JP2023523983A - 高い透過率、高い耐摩耗性及び低い摩擦を特色とする、指紋耐性コーティング用の親油性シラン - Google Patents
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- 238000005299 abrasion Methods 0.000 title claims description 35
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 title description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 title description 3
- 239000006116 anti-fingerprint coating Substances 0.000 title 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 51
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 47
- -1 F or Cl Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 43
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 36
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 claims description 32
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 31
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 claims description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- VSHIMURPXCVQRB-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-trimethoxysilylundecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OC)(OC)OC VSHIMURPXCVQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BWUGPMXDXHCTJC-UHFFFAOYSA-N CCO[Si](CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Si](CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1)(OCC)OCC BWUGPMXDXHCTJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011086 glassine Substances 0.000 claims description 8
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HTYPMXCHXVJHSP-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-trimethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OC)(OC)OC HTYPMXCHXVJHSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UHJUTSSNRPMDKV-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-triethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OCC)(OCC)OCC UHJUTSSNRPMDKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MUEMDDFDDIXUMO-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-triethoxysilylundecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OCC)(OCC)OCC MUEMDDFDDIXUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- SUJWJJUVRQMOCS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(12-phenyldodecyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 SUJWJJUVRQMOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 claims 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N (6E,10E,14E,18E)-2,6,10,15,19,23-hexamethyltetracosa-2,6,10,14,18,22-hexaene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(C)=CCCC=C(C)CCC=C(C)CCC=C(C)C YYGNTYWPHWGJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N Tetramethylsqualene Natural products CC(=C)C(C)CCC(=C)C(C)CCC(C)=CCCC=C(C)CCC(C)C(=C)CCC(C)C(C)=C BHEOSNUKNHRBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N dodecahydrosqualene Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 229940119170 jojoba wax Drugs 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 229940031439 squalene Drugs 0.000 description 3
- TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N squalene Natural products CC(=CCCC(=CCCC(=CCCC=C(/C)CCC=C(/C)CC=C(C)C)C)C)C TUHBEKDERLKLEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- YWWVWXASSLXJHU-AATRIKPKSA-N (9E)-tetradecenoic acid Chemical compound CCCC\C=C\CCCCCCCC(O)=O YWWVWXASSLXJHU-AATRIKPKSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006119 easy-to-clean coating Substances 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- SECPZKHBENQXJG-FPLPWBNLSA-N palmitoleic acid Chemical compound CCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O SECPZKHBENQXJG-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWWVWXASSLXJHU-UHFFFAOYSA-N 9E-tetradecenoic acid Natural products CCCCC=CCCCCCCCC(O)=O YWWVWXASSLXJHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNHSTVIXZWLCPZ-UHFFFAOYSA-N