 제거 및 방지를 위한 방법, 기술 및 기재 평가용 기술 설명서.
처리된 콘크리트 표면에 3종의 색상 (에딩(Edding) 800 퍼마넨트 마커 블랙(Permanent Marker black), 듀플리-컬러 아크릴 페인트(Dupli-Color acrylic paint) RAL 3000 파이어 레드(fire red) 및 제니우스 프로 아쿠아 페인트 하이-글로스 젠티안 블루(Genius Pro Aqua paint high-gloss gentian blue))을 분무하였다. 실온에서 1시간 동안 상기 색상을 건조한 후, 그래피티 세척제 (프로피 클린 겔 클리너(Profi Clean Gel cleaner))를 적용하였다. 10분의 작용 시간 후, 브러시를 사용하여 표면을 기계적으로 처리하였다. 이후, 부드러운 브러시를 사용하여 흐르는 물에서 세척을 수행하였다. 순환 건조 오븐에서 60 ℃로 15분 동안 젖은 콘크리트 슬라브를 건조한 다음, 실온으로 냉각하였다. 이와 같은 스트레스 시험을 9회 반복하였다.
세척후 매번, 하기 언급되는 점수에 따라 건조 기재 상에서 시험 결과를 평가하였다:
제거 0-30 ％ (실질적인 색상 제거 없음) = 1점
제거 30-75 ％ (부분적인 색상 제거, 착색된 윤곽이 분명하게 보임) = 2점
제거 75-90 ％ (대부분에서 색상 제거, 윤곽 음영 보임) = 3점
제거 > 90 ％ (효과적인 색상 제거, 희미한 윤곽 음영 보임) = 4점
완전한 색상 제거 (세공 내의 개별적 착색 색소 허용) = 5점
세척 후 매번, 각 개별 색상 점의 시각적 평가에 의해 Ci 값을 측정하였다. 이것은 하기와 같이 산정되었다. Ci 값 = (개별 색상 점의 점수의 합계 * 20) / (색상 점의 수) 최대 Ci 값 = 100
1.8 방수성 효과의 평가
방수성 효과를 측정하기 위하여, 파스퇴르(Pasteur) 피펫을 사용하여 시편 상에 1 ml의 탈염수를 위치시켰다. 파스퇴르 피펫의 팁이 기재 표면에 접촉해야 한다. 10분 후, 물방울을 흔들어 제거하고, 침윤 정도를 시각적으로 평가하였다.
시험 결과의 평가:
0 = 액적이 방울져 나타남
1 = 액적이 흡수되지 않음 → 비침윤
2 = 액적이 흡수되지 않음 → 접촉 표면의 절반 침윤
3 = 액적이 흡수되지 않음 → 접촉 표면이 완전히 침윤
4 = 액적이 약간 흡수됨 → 접촉 표면의 어두운 착색, 접촉 표면이 완전히 침윤
5 = 액적의 50 ％ 흡수 → 접촉 표면의 어두운 착색
6 = 액적 완전히 흡수 → 접촉 표면의 어두운 착색
사용
실시예
1
실시예 1로부터의 생성물 10.0 g을 수성 제품 디나실란® F 8815 1.0 g과 혼합하였다. 12 ㎛ 나이프코팅기를 사용하여 상기 혼합물을 세척된 유리 판 (크기 = 8 × 15 cm)에 적용하였다. 생성된 코팅을 실온에서 1시간 동안 건조한 다음, 순환 건조 오븐에서 150 ℃로 1/2시간 동안 후경화하였다. 생성 코팅은 투명하였으며, 매우 경질이었고, 매우 뛰어난 소수성 및 소유성 특성을 나타내었다. 에딩 800 퍼마넨트 마커를 사용해서는 층 상에 낙서를 할 수 없었다.
사용
실시예
1에 대한 비교
실시예
사용 실시예 1과의 비교를 위하여, 12 ㎛ 나이프코팅기를 사용하여 수성 제품 디나실란® F 8815를 세척된 유리 판 (크기 = 8 × 15 cm)에 적용하였다. 유리 표면을 완전히 침윤시킬 수는 없었다. 생성된 코팅을 실온에서 1시간 동안 건조한 다음, 순환 건조 오븐에서 150 ℃로 1/2시간 동안 후경화하였다. 생성 코팅은 매우 연질이었으며, 유백색의 외관을 가지고 있었다.
사용
실시예
2
실시예 40으로부터의 생성물 5.0 g을 수성 제품 디나실란® 히드로실 2926 5.0 g과 혼합하였다. 12 ㎛ 나이프코팅기를 사용하여 상기 혼합물을 세척된 유리 판 (크기 = 8 × 15 cm)에 적용하였다. 생성된 코팅을 실온에서 1주일 동안 건조하였다. 연필 경도 HB를 측정하였다.
사용
실시예
2에 대한 비교
실시예
사용 실시예 3과의 비교를 위하여, 12 ㎛ 나이프코팅기를 사용하여 수성 제품 디나실란® HS 2926을 세척된 유리 판 (크기 = 8 × 15 cm)에 적용하였다. 유리 표면을 완전히 침윤시킬 수는 없었다. 생성 코팅은 경화되지 않았으며, 매우 점착성이었다.
사용
실시예
3
실시예 43으로부터의 생성물 50.0 g을 디나실란® F 8815 50.0 g과 혼합하였다. 생성된 코팅 배합물을 1.7에서의 설명서에 따라 콘크리트 표면 (크기 = 1.5 cm × 7.5 cm × 15 cm)에 적용하였다. 이와 같은 조사의 결과를 표 1에 나타내었다.
문단 1.7에서의 평가 기준에 따르면, 본 시험은 우수한 결과로써 통과하였다.
사용
실시예
4
사용
실시예
5
실시예 12, 18 및 19로부터의 생성물을 1.1에서의 방법을 통하여 유리 표면에 적용하였다. 코팅의 경화는 1주 후에 완료되었다. 결과를 표 3에 나타내었다.
접촉각은 이들 코팅들의 뛰어난 소수성 및 소유성 특성을 보여주었다.
또한, 상기 코팅들은 뛰어난 방수성 특성을 가지고 있었다.
사용
실시예
6
실시예 41로부터의 생성물을 사용하여 연마된 스테인리스강 표면을 반코팅하였다 (half-coated). 이와 같은 목적으로, 스폰지를 이용하여 실시예 41로부터의 배합물을 적용하였다. 실온에서 1일의 가교결합 시간 후, 코팅된 표면을 비코팅 스테인리스강 표면과 비교하였다.
이와 같은 목적으로, 비코팅 표면 및 코팅 표면에 지문이 적용되었다. 1일의 작용 시간 후, 종이 포를 사용하여 지문을 세척 제거하였다. 비코팅 판 상에는 지문이 남아 있는 반면, 코팅된 면에서는 지문을 용이하게 제거할 수 있었다. 이는 결과적으로 매우 우수한 내지문성 특성을 제공한다.
탈염수 중에서의 1시간 동안의 비등 시험 후에도, 코팅은 완전히 기능성이었다.
사용
실시예
7
1.8 부문의 평점 시스템에 따르면, 실시예 7의 생성물로부터의 코팅을 사용하여 모든 기재의 경우에서 뛰어난 방수성 특성이 수득되었다.
사용
실시예
8
절차:
디나실란® SIVO 110의 실시예 1로부터의 생성물과의 혼합물
자석 교반기를 이용한 RT (21-25 ℃)에서의 20 ml 섬광 병(scintillation bottle) 중 배합물의 제조: 실시예 1로부터의 생성물 40.0 g을 SIVO 110 60.0 g과 혼합하였다. 혼합 약 0.5시간 후, 에틸 아세테이트로 세척한 알루미늄 시험 시트 (파우쉬(Pausch) 사의 합금: 5005H024)에 대한 적용을 수행하였다. 이와 같은 목적으로, 4 ㎛ 나이프코팅기를 이용하여 혼합물을 적용한 후, RT (21-25 ℃)에서 건조하고, 헤라에우스(Heraeus) 순환 건조 오븐에서 150 ℃로 10분 동안 경화하였다 (건조 층 두께 <= 1 ㎛).
비교 실시예로서, SIVO 110을 사용하여 알루미늄 시트를 코팅한 후, 동일 조건하에서 경화하였다.
비등수 내성의 시험: 적용 후 24시간 이내에, 코팅된 알루미늄 시험 시트를 2시간 동안 끓는 물에 위치시킨 다음, 탈색/탈리 및 접착성 (DIN EN ISO 2409 기준의 크로스해치(crosshatch) 시험)에 대하여 확인하였다.
결과: 150 ℃ (10분)의 건조 온도에서는, 실시예 1로부터의 생성물 40 ％와의 혼합에서 뛰어난 비등수 내성이 달성될 수 있었다. 코팅은 변화하지 않았으며, 우수한 접착성을 나타내었다: 크로스해치 0 (DIN EN ISO 2409 기준). 반면, 제품 디나실란® SIVO 110은 150 ℃의 경화 온도에서 물에서 끓인 후 짙은 노란색 착색 및 완전한 탈라미네이션을 나타내었다. 디나실란® SIVO 110을 사용하여 상기 혼합물에서와 동일한 특성을 수득할 수 있으려면, 경화 온도를 220 ℃로 상승시켜야 했다.
가수분해 에폭시실란 축합물을 포함하는, 알루미늄 시험 시트 상에서의 도 1에 나타낸 코팅은 2-시간의 비등수 시험 후 도 1에 어두운 음영으로 제시된 실질적으로 노란색인 착색을 나타내었다. 도 2는 비스-아미노관능성 규소 화합물 및 가수분해 에폭시실란 축합물을 포함하는 코팅을 사용하여 상응하게 처리된 알루미늄 시험 시트를 나타내는데, 상기 비스-아미노관능성 규소 화합물의 함량은 40 중량％이었으며, 에폭시실란 축합물의 함량은 60 중량％이었다. 이와 같은 코팅은 2-시간 비등수 시험 후에도 무색으로 유지되었으며 - 도 2에는 분명한 어두운 음영이 존재하지 않음 -, 또한 0의 크로스해치로 증명되는 우수한 접착성을 나타내었다.
도면에 나타낸 예시적인 구현예를 참고하여, 본 발명을 하기에 더욱 상세하게 설명한다.
도 1은 가수분해 에폭시실란 축합물을 사용한 코팅을 나타내며;
도 2는 비스-아미노관능성 규소 화합물 및 가수분해 에폭시실란 축합물을 포함하는 코팅을 나타낸다.
Claims (78)
- 수용성 비스-아미노관능성 규소 화합물 및 물을 함유하는 조성물이며,
상기 규소 화합물은 알콕시실란으로부터 유래하고, 사슬형, 고리형, 가교결합 또는 3차원적 가교결합 구조를 형성하는 가교결합 구성 요소를 가지며, 이상화된 형태의 하나 이상의 구조가 하기 일반 화학식 I에 상응하고,
상기 조성물에 유기 용매가 없고, 가교결합시 더 이상의 알콜을 방출하지 않으며, 1.0 내지 5.4의 pH를 갖는 것인 조성물.
<화학식 I>
[알콕시실란으로부터 유래하는 상기 구성 요소에서,
- A는 비스아미노알킬 라디칼에 해당하고,
- B는 아미노알킬 라디칼에 해당하고,
- C는 알킬 라디칼에 해당하고,
- D는 하기 일반 화학식 VII로부터 유래하는 에폭시 또는 에테르 라디칼에 해당하고
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- E는 하기 일반 화학식 VIII로부터 유래하는 유기관능성 라디칼에 해당하고
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고,
E는 라디칼 R8*-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8*은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는
E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고,
R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- Y는 OR1, 또는 가교결합 및 3차원적 가교결합 구조에서 서로 독립적으로 OR1 또는 O1/2에 해당하고,
- R1, R2, R4, R6 및 R9는 서로 독립적으로 수소에 해당하고,
- R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고,
- HX는 산이며, 여기서 X는 무기 또는 유기 산 라디칼이고,
- 0 ≤ x ≤ 1, 0 ≤ y ≤ 1, 0 ≤ u ≤ 1, v = 0 또는 1, a ≥ 1, b ≥ 0, c ≥ 0, d ≥ 0, w ≥ 0, e ≥ 0이며, (a+b+c+d+w) ≥ 2임]. - 제1항에 있어서, 구성 요소 중 A가 하기 일반 화학식 II로부터 유래하는 비스아미노알킬 라디칼에 해당하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하며, i 및 i* = 0 내지 8, f 및 f* = 1, 2 또는 3, g 및 g* = 0, 1 또는 2이고, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함). - 제1항에 있어서, 구성 요소 중 B가 하기 일반 화학식 IV로부터 유래하는 아미노관능성 라디칼에 해당하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임). - 제1항에 있어서, 구성 요소 중 C가 하기 일반 화학식 VI로부터 유래하는 알킬 라디칼에 해당하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함). - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서, 90 ℃를 초과하는 인화점을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 0 ℃만큼 낮은 온도에서부터 가교결합되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제8항에 있어서, 15 내지 25 ℃에서 가교결합되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 3.0 내지 5.4의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제11항에 있어서, 3.5 내지 5.4의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 사용되는 알콕시실란을 기준으로 7.5 내지 40 중량％의 규소 화합물 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제13항에 있어서, 3.0 내지 4.8의 pH에서 12.5 내지 30 중량％의 규소 화합물 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 알킬 라디칼인 C를 함유하는 구성 요소에서 c가 ≥ 1인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제15항에 있어서, pH가 12 미만인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 폐쇄 용기 중에서 3개월 이상의 실온 안정성을 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 산이 포름산, 아세트산, 산성 실리카 졸, 빙초산, 질산, 황산 또는 인산인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 물 또는 수용성 용매를 사용하여 희석가능한 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제19항에 있어서, 원하는 대로 희석될 수 있는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 먼저 물 및 산을 도입하고,
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및 i* = 0 내지 8, f 및 f* = 1, 2 또는 3, g 및 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8*-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8*은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란을 가수분해하고, 알콜을 제거하며, 알콜 제거 후 조성물의 pH가 1.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는, 알콕시 기가 없는 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법. - 하기 일반 화학식 II, IV 및 VII로부터 선택된 하나 이상의 수용성 실란 또는 그의 수용성 축합물 또는 하기 일반 화학식 VI 실란의 수용성 가수분해 생성물의 수용액을 먼저 도입하고, 산을 첨가한 다음, 가수분해하고, 알콜을 제거하며, 알콜 제거 후 조성물의 pH가 1.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는, 알콕시 기가 없는 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법:
- 하기 비스아미노알콕시실란에 해당하는 화학식 II의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및 i* = 0 내지 8, f 및 f* = 1, 2 또는 3, g 및 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 아미노알킬알콕시실란에 해당하는 화학식 IV의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 하기 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란에 해당하는 화학식 VII의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 알킬알콕시실란에 해당하는 화학식 VI의 실란
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함). - 제21항에 있어서, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및 VIII로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 수용액 또는 알콜 용액, 또는 이들 둘 다로 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및 VIII로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 하나 이상의 실란의 첨가 후에 추가의 물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 가수분해 동안의 물 함량이 50 내지 90 중량％인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제25항에 있어서, 가수분해 동안의 물 함량이 65 내지 90 중량％인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 가수분해 동안의 pH가 2.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제28항에 있어서, 가수분해 동안의 pH가 3.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, pH를 산의 추가의 첨가에 의해 조정하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 규소 화합물이 모두 합쳐 7.5 내지 40 중량％의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 가수분해를 알콜 수용액 중에서 12 미만의 pH로 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란 및 일반 화학식 VI의 알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 가수분해를 55 내지 80 ℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 무기 충전재를 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항에 있어서, 물을 첨가하고, 조성물에 알콜이 없게 될 때까지 알콜/물 혼합물을 제거하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 삭제