CCO.CCO[SiH3] Chemical compound CCO.CCO[SiH3] ZNHSTVIXZWLCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 241000252506 Characiformes Species 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N N-undecane Natural products CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000021319 Palmitoleic acid Nutrition 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAECOWNUKCLBPZ-HIUWNOOHSA-N Triolein Natural products O([C@H](OCC(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC)C(=O)CCCCCCC/C=C\CCCCCCCC BAECOWNUKCLBPZ-HIUWNOOHSA-N 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-UHFFFAOYSA-N Trioleoylglycerol Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCC=CCCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004164 Wax ester Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- SECPZKHBENQXJG-UHFFFAOYSA-N cis-palmitoleic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O SECPZKHBENQXJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- KVRMFYPFPOQHFA-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-triethoxysilyldodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OCC)(OCC)OCC KVRMFYPFPOQHFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKVCAPRDFQOIIN-UHFFFAOYSA-N dimethyl-phenyl-(1-trimethoxysilyldodecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC([Si](C)(C)C1=CC=CC=C1)[Si](OC)(OC)OC BKVCAPRDFQOIIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003626 triacylglycerols Chemical class 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N triolein Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N 0.000 description 1
- 229940117972 triolein Drugs 0.000 description 1
- RSJKGSCJYJTIGS-BJUDXGSMSA-N undecane Chemical group CCCCCCCCCC[11CH3] RSJKGSCJYJTIGS-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 235000019386 wax ester Nutrition 0.000 description 1
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Abstract
本発明は、式(I)又は(II)R13-nR2nSi-(CH2)x-Ar (I)R13-nR2nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)[式中、R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくはArは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物又はそれらの混合物;及び溶媒を含むコーティング組成物、前記オルガノシラン化合物を起源とする指紋不可視フィルム、前記指紋不可視フィルムを形成する方法、及び前記指紋不可視フィルムを含む製品に関する。
Description
本発明は、本明細書において記載の式(I)又は(II)によるオルガノシラン化合物を含むコーティング組成物又はそれらの混合物、前記オルガノシラン化合物を含む指紋不可視フィルム、前記指紋不可視フィルムを形成する方法及び前記指紋不可視フィルムを含む製品に関する。
一般に、携帯電話、パーソナルコンピュータ、ナビゲーター及び現金支払機等のデジタル電気通信装置には、入力/出力装置に設置されたディスプレイ及びタッチパネルが設けられる。これらのディスプレイ及びタッチパネルは、通常指の接触によって制御され、その結果、指紋がディスプレイ及びタッチパネルの表面に堆積する。指紋は水性部分(すなわち汗)及び油性部分(すなわち皮脂)からなる(B. Stoehrら、「Unusual Nature of Fingerprints and the Implications for Easy-to-Clean Coatings, Langmuir」2016年、32, 2, 619-625頁)。皮脂の油性成分、例えばモノ、ジ、トリグリセリド、ワックスエステル及びスクワレンは、その高い分子量により通常の周囲条件の下では蒸発しない。一旦ディスプレイ又はタッチパネルの表面に堆積すると、皮脂は、数珠状の隆起を作り強く光を散乱する傾向がある。その結果、ディスプレイ及びタッチパネルで見える画像の質が、装置自体の美的外観と同様に低減する。
この問題はディスプレイ及びタッチパネルの表面にフィルムコーティングを適用することにより解決することができる。一般に公知の単官能性コーティング層には、アンチグレア(AG)コーティング、抗指紋(AF)コーティング及び指紋不可視(IF)コーティングが含まれる。
AGコーティングは、鏡面反射を低減し、指紋をわずかな程度に目立たなくし得る、ディスプレイ又はタッチパネルの表面の細かい不規則性に基づく技術である。AFコーティングは、きれいにすることが容易で平滑な表面につるつるの触感を与えるために、例えばペルフルオロ分子の噴霧又は蒸着によってディスプレイ又はタッチパネルの表面に撥液層を形成する方法である。IFコーティングは、指紋塗布時又はその後に脂肪性指紋成分を広げて乱反射を低減し、それによって指紋残渣を人目につかなくする方法である。
IFコーティングは、例えば指紋からの油分をスクリーン表面に沿って広げることによって、しっかりと油分を不可視又はほぼ不可視にする親油性コーティングである。屈折率約1.46(Jaime Wisniak, The Chemistry and Technology of Jojoba Oil, 1987年、253頁)を有する皮脂の油分の場合、標準スクリーン材料、例えばガラス(1.46-1.52)に匹敵するか又は少し低く、光は著しくは散乱せずに平坦化した皮脂層を通過する。たとえ指紋がなお物理的には存在しても、人は近距離で点検しなければ、それを見ることができない。周囲条件下では、ヒトの皮脂は、30mN/mさえも超えるスクワレンのようなある種の成分を含む、およそ25mN/mの比較的高い表面張力を有する不均質な粘性のある無極性液体である(E. O. Butcher & A. Coonin, The Physical Properties of Human Sebum, 1948年)。そのような脂肪が広がるためには、表面コーティングは無極性で且つ高い表面自由エネルギーを有しなければならない。高い表面自由エネルギーを有するほとんどの表面は実際には極性(すなわち、親水性)であるので、高い表面張力の脂肪を広げることができるコーティングは実現するのが極めて難しい(D. Janssenら、Static solvent contact angle measurements, surface free energy and wettability determination of various self-assembled monolayers on silicon dioxide, 2006年)。同時に、良好なIF性を示すコーティング及びコーティング材料は、指紋液体(すなわち、汗)の水性成分の堆積を阻止するために十分に疎水性である必要がある。それによって、堆積した指紋液体の全体量は、避けられない残留する脂肪堆積物を概ね不可視にしつつ、標準AFコーティングに匹敵する程度に最小限化させることができる。