- 제21항에 있어서, 알콜 제거 후 조성물의 pH가 3.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 먼저 유기 용매, 물 및 산을 도입하고,
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및 i* = 0 내지 8, f 및 f* = 1, 2 또는 3, g 및 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임),
- 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8*-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8*은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란을 가수분해하고, 가수분해 알콜 및 용매를 제거하며, 가수분해 알콜 및 용매 제거 후 조성물의 pH가 1.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는, 알콕시 기가 없는 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법. - 제40항에 있어서, 용매가 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 알콜을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및 VIII로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 수용액 또는 알콜 용액, 또는 이들 둘 다로 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 일반 화학식 II, IV, VI, VII 및 VIII로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란 및 일반 화학식 VI의 알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 알콜을 먼저 도입하고, 일반 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다를 첨가하고, 물 및 산의 첨가에 의해 가수분해하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제46항에 있어서, 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란, 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란, 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란, 및 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란, 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 그 다음에 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 가수분해 동안의 pH가 12 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 무기 충전재를 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 가수분해를 55 내지 80 ℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 가수분해 후 pH를 1.0 내지 7.0의 값으로 조정하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, pH를 산의 첨가에 의해 조정하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제40항에 있어서, 물을 첨가하고, 조성물에 용매가 없게 될 때까지 용매/물 혼합물을 제거하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 삭제
- 제40항에 있어서, 가수분해 알콜 및 용매 제거 후 조성물의 pH가 3.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 하기 일반 화학식 VII의 하나 이상의 에폭시- 또는 에테르-알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VII>
(여기서 u = 0 또는 1이고, D는 3-글리시딜옥시알킬, 3-글리시딜옥시프로필, 에폭시알킬, 에폭시시클로알킬 또는 폴리알킬글리콜알킬 라디칼, 또는 폴리알킬글리콜-3-프로필 라디칼에 해당하고, R7은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R6은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함),
- 하기 일반 화학식 VI의 하나 이상의 알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VI>
(여기서 y = 0 또는 1이고, C는 1 내지 20개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R5는 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, R4는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 하기 화학식 VIII의 하나 이상의 유기관능성 알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 VIII>
(여기서 v = 0 또는 1이고, R8은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, E는 라디칼 R8*-Ym-(CH2)s-에 해당하고, 여기서 R8*은 1 내지 9개의 C 원자를 갖는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼, 또는 모노-, 올리고- 또는 퍼플루오르화 아릴 라디칼에 해당하고, 또한 Y는 CH2, O, 아릴 또는 S 라디칼에 해당하고, m은 0 또는 1이며, s는 0 또는 2이거나, 또는 E는 비닐, 알릴 또는 이소프로페닐 라디칼, 메르캅토알킬 라디칼, 술판알킬 라디칼, 우레이도알킬 라디칼, 아크릴로일옥시알킬 라디칼, 또는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알콕시 라디칼에 해당하고, R9는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당함)
로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란을 먼저 도입하고,
- 물의 존재하에, 및 산 또는 촉매, 또는 이들 둘 다와, 물의 존재하에 적어도 부분적으로 가수분해한 다음,
- 제2 가수분해 단계에서
- 추가의 물의 존재하에
- 하기 화학식 II의 하나 이상의 비스아미노알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 II>
(여기서 A는 하기 화학식 III의 비스-아미노관능성 기이고,
<화학식 III>
여기서 i, i*, f, f*, g 또는 g*은 동일하거나 상이하고, i 및 i* = 0 내지 8, f 및 f* = 1, 2 또는 3, g 및 g* = 0, 1 또는 2이며, R1은 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 고리형 또는 분지형 알킬 라디칼에 해당함), 및
- 하기 화학식 IV의 하나 이상의 아미노알킬알콕시실란 또는 그의 축합물, 또는 이들 둘 다
<화학식 IV>
(여기서 x = 0 또는 1이고, R2는 1 내지 4개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고, R3은 1 내지 12개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼, 또는 아릴 라디칼에 해당하고, B는 하기 일반 화학식 Va 또는 Vb의 아미노관능성 기 중 하나에 해당하고,
<화학식 Va>
여기서 0 ≤ h ≤ 6; h* = 0, 1 또는 2, j = 0, 1 또는 2; 0 ≤ l ≤6; n = 0, 1 또는 2; 0 ≤ k ≤ 6이고, R10은 벤질, 아릴, 비닐 또는 포르밀 라디칼, 또는 1 내지 8개의 C 원자를 갖는 선형, 분지형 또는 고리형 알킬 라디칼에 해당하고
<화학식 Vb>
여기서 0 ≤ m ≤ 6 및 0 ≤ p ≤ 6임)
로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 실란을 첨가하고,
- 가수분해한 후, 알콜을 제거하며, 알콜 제거 후 조성물의 pH가 1.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는, 알콕시 기가 없는 수용성의 비스-아미노관능성 규소 화합물, 및 물 및 산을 함유하는 조성물의 제조 방법. - 제56항에 있어서, 일반 화학식 VI, VII, VIII의 실란 또는 그의 축합물, 또는 이들의 혼합물을 연속적으로 또는 혼합물로서 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 제2 가수분해 단계를 위하여 추가의 물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 가수분해 동안의 pH가 2.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, pH를 산의 추가의 첨가에 의해 조정하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 가수분해되지 않은 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 화학식 II의 비스아미노알킬알콕시실란 및 일반 화학식 VI의 알킬알콕시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 무기 충전재를 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제56항에 있어서, 물을 첨가하고, 조성물에 알콜이 없게 될 때까지 알콜/물 혼합물을 제거하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 삭제
- 제56항에 있어서, 알콜 제거 후 조성물의 pH가 3.0 내지 5.4인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제21항 내지 제37항, 제39항 내지 제53항, 제55항 내지 제64항 및 제66항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같이 수득가능한 조성물.
- 삭제
- 삭제
- 제1항 내지 제4항, 제7항 내지 제9항 및 제11항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 조성물, 또는 제21항 내지 제37항, 제39항 내지 제53항, 제55항 내지 제64항 및 제66항 중 어느 한 항에 따라 수득가능한 조성물을 실란-기재 조성물과의 혼합물에서 사용하는 방법.
- 제70항에 있어서, 혼합물이 알킬-, 알케닐-, 아릴-, 에폭시-, 디히드록시알킬-, 아미노알킬-, 폴리알킬글리콜알킬-, 할로알킬-, 메르캅토알킬-, 술판알킬-, 우레이도알킬- 또는 아크릴로일옥시알킬-관능성 및 테트라알콕시-관능성 실란 중 하나 이상을 기재로 하는 실란-기재 조성물, 또는 그의 혼합물과 함께, 비스-아미노관능성 규소 화합물을 포함하는 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제70항에 있어서, 혼합물의 경화 온도가 실란-기재 조성물에 비해 더 낮은 것을 특징으로 하는 방법.
- 기재 표면의 개질 또는 처리, 또는 기재 표면 상에서의 장벽 층의 구축을 위해 제1항 내지 제4항, 제7항 내지 제9항 및 제11항 내지 제20항 중 어느 한 항에 따른 조성물 또는 제21항 내지 제37항, 제39항 내지 제53항, 제55항 내지 제64항 및 제66항 중 어느 한 항에 따라 수득가능한 조성물을 사용하는 방법.
- 제73항에 있어서, 기재 표면의 소수화, 부식 방지, 암반 강화 또는 소유화를 위해 조성물을 사용하는 방법.
- 제73항에 있어서, 스테인리스강, 알루미늄, 강철 및 티타늄으로부터 선택된 금속, 유리, 플라스틱, 중합체, 광물질 표면, 콘크리트, 벽돌, 모르타르, 스크리드, 사암, 천연 섬유질, 종이, 목재의 소수화, 유리 표면, 금속 표면, 광물질 표면, 콘크리트, 모르타르, 스크리드, 사암 또는 천연 섬유질, 종이, 목재의 프라이밍, 금속, 콘크리트, 모르타르 또는 벽돌의 부식 방지를 위해, 또는 수성 코팅 또는 수지 배합물의 첨가제 또는 내지문성 코팅으로서 조성물을 사용하는 방법.
- 제73항에 있어서, 포스페이트화, 크롬(VI)도금, 크롬(III)도금 또는 아연도금된 금속 표면, 및 다시 포스페이트화, 크롬(VI)도금 또는 크롬(III)도금된 아연도금 금속 표면으로부터 선택된 처리되지 않거나 예비처리된 금속 또는 금속 표면의 부식 방지를 위해 조성물을 사용하는 방법.
- 제73항에 따른 방법을 이용함으로써 수득가능한 코팅 또는 강화 생성물.
- 제77항에 있어서, 강철 보강재, 콘크리트 파이프 또는 사전조립 콘크리트 구성요소인 것을 특징으로 하는 생성물.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007040807 | 2007-08-28 | ||
| DE102007040807.4 | 2007-08-28 | ||
| DE102008007261.3 | 2008-02-01 | ||
| DE200810007261 DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2008-02-01 | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100066465A KR20100066465A (ko) | 2010-06-17 |
| KR101592608B1 true KR101592608B1 (ko) | 2016-02-11 |
Family
ID=40299240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020107004508A KR101592608B1 (ko) | 2007-08-28 | 2008-07-02 | 비스(트리알콕시실릴알킬)아민 기재의 수성 실란 시스템 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8298679B2 (ko) |
| EP (2) | EP2813550B1 (ko) |
| JP (1) | JP6004607B2 (ko) |
| KR (1) | KR101592608B1 (ko) |
| CN (2) | CN102634025A (ko) |
| DE (1) | DE102008007261A1 (ko) |
| ES (2) | ES2643948T3 (ko) |
| WO (1) | WO2009030538A1 (ko) |
Families Citing this family (67)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004031785A1 (de) * | 2004-07-01 | 2006-01-26 | Degussa Ag | Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion |
| DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
| DE102005004872A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung |
| DE102005032427A1 (de) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Degussa Ag | Aluminiumoxid-Dispersion |
| DE102005053071A1 (de) * | 2005-11-04 | 2007-05-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung |
| DE102006017701A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-25 | Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
| DE102006039269A1 (de) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium |
| ES2725499T3 (es) | 2007-04-20 | 2019-09-24 | Evonik Degussa Gmbh | Mezcla que contiene un compuesto de organosilicio y su uso |
| DE102007040246A1 (de) * | 2007-08-25 | 2009-02-26 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierungen |
| DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
| DE102007049743A1 (de) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
| DE102009000614A1 (de) | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Evonik Degussa Gmbh | Fluorfreie Zusammensetzung zur wasserabweisenden Beschichtung von Oberflächen mit verbesserten Abperleigenschaften |
| DE102009017822A1 (de) * | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Tris(alkoxysilylalkyl)aminen und deren Verwendung |
| DE102009002499A1 (de) | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel |
| DE102009002477A1 (de) | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Quartäre-aminofunktionelle, siliciumorganische Verbindungen enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung |
| DE102010030111A1 (de) | 2009-08-11 | 2011-02-17 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme für den Blankkorrosionsschutz und Korrosionsschutz von Metallen |
| DE102010002356A1 (de) | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Zusammensetzungen von mit oligomeren Siloxanolen funktionalisierten Metalloxiden und deren Verwendung |
| CN102971270A (zh) | 2010-04-01 | 2013-03-13 | 赢创德固赛有限公司 | 用于具有“易洁”性质的材料的水硬性凝固混合物 |
| JP5657095B2 (ja) | 2010-04-01 | 2015-01-21 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーＥｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ | 硬化可能な混合物 |
| DE102010003868A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Zusammensetzung geeignet zur Massenmodifizierung von mineralischen Baustoffen |
| DE102010003870A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Verwendung wässriger Alkyl- und Amino-funktionalisierter Silizium enthaltender Co-Kondensate zur Massenhydrophobierung mineralischer Baustoffe |
| DE102010003869A1 (de) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Evonik Degussa Gmbh | Alkyl- und Amino-funktionalisierte Siloxane mit Bis(alkoxysilyl)amin zur Massenhydrophobierung mineralischer Baustoffe |
| JP5182535B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2013-04-17 | 信越化学工業株式会社 | 水性シロキサン塗料組成物及びその製造方法、表面処理剤、表面処理鋼材並びに塗装鋼材 |
| DE102010031178A1 (de) | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Evonik Degussa Gmbh | Quartäre-aminoalkoholfunktionelle, siliciumorganische Verbindungen, diese enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung |
| DE102010031184A1 (de) | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Siliciumdioxidpartikel und Kationisierungsmittel aufweisenden Dispersion |
| US9029491B2 (en) * | 2010-12-22 | 2015-05-12 | Teknologisk Institut | Repellent coating composition and coating, method for making and uses thereof |