実現可能なIFコーティングは、このように高い水(H2O)接触角及びジヨードメタン(DIM)等の高い表面張力を有する疎水性液体の低い接触角、高い透過率、指紋の塗布前の低い初期ヘーズ並びに指紋を含む低いヘーズを特徴とする。理想的には、IFコーティングはまた、塗工された表面にわたって拭く場合、触れることが心地よい平滑な表面を示す高い耐摩耗性及び低い摩擦係数を有するべきである。オルガノシランは良好なIFコーティングを与えるのに適切な成分であると確認された。
欧州特許出願公開第2474577号は、アルキル基及び任意選択的にエトキシ系の基を含む、少なくとも1個の加水分解性基及び少なくとも1個の疎水基を有するオルガノシラン化合物を含むIFコーティング組成物を開示している。これらのIFコーティングは、高いH2O接触角及び低いDIM接触角を示すが、しかし、透過率、ヘーズ、耐摩耗性及び摩擦係数に関して試験されていない。
米国特許出願公開第2019/0367773号は、少なくとも1個のアルキルオキシ基及びアルキル基を含む少なくとも1個の疎水基を含むアルキルシラン化合物、POSS化合物又はそれらの混合物を含むIFコーティング組成物を開示している。これらのIFコーティングは、許容されるH2O接触角、低いDIM接触角及び良好な耐摩耗性を示すが、しかし、透過率、ヘーズ及び摩擦係数に関して試験されていない。
特開2011/006653号公報、特開2010/100819号公報及び特開2011/068000号公報はすべて、1つのコポリマーとして加水分解性オルガノシラン、及び第2のコポリマーとして幾つかの実施形態において5個までの炭素原子の短いアルキル基を介してSi原子に結合することができるアリール基等のπ-電子共役構造を有する加水分解性オルガノシランを含むIFコーティングに適している共重合可能な組成物に関する。硬化及び共重合されたフィルムは相当低いヘーズ及び表面粗さを示すが、しかし、接触角及び耐摩耗性のための試験はなされなかった。
したがって、高い水(H2O)接触角、ジヨードメタン等の疎水性液体の低い接触角(DIM接触角)、高い透過率、指紋の塗布前の初期の低いヘーズ並びに指紋を含む低いヘーズ、高い耐摩耗性及び低摩擦係数に関する性質のバランスの改善を示すIFコーティングに適しているコーティング組成物に対する要求がなお当技術分野に存在する。
驚いたことに、特定のオルガノシラン又はオルガノビスシラン化合物が、性質のそのようなバランスの改善を示し、したがって、優れたIFコーティングとみなされることがわかった。これによって、特定の長さを有するアルキルスペーサーの組み入れは、達成可能な耐摩耗性に加えて摩擦係数も規定することがわかった。上記の例で述べたものより著しく長いスペーサーを含むフェニル末端シラン及び新しく開発されたクラスのジメチルシリルフェニル末端シランの両方が、これまでの最先端であった芳香族シランよりも有意に良好な性質を示した(特開2011/006653号公報、特開2010/100819号公報及び特開2011/068000号公報)。
Unusual Nature of Fingerprints and the Implications for Easy-to-Clean Coatings, Langmuir」2016年、32, 2, 619-625頁
The Chemistry and Technology of Jojoba Oil, 1987年、253頁
The Physical Properties of Human Sebum, 1948年
Static solvent contact angle measurements, surface free energy and wettability determination of various self-assembled monolayers on silicon dioxide, 2006年
Replacing the solid needle by a liquid one when measuring static and advancing contact angles, Colloid Polym Sci (2016) 294:657-665頁
本発明は、式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、- OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物;及び
任意選択の溶媒を含むコーティング組成物に関する。
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、- OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物;及び
任意選択の溶媒を含むコーティング組成物に関する。
更に、本発明は、式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物を含む組成物を起源とする指紋不可視フィルムに関する。
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物を含む組成物を起源とする指紋不可視フィルムに関する。
なお更に、本発明は、
*上記又は下記のコーティング組成物を用意する工程;*
*浸液法、噴霧、スピンコーティング又はバーコーティング等の塗布法、又は真空蒸着法により基板の少なくとも1つの表面にコーティング組成物を塗布することによって、基板に指紋不可視フィルムを形成する工程を含む指紋不可視フィルムを形成する方法に関する。
*上記又は下記のコーティング組成物を用意する工程;*
*浸液法、噴霧、スピンコーティング又はバーコーティング等の塗布法、又は真空蒸着法により基板の少なくとも1つの表面にコーティング組成物を塗布することによって、基板に指紋不可視フィルムを形成する工程を含む指紋不可視フィルムを形成する方法に関する。
加えて、本発明は、それらの少なくとも1つの最外面に上記又は下記の指紋不可視フィルムを含む製品に関する。
詳細な説明
本発明は、式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましいハロゲンはF及びCl、より好ましくはClであり;しかし、R1は独立して、-OR4から選択されることが好ましく;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物;及び
任意選択の溶媒を含むコーティング組成物に関する。
本発明は、式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましいハロゲンはF及びCl、より好ましくはClであり;しかし、R1は独立して、-OR4から選択されることが好ましく;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物;及び
任意選択の溶媒を含むコーティング組成物に関する。
コーティング組成物は、式(I)又は(II)によって表わされる1種のオルガノシラン化合物、又は式(I)によって表わされる2種以上のオルガノシラン化合物の混合物、式(II)によって表わされる2種以上のオルガノシラン化合物の混合物、又は式(I)及び(II)によって表わされる2種以上のオルガノシラン化合物の混合物を含むことができる。
式(I)又は(II)によって表わされるオルガノシラン化合物として、
R1は独立して、-OR4から選択され;
R4は独立して、1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基から;好ましくはメチル、エチル又はイソプロピルから;より好ましくはメチル又はエチルから選択され;
nは0であり;
R3は、独立して好ましくはメチル、エチル又はイソプロピルから;より好ましくはメチルからの1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;より好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
nは8~14、好ましくは10~12、より好ましくは11又は12であることが好ましい。
R1は独立して、-OR4から選択され;
R4は独立して、1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基から;好ましくはメチル、エチル又はイソプロピルから;より好ましくはメチル又はエチルから選択され;
nは0であり;
R3は、独立して好ましくはメチル、エチル又はイソプロピルから;より好ましくはメチルからの1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;より好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
nは8~14、好ましくは10~12、より好ましくは11又は12であることが好ましい。
式(I)又は(II)によって表わされるオルガノシラン化合物として、
R1は独立して、メトキシ基、エトキシ基又はイソプロピルオキシ基、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基から選択され;
nは0であり;
R3は独立して、C2H5基又はCH3基、好ましくはCH3基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する非置換アリール基、好ましくは非置換フェニル基であり;
xは8~14、好ましくは10~12、より好ましくは11又は12であることが特に好ましい。
R1は独立して、メトキシ基、エトキシ基又はイソプロピルオキシ基、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基から選択され;
nは0であり;
R3は独立して、C2H5基又はCH3基、好ましくはCH3基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する非置換アリール基、好ましくは非置換フェニル基であり;
xは8~14、好ましくは10~12、より好ましくは11又は12であることが特に好ましい。
式(I)又は(II)によって表わされるオルガノシラン化合物として、
R1は同じであり、メトキシ基又はエトキシ基から選択され;
nは0であり;
R3はCH3基であり;
Arは非置換フェニル基であり;
nは11又は12であることが最も好ましい。
R1は同じであり、メトキシ基又はエトキシ基から選択され;
nは0であり;
R3はCH3基であり;
Arは非置換フェニル基であり;
nは11又は12であることが最も好ましい。
式(I)によって表わされる特に好ましいオルガノシラン化合物は、フェニルドデシルトリメトキシシラン及びフェニルドデシルトリエトキシシラン、最も好ましくはフェニルドデシルトリエトキシシランである。
式(II)によって表わされる特に好ましいオルガノシラン化合物は、(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン、(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン;(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ドデカン;(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ドデカン;(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン;(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン、より好ましくは(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン、(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン、(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン;(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン、最も好ましくは(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカンである。
オルガノシラン化合物は好ましくは、フェニルドデシルトリエトキシシラン、(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン又はそれらの混合物から選択される。
特に好ましい一実施形態において、オルガノシラン化合物はフェニルドデシルトリエトキシシランである。
別の特に好ましい実施形態において、オルガノシラン化合物は(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカンである。
本明細書において記載のオルガノシラン化合物は好ましくは、コーティング組成物の総量に対して0.01質量%~25.0質量%、より好ましくは0.02~20.0質量%、なおより好ましくは0.05質量%~15.0質量%、更により好ましくは0.07質量%~10.0質量%、最も好ましくは0.10質量%~5.0質量%の量でコーティング組成物中に存在する。
コーティング組成物は、好ましくは溶媒を更に含む。
前記溶媒は、好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、1-メトキシ-2-プロピル-アセタート(PGMEA)、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)、2-ブタノン(MEK)、ヘキサデカン、オクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロペンタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、メチレンクロリド及びエチレングリコール又はそれらの混合物からなる群から選択される。
特に好ましい溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-メトキシ-2-プロピル-アセタート(PGMEA)、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)、2-ブタノン(MEK)又はそれらの混合物の群から選択されるアルコールである。
本明細書において記載の溶媒は、好ましくはコーティング組成物の総量に対して75.0質量%~99.99質量%、より好ましくは80.0~99.98質量%、なおより好ましくは85.0質量%~99.95質量%、更により好ましくは90.0質量%~99.93質量%、最も好ましくは95.0質量%~99.90質量%の量でコーティング組成物中に存在する。
コーティング組成物は、前記コーティング組成物から形成されるフィルムに潤滑性を与えるための潤滑剤等の添加剤を更に含むことができる。
適切な潤滑剤は特に限定されない。非限定的な例としては、例えばミリストレイン酸、パルミトレイン酸及びオレイン酸等の不飽和脂肪酸、ラウリン酸、パルミチン酸及びステアリン酸等の飽和脂肪酸、及びスクワレン、トリオレイン及びホホバ油のような炭化水素油等の炭化水素材料、又はそれらの混合物であってもよい。
存在する場合、潤滑剤は、コーティング組成物中に存在する溶媒の総量に対して50質量%以内、例えば0.05質量%~50質量%、好ましくは0.1~25.0質量%の量で溶媒中に存在することができる。
他の適切な添加剤は、抗酸化剤、UV吸収剤、光安定剤及び清澄剤を含むことができる。これらの添加剤の量は、存在する場合、通常、コーティング組成物の総量の5質量%、好ましくは2質量%、最も好ましくは1質量%を超えない。
別の態様において、本発明は、式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物を含むコーティング組成物を起源とする指紋不可視フィルムに関する。
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくは、Arは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物を含むコーティング組成物を起源とする指紋不可視フィルムに関する。