| DE102011084183A1 (de) * | 2011-03-25 | 2012-09-27 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Korrosionsschutzformulierung auf Silanebasis |
| DE102011081074A1 (de) * | 2011-08-17 | 2013-02-21 | Areva Np Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Uranoxid als aktive Komponente enthaltenden Katalysators |
| JP6092786B2 (ja) * | 2011-11-14 | 2017-03-08 | 関西ペイント株式会社 | 金属表面処理剤用水性バインダ組成物 |
| EP2599844A1 (en) | 2011-12-02 | 2013-06-05 | PPG Industries Ohio Inc. | Coating composition for a food or beverage can |
| DE102012206510A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Neue, einfach synthetisierbare, spontan wasserlösliche, im Wesentlichen VOC freie, umweltfreundliche (Meth)acrylamido-funktionelle Siloxanolsysteme, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verwendung |
| DE102012206509A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Umweltfreundliches Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylamido-funktionellen Silanen |
| DE102012206508A1 (de) | 2012-04-20 | 2013-10-24 | Evonik Industries Ag | Neue, einfach herstellbare, VOC reduzierte, umweltfreundliche (Meth)acrylamido-funktionelle Siloxan-Systeme Verfahren zu ihrer Herstellung sowie Verwendung |
| KR101599954B1 (ko) * | 2013-08-08 | 2016-03-04 | 제일모직 주식회사 | 실리카계 절연층 형성용 조성물, 실리카계 절연층 및 실리카계 절연층의 제조방법 |
| US10150889B2 (en) | 2013-09-16 | 2018-12-11 | Honeywell International Inc. | Poly fluorine-containing siloxane coatings |
| US9206322B2 (en) | 2013-09-27 | 2015-12-08 | National Taiwan University Of Science And Technology | Non-fluorinated coating materials with anti-fingerprint property, and evaluation method thereof |
| EP2987836A1 (de) | 2014-08-22 | 2016-02-24 | Evonik Degussa GmbH | Hybridhärtung von wässrigen Silansystemen |
| EP2987835A1 (de) | 2014-08-22 | 2016-02-24 | Evonik Degussa GmbH | Hybridhärtung von wässrigen Silansystemen |
| DE102015104945B4 (de) * | 2014-10-01 | 2016-05-04 | Hochschule Karlsruhe-Technik Und Wirtschaft | Markersystem, inbesondere für die Bestimmung der Eindringtiefe von siliziumorganischen Hydrophobierungsmitteln in mineralischen Materialien |
| EP3212339A4 (en) * | 2014-10-30 | 2018-05-30 | Beckman Coulter, Inc. | Compositions and methods for coating surfaces |
| WO2016094082A1 (en) | 2014-12-08 | 2016-06-16 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated silane compounds, compositions, and articles |
| US10487180B2 (en) | 2014-12-08 | 2019-11-26 | 3M Innovative Properties Company | Compounds comprising modified diorganosiloxane polymers |
| US20160257819A1 (en) * | 2015-03-06 | 2016-09-08 | Prc-Desoto International Incorporated | Partially reacted silane primer compositions |
| KR102505019B1 (ko) * | 2015-05-28 | 2023-03-03 | 에보니크 오퍼레이션즈 게엠베하 | 아미노알킬트리알콕시실란으로부터 수성 가수분해물을 제조하는 방법 |
| CN104927650A (zh) * | 2015-06-15 | 2015-09-23 | 北京化工大学 | 一种功能涂料的制备方法 |
| DE102015225883A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Bis(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, ein Verfahren zur deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE102015225879A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-reiche Zusammensetzungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
| EP3199597A1 (en) | 2016-01-29 | 2017-08-02 | Jotun A/S | Shop primer |
| DE102016215260A1 (de) | 2016-08-16 | 2018-02-22 | Evonik Degussa Gmbh | Verwendung einer (Alkylalkoxysily)amin-, Bis-(alkylalkoxysilyl)amin und/oder Tris-(alkylalkoxysilyl)amin-enthaltenden Zusammensetzung |
| AU2017343763A1 (en) * | 2016-10-12 | 2019-05-23 | United States Department Of Energy | Stable immobilized amine sorbents for REE and heavy metal recovery from liquid sources |
| EP3398998A1 (de) | 2017-05-03 | 2018-11-07 | Evonik Degussa GmbH | Wässrige sol-gel-zusammensetzung als lagerstabile vorstufe für zinkstaubfarben |
| US10392408B2 (en) | 2017-06-27 | 2019-08-27 | Avmor Ltd | Siloxane oligomers for the treatment of solid surfaces |
| EP3658628B1 (en) | 2017-07-25 | 2021-09-15 | Jotun A/S | Aqueous primer |
| US11939490B2 (en) * | 2017-07-31 | 2024-03-26 | Momentive Performance Materials Inc. | Curable surface-protective coating composition, processes for its preparation and application to a metallic substrate and resulting coated metallic substrate |
| US11365314B2 (en) | 2017-09-25 | 2022-06-21 | Dow Global Technologies Llc | Aqueous polymer composition |
| CN109957111A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种自固化金属防腐蚀杂化硅溶胶及其制备方法与应用 |
| KR102122641B1 (ko) * | 2018-05-02 | 2020-06-12 | 주식회사 인실리코 | 보온 단열재용 실리콘계 발수제 및 이를 이용한 보온 단열재 |
| US11591893B2 (en) | 2018-10-22 | 2023-02-28 | Chevron U.S.A. Inc. | PH control in fluid treatment |
| CN111500191A (zh) | 2019-01-30 | 2020-08-07 | 佐敦有限公司 | 水性底漆 |
| JP2022528220A (ja) | 2019-03-01 | 2022-06-09 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ， インコーポレイテッド | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 |
| US11608458B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-03-21 | Prc-Desoto International, Inc. | Adhesion-promoting interlayer compositions containing organic titanates/zirconates and methods of use |
| US11173692B2 (en) | 2019-12-19 | 2021-11-16 | Prc-Desoto International, Inc. | Free radical polymerizable adhesion-promoting interlayer compositions and methods of use |
| US11624007B2 (en) | 2020-01-29 | 2023-04-11 | Prc-Desoto International, Inc. | Photocurable adhesion-promoting compositions and methods of use |
| US20230075785A1 (en) | 2020-02-14 | 2023-03-09 | Evonik Corporation | Anti-corrosion kit and anti-corrosion agent formed therefrom |
| KR20230008137A (ko) * | 2020-04-27 | 2023-01-13 | 바스프 에스이 | 높은 투과도, 높은 내마모성, 및 낮은 마찰을 특색으로 하는 내지문 코팅을 위한 친유성 실란 |
| WO2022155081A1 (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-21 | Glen Raven, Inc. | Polysiloxane compositions and coatings and methods for producing the same |
| WO2024078990A1 (en) * | 2022-10-10 | 2024-04-18 | Evonik Operations Gmbh | Method for treating the surface of glass |
Family Cites Families (103)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5051129A (en) | 1990-06-25 | 1991-09-24 | Dow Corning Corporation | Masonry water repellent composition |
| US5206285A (en) | 1990-12-21 | 1993-04-27 | Northrop Corporation | Aqueous coating of silane precursor from epoxy and amino trialkoxysilanes |
| DE4233021A1 (de) | 1992-10-01 | 1994-04-07 | Huels Chemische Werke Ag | Organosilanpolykondensate |
| DE4443825A1 (de) | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Huels Chemische Werke Ag | Wasserbasierende Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE4443824A1 (de) * | 1994-12-09 | 1996-06-13 | Huels Chemische Werke Ag | Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasserbasis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19624032A1 (de) | 1996-06-17 | 1997-12-18 | Huels Chemische Werke Ag | Oligomerengemisch kondensierter Alkylalkoxysilane |
| DE19639782A1 (de) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Huels Chemische Werke Ag | Glycidether-, Acryl- und/oder Methacryl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasser-Basis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19639783A1 (de) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Merck Patent Gmbh | Modifizierte Perlglanzpigmente für Wasserlacksysteme |
| DE19649955A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasser/Alkohol-Basis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19649953A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organopolysiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Wasserbasis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19649954A1 (de) | 1996-12-03 | 1998-06-04 | Huels Chemische Werke Ag | Fluoralkyl-funktionelle Organosiloxan-haltige Zusammensetzungen auf Alkoholbasis, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| US6713186B1 (en) | 1996-12-03 | 2004-03-30 | Degussa Ag | Fluoroalkyl-functional organosiloxane-containing compositions based on alcohol, a process for their preparation and their use |
| TW436500B (en) | 1997-06-17 | 2001-05-28 | Huels Chemische Werke Ag | N-[ω-(methyl),ω-(silyl)]alkyl-N-organocarboxamides, oligomeric and polycondensed Si-containing compounds thereof, processes for their preparation, and their use |
| DE19818923A1 (de) | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Degussa | Stabile Zusammensetzungen wasserlöslicher, Amino- und Alkenyl-funktioneller Organosiloxane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE19818924A1 (de) | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Degussa | Oberflächenmodifizierte Füllstoffe, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19823390A1 (de) | 1998-05-26 | 1999-12-16 | Degussa | Oligomerisiertes Organopolysiloxan-Cokondensat, dessen Herstellung und dessen Verwendung |
| DE19834990B4 (de) | 1998-08-03 | 2005-09-15 | Degussa Ag | Acryloxypropyl- oder Methacryloxypropyl-Gruppen enthaltende Siloxan-Oligomere, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE19849308A1 (de) | 1998-10-27 | 2000-05-04 | Degussa | Aminopropyl-funktionelle Siloxan-Oligomere |
| ATE506465T1 (de) | 1998-12-30 | 2011-05-15 | Univ Cincinnati | Silanbeschichtungen für metalle |
| DE19904132C2 (de) | 1999-02-03 | 2002-11-28 | Degussa | Zusammensetzung fluororganofunktioneller Silane und Siloxane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE19908636A1 (de) * | 1999-02-27 | 2000-08-31 | Degussa | Wasserbasierende Zusammensetzung aminofunktioneller Siliciumverbindungen |
| US6827981B2 (en) | 1999-07-19 | 2004-12-07 | The University Of Cincinnati | Silane coatings for metal |
| DE19964309C2 (de) | 1999-11-15 | 2003-07-03 | Degussa | Triamino- und fluoralkylfunktionelle Organosiloxane oder deren Gemische |
| ATE496004T1 (de) | 2000-09-26 | 2011-02-15 | Evonik Degussa Gmbh | Eisenoxid- und siliciumdioxid-titandioxid- mischung |
| DE10049153A1 (de) | 2000-09-27 | 2002-04-11 | Degussa | Farbe, Lack, Schadstoffe, Bioorganismen, Öl, Wasser, und/oder Schmutz abweisende Beschichtung |
| DE10054345A1 (de) | 2000-11-02 | 2002-05-08 | Degussa | Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
| DE10056343A1 (de) | 2000-11-14 | 2002-05-16 | Degussa | Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Organoalkoxysiloxanen |
| DE10056344A1 (de) | 2000-11-14 | 2002-05-16 | Degussa | n-Propylethoxysiloxane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE10065027A1 (de) | 2000-12-23 | 2002-07-04 | Degussa | Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
| DE10126163A1 (de) | 2001-05-30 | 2002-12-05 | Degussa | Pharmazeutische Zubereitungen |
| EP1284277B1 (de) | 2001-08-08 | 2004-10-20 | Degussa Aktiengesellschaft | Mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloxidpartikel |
| DE10149130A1 (de) | 2001-10-05 | 2003-04-10 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes, mit zweiwertigen Metalloxiden dotiertes Aluminiumoxid und wässerige Dispersion hiervon |
| DE10152745A1 (de) | 2001-10-25 | 2003-05-15 | Degussa | Dispersion von Aluminiumoxid |
| US20030108580A1 (en) | 2001-10-30 | 2003-06-12 | Steffen Hasenzahl | Use of granulates based on pyrogenically - produced silicon dioxide in cosmetic compositions |
| US7815936B2 (en) | 2001-10-30 | 2010-10-19 | Evonik Degussa Gmbh | Use of granular materials based on pyrogenically produced silicon dioxide in pharmaceutical compositions |
| DE10153803A1 (de) | 2001-11-05 | 2003-05-15 | Degussa | Korrosionsinhibitor für Stahlbeton |
| DE10163938A1 (de) | 2001-12-22 | 2003-07-10 | Degussa | Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver mit an der Oberfläche angereichertem Siliciumdioxid, dessen Herstellung und Verwendung |