上記又は下記のすべての実施形態において、オルガノシラン化合物は、本発明によるコーティング組成物として同じであることが好ましい。
用語「起源とする」とは、フィルム形成して、式(I)又は(II)によって表わされるオルガノシラン化合物が、化学的改質、例えば加水分解、架橋等を起こすことができ、その結果指紋不可視フィルムが未改質オルガノシラン化合物及び/又は改質オルガノシラン化合物を含むことができることを意味する。
驚いたことに、上記又は下記の式(I)又は(II)によって表わされるオルガノシラン化合物を含む組成物を起源とする指紋不可視フィルムは、性質のバランスの改善を示す。高い水(H2O)接触角に関して、ジヨードメタン等の高い表面張力を有する疎水性液体の低い接触角(DIM接触角)、高い透過率、低い初期のヘーズ(指紋の塗布前の)、並びに指紋を含む低いヘーズ、高い耐摩耗性及び低い摩擦係数を示すことがわかった。
性質のそのようなプロファイルは、前記指紋不可視フィルムを、例えば指紋がほぼ不可視になるように皮脂等の疎水性液体を広げるコーティングとしてみなされる。これは、例えばヘーズの小さな差(Δヘーズ)、すなわち指紋を含むヘーズから初期のヘーズを引いた差によって知ることができる。フィルムは、高い透過率及び低い初期のヘーズを含む良好な光学的性質を更に示し、フィルムは、ディスプレイ及びタッチパネルのためのコーティングとしてみなされる。加えて、フィルムは、本発明のフィルムを用いて塗工されたガラスにわたって金属重し及び紙でカバーした重しを滑らせるとどちらででも、低い摩擦係数を示す。前記低摩擦係数は、平滑な表面を可能にし、ディスプレイ又はタッチパネルにわたって指を滑らせる場合、粘着性の感触を低減する。なお更に、フィルムは、拡張線形摩耗3000サイクルまでの後に維持された高い水接触角を見ることができる高い耐摩耗性を示す。高い耐摩耗性は、高応力の下でさえフィルムの高度な耐久性を示す。
本発明による指紋不可視フィルムは好ましくは、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合70°を超える、より好ましくは少なくとも80°、なおより好ましくは少なくとも85°、最も好ましくは少なくとも90°の水接触角を有する。指紋不可視フィルムの水接触角の上限は、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、通常120°以下、より好ましくは110°以下である。
加えて、本発明による指紋不可視フィルムは好ましくは、フロートガラスに塗工された場合、70°を超える、より好ましくは少なくとも80°、なおより好ましくは少なくとも85°、最も好ましくは少なくとも90°の水接触角を有する。指紋不可視フィルムの水接触角の上限は、フロートガラスに塗工された場合通常120°以下、より好ましくは110°以下である。
本発明による指紋不可視フィルムは好ましくは、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、55°以下、より好ましくは52°以下、なおより好ましくは50°以下、最も好ましくは48°以下のジヨードメタン接触角を有する。指紋不可視フィルムのジヨードメタン接触角の下限は、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、通常少なくとも15°、より好ましくは少なくとも20°である。
加えて、本発明による指紋不可視フィルムは好ましくは、フロートガラスに塗工された場合、57°以下、より好ましくは55°以下、なおより好ましくは52°以下、最も好ましくは50°以下のジヨードメタン接触角を有する。指紋不可視フィルムのジヨードメタン接触角の下限は、フロートガラスに塗工された場合、通常少なくとも15°、より好ましくは少なくとも20°である。
高い水接触角及び低いジヨードメタン接触角は、本発明によるフィルムの明白な疎水性及び高い親油性を示す。
更に、指紋不可視フィルムは好ましくは良好な耐摩耗性を示す:
更に、本明細書において記載の指紋不可視フィルムは好ましくは、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、拡張線形摩耗500サイクルの後に少なくとも60°、より好ましくは少なくとも、65°、最も好ましくは少なくとも70°の水接触角を有する。Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、指紋不可視フィルムの水接触角の上限は、拡張線形摩耗500サイクルの後、通常、105°以下、好ましくは95°以下である。
加えて、指紋不可視フィルムは好ましくは、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合拡張線形摩耗3000サイクルの後に、少なくとも50°、より好ましくは少なくとも55°、最も好ましくは少なくとも60°の水接触角を有する。水接触角の上限は、Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、拡張線形摩耗3000サイクルの後に通常、105°以下、好ましくは95°以下である。
好ましくは、指紋不可視フィルムは、塗工されたフロートガラスで、拡張線形摩耗500サイクルの後に少なくとも55°、より好ましくは少なくとも、65°及び最も好ましくは少なくとも75°の水接触角を有する。指紋不可視フィルムの水接触角の上限は、フロートガラスに塗工された場合、拡張線形摩耗500サイクルの後に通常105°以下、好ましくは95°以下である。
加えて、指紋不可視フィルムは好ましくは、フロートガラスに塗工された場合、拡張線形摩耗3000サイクルの後に、少なくとも50°、より好ましくは少なくとも55°、最も好ましくは少なくとも60°の水接触角を有する。指紋不可視フィルムの水接触角の上限は、フロートガラスに塗工された場合、拡張線形摩耗3000サイクルの後に通常105°以下、好ましくは95°以下である。
「拡張線形摩耗」とは、この点に関して下記の測定法の章における摩耗試験を意味する。1サイクルはそれによって記載の方式の1ランを意味し、500サイクルは記載の方式の500ランを意味し、3000サイクルは記載の方式の3000ランを意味する。
拡張線形摩耗500又は更に3000サイクルの後の高い水接触角は、摩耗方式の後、フィルムの疎水性はなお高く、フィルムが明白に破壊されず研削されていなかったことを示す。
好ましくは、塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスの水接触角の差は、摩耗試験開始前の初期接触角マイナス拡張線形摩耗3000サイクル後の水接触角であり、塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスそれぞれで、45°以下、より好ましくは35°以下、最も好ましくは30°以下である。
更に、塗工されたフロートガラスの水接触角の差は、摩耗試験開始前の初期接触角マイナス拡張線形摩耗3000サイクル後の水接触角であり、塗工されたフロートガラスそれぞれで、45°以下、より好ましくは30°以下、最も好ましくは20°以下である。
加えて、本発明による指紋不可視フィルムは良好な光学的性質を示す:
好ましくは、0°の入射角に対して、指紋不可視フィルムを用いて塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスは、周囲の媒体として空気中で測定された場合、少なくとも90%、より好ましくは少なくとも91%、最も好ましくは少なくとも92%の透過率を有する。塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスの透過率の上限は、通常94%、好ましくは93.6%である。
更に、0°の入射角に対して指紋不可視フィルムを用いて塗工されたフロートガラスは好ましくは、周囲の媒体として空気中で測定された場合、少なくとも90%、より好ましくは少なくとも91%、最も好ましくは少なくとも92%の透過率を有する。塗工されたフロートガラスの透過率の上限は通常93%、好ましくは92.6%である。
なお更に、指紋不可視フィルムは好ましくは、塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスで測定された場合、1.0%以下、より好ましくは0.9%以下、最も好ましくは0.8%以下のヘーズを有する。塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスのヘーズの下限は、通常0.01%、好ましくは0.03%である。