| DE10203047A1 (de) | 2002-01-26 | 2003-08-07 | Degussa | Kationische Mischoxid-Dispersion, Streichfarbe und tintenaufnehmendes Medium |
| DE10204470C1 (de) | 2002-02-05 | 2003-08-14 | Degussa | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen |
| DE10204471C1 (de) | 2002-02-05 | 2003-07-03 | Degussa | Wässerige Dispersion enthaltend mit Ceroxid umhülltes Siliciumdioxidpulver, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung |
| DE10205280C1 (de) | 2002-02-07 | 2003-07-03 | Degussa | Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren |
| DE50300055D1 (de) | 2002-03-22 | 2004-09-23 | Degussa | Dispersion, Streichfarbe und Aufnahmemedium |
| DE10218871A1 (de) | 2002-04-26 | 2003-11-13 | Degussa | Verfahren zur Imprägnierung von porösen mineralischen Substraten |
| DE10225122A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Hochkonzentrierte wässrige Dispersionen enthaltend hydrophobe mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
| DE10225125A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Wässerige Dispersion enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
| DE10225123A1 (de) | 2002-06-06 | 2003-12-18 | Goldschmidt Ag Th | Hochkonzentrierte wässrige Dispersion enthaltend hydrophile mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel |
| DE10229761B4 (de) | 2002-07-03 | 2004-08-05 | Degussa Ag | Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| US7374787B2 (en) | 2002-08-22 | 2008-05-20 | Dequssa Ag | Stabilized, aqueous silicon dioxide dispersion |
| DE10250711A1 (de) | 2002-10-31 | 2004-05-19 | Degussa Ag | Pharmazeutische und kosmetische Zubereitungen |
| DE10250712A1 (de) | 2002-10-31 | 2004-05-19 | Degussa Ag | Pulverförmige Stoffe |
| DE10256267A1 (de) | 2002-12-03 | 2004-06-24 | Degussa Ag | Dispersion, Streichfarbe und Aufnahmemedium |
| DE10259860A1 (de) | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Pulvergemisch bestehend aus Titandioxid, Zinkoxid und Zink-Titan-Mischoxid |
| DE10260718A1 (de) | 2002-12-23 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Mit Siliziumdioxid umhülltes Titandioxid |
| MXPA05009076A (es) | 2003-02-25 | 2005-10-19 | Chemetall Gmbh | Metodos para recubrir superficies metalicas con una composicion rica en silano. |
| DE10316661A1 (de) | 2003-04-11 | 2004-11-04 | Degussa Ag | Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver |
| DE10317066A1 (de) | 2003-04-14 | 2004-11-11 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Metalloxid- und Metalloidoxid-Dispersionen |
| DE10320765A1 (de) | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Degussa Ag | Mittel zur Beschichtung von Metallen zum Schutz vor Korrosion |
| DE10320779A1 (de) | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Degussa Ag | Korrosionsschutz auf Metallen |
| DE10330020A1 (de) | 2003-07-03 | 2005-01-20 | Degussa Ag | Hochgefüllte Silan-Zubereitung |
| DE10335178A1 (de) * | 2003-07-30 | 2005-03-31 | Degussa Ag | Zusammensetzung eines Gemisches aminoalkyl- und oligo-silylierter-aminoalkyl-funktioneller Siliciumverbindungen, deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE10336544A1 (de) | 2003-08-05 | 2005-02-24 | Degussa Ag | Zweikomponentenbeschichtungssystem für die Ausstattung glatter Oberflächen mit "Easy-to-clean" - Eigenschaften |
| DE10337198A1 (de) | 2003-08-13 | 2005-03-17 | Degussa Ag | Träger auf Basis von Granulaten, die aus pyrogen hergestelltem Siliciumdioxiden hergestellt sind |
| DE10361893A1 (de) | 2003-12-19 | 2005-07-21 | Degussa Ag | Spezielles Verfahren zur Herstellung von Fluoralkylgruppen tragenden Siliciumverbindungen durch Hydrosilylierung |
| DE10360087A1 (de) | 2003-12-20 | 2005-07-21 | Degussa Ag | Flammenhydrolytisch hergestelltes, hochoberflächiges Aluminiumoxidpulver |
| DE10360766A1 (de) | 2003-12-23 | 2005-07-28 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen |
| DE102004004147A1 (de) | 2004-01-28 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte, mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloid/Metalloxide |
| DE102004021092A1 (de) | 2004-04-29 | 2005-11-24 | Degussa Ag | Verwendung einer kationischen Siliciumdioxid-Dispersion als Textilveredlungsmittel |
| DE102004025143A1 (de) | 2004-05-21 | 2005-12-08 | Degussa Ag | Ternäres Metall-Mischoxidpulver |
| DE102004025767A1 (de) | 2004-05-26 | 2005-12-22 | Degussa Ag | Stabile Lösungen von N-substituierten Aminopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung |
| DE102004031785A1 (de) | 2004-07-01 | 2006-01-26 | Degussa Ag | Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion |
| DE102004037043A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Blockkondensate organofunktioneller Siloxane, deren Herstellung, Verwendung sowie deren Eigenschaften |
| DE102004037045A1 (de) | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
| DE102004037118A1 (de) | 2004-07-30 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Titandioxid enthaltende Dispersion |
| DE102004046093A1 (de) | 2004-09-23 | 2006-03-30 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte Zink-Titan-Mischoxide |
| DE102004049427A1 (de) | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Degussa Ag | Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE102004053384A1 (de) | 2004-11-02 | 2006-05-04 | Degussa Ag | Flüssiges, viskoses Mittel auf Basis eines organofunktionellen Silansystems zur Herstellung witterungsstabiler Schutzbeschichtungen zur Verhinderung von Verschmutzungen von Oberflächen |
| DE102004056862A1 (de) | 2004-11-25 | 2006-06-14 | Degussa Ag | Pulverförmige, kosmetische Zubereitung mit hohem Wassergehalt |
| EP1674427A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-06-28 | Degussa AG | Strukturmodifizierte Titandioxide |
| DE502004006066D1 (de) | 2004-12-23 | 2008-03-13 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte pyrogen hergestellte Titandioxide |