更に、指紋不可視フィルムは好ましくは、塗工されたフロートガラスで測定された場合、1.0%以下、より好ましくは0.9%以下、最も好ましくは0.8%以下のヘーズを有する。塗工されたフロートガラスのヘーズの下限は通常0.01%、好ましくは0.03%である。
指紋の塗布の後、指紋不可視フィルムは好ましくは塗工されたフロートガラスで測定された場合、8.0%以下、より好ましくは6.0%、最も好ましくは5.0%以下のヘーズを有する。指紋を塗布した後の塗工されたフロートガラスのヘーズの下限は、通常1.0%、好ましくは2.0%である。
更に、指紋不可視フィルムは、フロートガラスで、指紋を含むヘーズから初期のヘーズを引いた差である、7.5%以下、より好ましくは6.0%、最も好ましくは5.0%以下のヘーズの差を有する。
加えて、本発明による指紋不可視フィルムは好ましくは、ステンレス鋼箔又はグラシンペーパーでカバーした金属を使用して測定された低摩擦係数を示し、それは、本発明のフィルムを用いて塗工されたガラス基板の平滑な表面を示す:
指紋不可視フィルムは好ましくは、0.30以下、より好ましくは0.27以下、最も好ましくは0.25以下の摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに対するステンレス鋼箔)を有する。摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラスに対するステンレス鋼箔)としての下限は、通常0.05、好ましくは0.10である。
更に、指紋不可視フィルムは好ましくは、0.40以下、より好ましくは0.35以下、最も好ましくは0.30以下の摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに対するグラシンペーパー)を有する。摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに対するグラシンペーパー)としての下限は、通常0.05、好ましくは0.10である。
指紋不可視フィルムは好ましくは、0.30以下、より好ましくは0.25以下、最も好ましくは0.20以下の摩擦係数(塗工されたフロートガラスに対するステンレス鋼箔)を有する。摩擦係数(塗工されたフロートガラスに対するステンレス鋼箔)としての下限は、通常0.05、好ましくは0.10である。
更に、指紋不可視フィルムは好ましくは、0.40以下、より好ましくは0.30以下、最も好ましくは0.25以下の摩擦係数(塗工されたフロートガラスに対するグラシンペーパー)を有する。摩擦係数(塗工されたフロートガラスに対するグラシンペーパー)としての下限は、通常0.05、好ましくは0.10である。
本発明の更なる態様は、
*上記又は下記のコーティング組成物を用意する工程;
*浸液法、塗布法又は真空蒸着法により基板の少なくとも1つの表面にコーティング組成物を塗布することによって、基板に指紋不可視フィルムを形成する工程を含む指紋不可視フィルムを形成する方法である。
*上記又は下記のコーティング組成物を用意する工程;
*浸液法、塗布法又は真空蒸着法により基板の少なくとも1つの表面にコーティング組成物を塗布することによって、基板に指紋不可視フィルムを形成する工程を含む指紋不可視フィルムを形成する方法である。
その結果として、コーティング組成物及び指紋不可視フィルムは、好ましくは上記又は下記の本発明のコーティング組成物及び指紋不可視フィルムのすべての実施形態に関する。
基板は、好ましくは指紋で汚染されがちな基板、例えばガラス、金属、セラミック、プラスチック、木材、石等である。
コーティング組成物は、基板の1つの表面のみにも、基板のすべての表面にも、基板の任意の数の表面にも塗布することができる。
基板の少なくとも1つの表面は、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、チオール基、スルホン酸基等の官能基を有することができる。官能基が少なくとも1つの表面に存在しない場合、前記少なくとも1つの表面はそのような官能基を導入するために前処理することができる。適切な前処理方法は、例えばコロナ放電処理、UV/オゾン処理、酸素又は空気プラズマ処理、過マンガン酸カリウム等の化学的酸化剤を伴う処理、又は当技術分野で知られているような他の匹敵する処理、例えば硫酸若しくは硝酸処理、過酸化水素を用いる酸性若しくは塩基性ピラニア浄化、RCA浄化又は王水処理である。
コーティング組成物は、浸液法、塗布法又は真空蒸着法等の当技術分野で知られている任意の適切な方式によって、基板の少なくとも1つの表面に塗布することができる。
液浸法において、基板は、通常、例えば、浸し塗りによって、基板の少なくとも1つの表面が液体コーティング組成物で塗工されるように、液体コーティング組成物へ浸漬される。その後、コーティング組成物は通常、例えば、溶媒を蒸発させることによって乾燥され、指紋不可視フィルムが形成される。
塗布法において、液体コーティング組成物は通常、例えば噴霧コーティング又はスピンコーティング、並びに印刷又はバーコーティングのような他のデバイス制御した方法によって、基板の少なくとも1つの表面に塗布される。その後、コーティング組成物は通常例えば溶媒を蒸発させることによって乾燥され、指紋不可視フィルムが形成される。
真空蒸着法、例えば物理的気相成長法等において、コーティング組成物は、基板の少なくとも1つの表面に通常蒸発させられ、次いで堆積する。その後、コーティング組成物は通常、例えば、溶媒を蒸発させることによって乾燥され、指紋不可視フィルムが形成される。
真空蒸着法において、通常、20.0質量%以内の、又は更に100質量%までのより多量のオルガノシラン化合物を含むコーティング組成物が使用されるが、他の方法に関しては、5.0質量%以下、又は更に1.5質量%以下のより少量のオルガノシラン化合物を含むコーティング組成物が使用される。
すべての塗布法において、乾燥ステップは通常、コーティング組成物の成分に応じて、例えば80℃~200℃、好ましくは100℃~175℃、最も好ましくは120℃~150℃等の高い温度で実行される。
基板の少なくとも1つの表面にコーティング組成物を塗布するのに適している塗布法は、当技術分野で周知されている。塗工及び熱アニーリングの後に、結合していないシラン分子は、処理された表面を有機溶媒で洗うこと又は溶媒に浸した布又は研磨装置で拭くことにより除去されてもよい。
本発明のなお別の態様は、製品の少なくとも1つの最外面に上記又は下記の指紋不可視フィルムを含む前記製品に関する。
その結果として、コーティング組成物及び指紋不可視フィルムは、好ましくは上記又は下記の本発明のコーティング組成物及び指紋不可視フィルムのすべての実施形態に関する。
指紋不可視フィルムは、好ましくは上記又は下記のすべての実施形態における本発明による指紋不可視フィルムを形成する方法を使用して、製品の少なくとも1つの表面に塗布される。
製品は、例えばディスプレイ、タッチパネル及び/又は携帯電話等のデジタル通信デバイス、パーソナルコンピュータ、ノートブック、ナビゲーター、現金支払機、セキュリティーシステム又は情報端末機のような平滑で光沢のあるハウジングを含む製品等の指紋で汚染されがちな任意の製品であってもよい。
そのようなディスプレイは、CRT、LCD、PDP、LED又はFEDディスプレイであってもよい。
そのようなハウジングは、プラスチック、ガラス、セラミック又は金属ハウジングであってもよい。
本発明による指紋不可視フィルムを含む製品の少なくとも1つの表面は、ディスプレイ、タッチパネル又はハウジング表面の少なくとも1つであってもよい。
1.測定方法
下に列挙される測定はすべて23℃相対湿度50%で実行した。
下に列挙される測定はすべて23℃相対湿度50%で実行した。
a)ヘーズ、透過率
ASTM D 1003規格に従ってBYK Gardner haze-gard iヘーズメーターを使用して測定を実行した。
ASTM D 1003規格に従ってBYK Gardner haze-gard iヘーズメーターを使用して測定を実行した。
b)接触角(水、ジヨードメタン)
静的接触角を脱イオン水又はジヨードメタンの小滴(2-5μL)の塗布によって、後続の光学的特性評価をデジタル画像システム、及び楕円フィッティング関数を使用するソフトウェア支援分析によって求めた。シリンジ投与に基づく普通の光学的接触角測定装置も液体ニードル投与を使用する統合化システムもどちらも比較可能な結果を与えることがわかった。方法は、Ming Jin, Raymond Sanedrin, Daniel Frese, Carsten Scheithauer,・Thomas Willers, Replacing the solid needle by a liquid one when measuring static and advancing contact angles, Colloid Polym Sci (2016) 294:657-665頁に詳細に記載されている。
静的接触角を脱イオン水又はジヨードメタンの小滴(2-5μL)の塗布によって、後続の光学的特性評価をデジタル画像システム、及び楕円フィッティング関数を使用するソフトウェア支援分析によって求めた。シリンジ投与に基づく普通の光学的接触角測定装置も液体ニードル投与を使用する統合化システムもどちらも比較可能な結果を与えることがわかった。方法は、Ming Jin, Raymond Sanedrin, Daniel Frese, Carsten Scheithauer,・Thomas Willers, Replacing the solid needle by a liquid one when measuring static and advancing contact angles, Colloid Polym Sci (2016) 294:657-665頁に詳細に記載されている。
c)拡張線形摩耗
Minoan(商標)ゴム(直径6.4mm)を備えたTABER(登録商標)5900往復式摩耗試験機を使用し、0.35N/mm2の圧力を印加して線形摩耗測定を行なった。
Minoan(商標)ゴム(直径6.4mm)を備えたTABER(登録商標)5900往復式摩耗試験機を使用し、0.35N/mm2の圧力を印加して線形摩耗測定を行なった。
d)摩擦係数
ASTM D1894に適合した手順でINDUSTRIAL DYNAMICS SWEDEN AB社によるForceBoard(商標)摩擦測定装置を使用して動的摩擦係数を測定した。そのために、磨いたステンレス鋼箔(厚さおよそ0.1mm)又はグラシンペーパーのいずれかでカバーした四角い重し(64x64mm2)を、塗工したガラス板にわたって2.5mm/秒の引張速度で50mm、1.3mN/mm2の圧力を印加して引っ張った。
ASTM D1894に適合した手順でINDUSTRIAL DYNAMICS SWEDEN AB社によるForceBoard(商標)摩擦測定装置を使用して動的摩擦係数を測定した。そのために、磨いたステンレス鋼箔(厚さおよそ0.1mm)又はグラシンペーパーのいずれかでカバーした四角い重し(64x64mm2)を、塗工したガラス板にわたって2.5mm/秒の引張速度で50mm、1.3mN/mm2の圧力を印加して引っ張った。
2.実施例
a)コーティング組成物
以下のコーティング組成物を調製する:
比較組成物1(CC-1):エタノール中1.0質量%のフェニルトリメトキシシラン
比較組成物2(CC-2):エタノール中1.0質量%のフェネチルトリメトキシシラン
発明組成物1(IC-1):エタノール中1.0質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン
発明組成物2(IC-2):エタノール中1.0質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン
発明組成物3(IC-3):エタノール中1.0質量%のフェニルドデシルトリエトキシシラン
発明組成物4(IC-4):エタノール中0.5質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン及び0.5質量%のフェニルドデシルトリエトキシシラン
a)コーティング組成物
以下のコーティング組成物を調製する:
比較組成物1(CC-1):エタノール中1.0質量%のフェニルトリメトキシシラン
比較組成物2(CC-2):エタノール中1.0質量%のフェネチルトリメトキシシラン
発明組成物1(IC-1):エタノール中1.0質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン
発明組成物2(IC-2):エタノール中1.0質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン
発明組成物3(IC-3):エタノール中1.0質量%のフェニルドデシルトリエトキシシラン
発明組成物4(IC-4):エタノール中0.5質量%の(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン及び0.5質量%のフェニルドデシルトリエトキシシラン
b)ガラス基板での指紋不可視フィルムの形成
上記の開示したコーティング組成物を硝酸(3mg/mL)で酸性化し、直接、スピンコーティングによってフロートガラス及びGorilla(登録商標)ガラス基板に塗布した。オーブン中120℃で20分間、塗工した基板を乾燥する。
上記の開示したコーティング組成物を硝酸(3mg/mL)で酸性化し、直接、スピンコーティングによってフロートガラス及びGorilla(登録商標)ガラス基板に塗布した。オーブン中120℃で20分間、塗工した基板を乾燥する。
下記の塗工したガラス基板を得る:
比較の基板1-CS-F:CC-1で塗工したフロートガラス基板
比較の基板2-CS-F:CC-2で塗工したフロートガラス基板
発明の基板1-IS-F:IC-1で塗工したフロートガラス基板
発明の基板2-IS-F:IC-2で塗工したフロートガラス基板
発明の基板3-IS-F:IC-3で塗工したフロートガラス基板
発明の基板4-IS-F:IC-4で塗工したフロートガラス基板
比較の基板2-CSG:CC-2で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板1-ISG:IC-1で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板2-ISG:IC-2で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板3-ISG:IC-3で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板4-ISG:IC-4で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
比較の基板1-CS-F:CC-1で塗工したフロートガラス基板
比較の基板2-CS-F:CC-2で塗工したフロートガラス基板
発明の基板1-IS-F:IC-1で塗工したフロートガラス基板
発明の基板2-IS-F:IC-2で塗工したフロートガラス基板
発明の基板3-IS-F:IC-3で塗工したフロートガラス基板
発明の基板4-IS-F:IC-4で塗工したフロートガラス基板
比較の基板2-CSG:CC-2で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板1-ISG:IC-1で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板2-ISG:IC-2で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板3-ISG:IC-3で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
発明の基板4-ISG:IC-4で塗工したGorilla(登録商標)ガラス基板
塗工したガラス基板から水接触角及びジヨードメタン接触角を測定した。水接触角(CA H2O)及びジヨードメタン接触角(CA DIM)は、表1(Table 1)に列挙される。
フロートガラス及びGorilla(登録商標)ガラス基板でのフィルムの接触角の結果は比較可能である。最良の結果は、最長の(CH2)スペーサー(IC-2及びIC-3)を有するオルガノシラン、及びそれらの混合物(IC-4)を含むフィルムとして得られる。
更に、塗工したガラス基板のヘーズ及び透過率を測定した。結果は表2(Table 2)に列挙される。
フィルムはすべて、透過率及びヘーズに関して良好な光学的性質を示す。
塗工したフロートガラス基板のヘーズを指紋を塗布した後に測定した。表3(Table 3)に、指紋の塗布の前(初期のヘーズ)、指紋の塗布の後(FPを含むヘーズ)のヘーズ測定、及びFP初期ヘーズとのヘーズの差(dHaze)が列挙される。
フィルムはすべて、指紋を塗布した後に十分に低いヘーズを示す。
更に、塗工したガラス基板の摩擦係数を、鋼鉄の重し(CoF(鋼鉄))を使用した場合、及び、グラシンペーパーでカバーした鋼鉄重し(CoF(紙))を使用した場合に測定した。結果は表4(Table 4)に列挙される。