| EP1700825A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-09-13 | Degussa AG | Oberflächenmodifizierte, strukturmodifizierte Titandioxide |
| ATE484551T1 (de) | 2004-12-23 | 2010-10-15 | Evonik Degussa Gmbh | Oberflächenmodifizierte siliciumdioxid- titandioxid-mischoxide |
| DE102005055226A1 (de) | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Degussa Ag | Lagerung pulverförmiger Stoffe mit hohem Wassergehalt |
| DE102005004871A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Hochviskose wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen, deren kondensierten Oligomeren, Organopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung zur Oerflächenbehandlung von anorganischen Materialien |
| DE102005004872A1 (de) | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Degussa Ag | Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung |
| DE102005032427A1 (de) | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Degussa Ag | Aluminiumoxid-Dispersion |
| DE102006006656A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Silan enthaltendes Bindemittel für Verbundwerkstoffe |
| DE102006006655A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel |
| DE102006006654A1 (de) | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Spezielle Aminoalkylsilanverbindungen als Bindemittel für Verbundwerkstoffe |
| EP1760128A1 (de) | 2005-09-02 | 2007-03-07 | Sika Technology AG | Wässrige zweikomponentige Organoalkoxysilanzusammensetzung |
| DE102005053071A1 (de) | 2005-11-04 | 2007-05-16 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung |
| DE102005059960A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Degussa Gmbh | Hochgefüllte Übergangs-Aluminiumoxid enthaltende Dispersion |
| DE102005060401A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Lagerstabile Beschichtungszusammensetzung für eine abriebfeste und witterungsbeständige Ausstattung glatter anorganischer Oberflächen mit "Easy-to-clean"-Eigenschaften |
| DE102005060402A1 (de) | 2005-12-15 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Lagerstabile Beschichtungszusammensetzung für eine abriebfeste und witterungsbeständige Ausstattung glatter anorganischer Oberflächen mit "Easy-to-clean"Eigenschaften |
| DE102006003957A1 (de) | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Degussa Gmbh | Wasserverdünnbare Sol-Gel-Zusammensetzung |
| DE102006013090A1 (de) | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Georg-August-Universität Göttingen | Kompositwerkstoff aus Holz und thermoplastischem Kunststoff |
| DE102006017701A1 (de) | 2006-04-15 | 2007-10-25 | Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
| DE102006039269A1 (de) | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Evonik Degussa Gmbh | Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium |
| EP1894966A1 (de) * | 2006-08-31 | 2008-03-05 | Sika Technology AG | Wässrige Haftvermittlerzusammensetzung umfassend ein Aminosilan und ein Mercaptosilan |
| ES2725499T3 (es) | 2007-04-20 | 2019-09-24 | Evonik Degussa Gmbh | Mezcla que contiene un compuesto de organosilicio y su uso |
| DE102007038313A1 (de) | 2007-08-14 | 2009-02-19 | Evonik Degussa Gmbh | Anorganisch-modifizierte Polyesterbindemittelzubereitung, Verfahren zur Herstellung und ihre Verwendung |
| DE102007040246A1 (de) | 2007-08-25 | 2009-02-26 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierungen |
| DE102008007261A1 (de) | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
| DE102007049743A1 (de) | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith |
-
2008
- 2008-02-01 DE DE200810007261 patent/DE102008007261A1/de not_active Withdrawn
- 2008-07-02 WO PCT/EP2008/058509 patent/WO2009030538A1/de active Application Filing
- 2008-07-02 ES ES08774643.4T patent/ES2643948T3/es active Active
- 2008-07-02 EP EP14182564.6A patent/EP2813550B1/de active Active
- 2008-07-02 US US12/674,271 patent/US8298679B2/en active Active
- 2008-07-02 KR KR1020107004508A patent/KR101592608B1/ko active IP Right Grant
- 2008-07-02 EP EP08774643.4A patent/EP2183321B1/de active Active
- 2008-07-02 JP JP2010522275A patent/JP6004607B2/ja active Active
- 2008-07-02 ES ES14182564T patent/ES2768605T3/es active Active
- 2008-08-27 CN CN2012100654251A patent/CN102634025A/zh active Pending
- 2008-08-27 CN CN2008101463768A patent/CN101376710B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6004607B2 (ja) | 2016-10-12 |
| EP2813550B1 (de) | 2019-12-11 |
| CN101376710A (zh) | 2009-03-04 |
| JP2010537016A (ja) | 2010-12-02 |
| DE102008007261A1 (de) | 2009-03-05 |
| KR20100066465A (ko) | 2010-06-17 |
| ES2768605T3 (es) | 2020-06-23 |
| WO2009030538A1 (de) | 2009-03-12 |
| ES2643948T3 (es) | 2017-11-27 |
| CN101376710B (zh) | 2012-08-08 |
| CN102634025A (zh) | 2012-08-15 |
| US20110268899A1 (en) | 2011-11-03 |
| EP2183321B1 (de) | 2017-08-30 |
| US8298679B2 (en) | 2012-10-30 |
| EP2183321A1 (de) | 2010-05-12 |
| EP2813550A1 (de) | 2014-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101592608B1 (ko) | 비스(트리알콕시실릴알킬)아민 기재의 수성 실란 시스템 | |
| US8889812B2 (en) | Aqueous silane systems based on tris(alkoxysilylalkyl)amines and the use thereof | |
| KR101228691B1 (ko) | 오르가노작용성 실록산의 블록 축합물, 그의 제조 방법,그의 용도 및 그의 특성 | |
| CN101052667B (zh) | 用于矿物和非矿物基底表面处理的液态含氟组合物 | |
| KR101020526B1 (ko) | 금속의 부식 방지 | |
| JP5032325B2 (ja) | ポリエーテル官能性シロキサン、ポリエーテルシロキサン含有組成物、該シロキサンの製造法および該シロキサンの使用 | |
| Heilen et al. | Silicone resins and their combinations | |
| JP2013501853A (ja) | 裸腐食保護及び金属の腐食保護のための水性シラン系 | |
| JP2013523923A (ja) | 改善された濡れ特性を有する落書き防止コーティングとしての使用に適した配合物 | |
| KR102163006B1 (ko) | 유기규소 화합물에 기초한 가교결합성 물질 | |
| CN107001161B (zh) | 用于疏水性浸渍烧制的陶瓷模制体的方法 | |
| JPH07133463A (ja) | コーティング用組成物 | |
| JP2774038B2 (ja) | 含浸性防水剤組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200120 Year of fee payment: 5 |