フロートガラス及びGorilla(登録商標)ガラス基板でのフィルムの摩擦係数の結果は比較可能である。最良の結果は、最長の(CH2)スペーサー(IC-2及びIC-3)を含むオルガノシラン、及びそれらの混合物(IC-4)を含むフィルムとして得られる。
最終的に、塗工したガラス基板の耐摩耗性は、拡張線形摩耗を適用する前、拡張線形摩耗500サイクルの後、拡張線形摩耗1000サイクルの後、拡張線形摩耗2000サイクルの後及び拡張線形摩耗3000サイクルの後の水接触角を測定することによって求められる。塗工した基板、2-CS-F、3-IS-F、1-IS-F、2-IS-F及び4-IS-Fについて左から右に図1に、塗工した基板2-CS-G、3-IS-G、1-IS-G、2-IS-G及び4-IS-Gについて左から右に図2に結果を示す。
最良の耐摩耗性は明白に、最長の(CH2)スペーサーを有するオルガノシランを含むフィルム(IC-2、IC-3及びIC-4)に示される。
Claims (16)
- 式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくはArは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物;及び
任意選択の溶媒を含むコーティング組成物。 - R1が、独立してメトキシ基、エトキシ基又はイソプロピルオキシ基、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基から選択され;
nが0であり;
R3が独立してC2H5基又はCH3基、好ましくはCH3基であり;
Arが、5~10炭素原子を有する非置換アリール基、好ましくは非置換フェニル基であり;
xが8~14好ましくは、10~12、より好ましくは11又は12である、請求項1に記載のコーティング組成物。 - 前記オルガノシラン化合物が、フェニルドデシルトリメトキシシラン、フェニルドデシルトリエトキシシラン、(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン、(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン;(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ドデカン;(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ドデカン;(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン;(トリエトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)オクタン;又はそれらの混合物から選択される、請求項1又は2に記載のコーティング組成物。
- 前記オルガノシラン化合物が、フェニルドデシルトリエトキシシラン、(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカン又はそれらの混合物から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記オルガノシラン化合物がフェニルドデシルトリエトキシシランである、請求項1から4のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記オルガノシラン化合物が(トリメトキシシリル)(ジメチルフェニルシリル)ウンデカンである、請求項1から5のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記オルガノシラン化合物が、前記コーティング組成物中に前記コーティング組成物の総量に対して0.01質量%~25.0質量%の量で存在する、請求項1から6のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 前記溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、1-メトキシ-2-プロピル-アセタート(PGMEA)、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)、2-ブタノン(MEK)、ヘキサデカン、オクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロペンタン、トルエン、キシレン、ベンゼン、四塩化炭素、クロロホルム、メチレンクロリド及びエチレングリコール又はそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1から7のいずれか一項に記載のコーティング組成物。
- 式(I)又は(II)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Ar (I)
R1 3-nR2 nSi-(CH2)x-Si(R3)2-Ar (II)
[式中、
R1は、独立してハロゲン又は-OR4から選択される加水分解性基であり;好ましくは独立して-OR4から選択され;
R4は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基から選択され;
R2は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
nは0、1又は2、好ましくは0又は1、最も好ましくは0であり;
R3は、独立してH、又は1~4炭素原子を有する直鎖状若しくは分岐アルキル基であり;
Arは、5~10炭素原子を有する置換又は非置換アリール基であり、ここで、任意選択の置換基は独立して、直鎖状又は分岐アルキル基、直鎖状若しくは分岐フッ素化若しくは塩素化アルキル基等の直鎖状若しくは分岐ハロゲン化アルキル基、-OR5、-N(R5)2及びF若しくはCl等のハロゲンから選択され、好ましくはArは5~10炭素原子を有する非置換アリール基であり;最も好ましくは、Arは非置換フェニル基であり;
R5は独立して、H、又は1~4炭素原子を有する直鎖状又は分岐アルキル基であり;
xは6~16、好ましくは8~14である]によって表わされるオルガノシラン化合物
又はそれらの混合物を含む組成物を起源とする指紋不可視フィルム。 - 前記オルガノシラン化合物が、請求項1から8のいずれか一項に記載のコーティング組成物中のものと同じである、請求項9に記載の指紋不可視フィルム。
- Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、70°を超える水接触角、及び/又はGorilla(登録商標)ガラスに塗工された場合、55°以下のジヨードメタン接触角を有する、請求項9又は10に記載の指紋不可視フィルム。
- Gorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、500サイクルの拡張線形摩耗後に少なくとも60°の水接触角及び/又はGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに塗工された場合、3000サイクルの拡張線形摩耗後に少なくとも50°の水接触角を有する、請求項9から11のいずれか一項に記載の指紋不可視フィルム。
- 塗工されたフロートガラスで指紋を含むヘーズから初期のヘーズを引いた差として7.5%以下のヘーズ差を有する、請求項9から12のいずれか一項に記載の指紋不可視フィルム。
- 0.30以下の摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに対するステンレス鋼箔)及び/又は0.40以下の摩擦係数(塗工されたGorilla(登録商標)ガラス又は他の化学強化ガラスに対するグラシンペーパー)を有する、請求項9から13のいずれか一項に記載の指紋不可視フィルム。
- *請求項1から8のいずれか一項に記載のコーティング組成物を用意する工程;
*浸液法、塗布法又は真空蒸着法により基板の少なくとも1つの表面に前記コーティング組成物を塗布することによって、前記基板に指紋不可視フィルムを形成する工程を含む前記指紋不可視フィルムを形成する方法。 - 少なくとも1つの最外面に請求項9から15のいずれか一項に記載の指紋不可視フィルムを含む製品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP20171519 | 2020-04-27 | ||
EP20171519.0 | 2020-04-27 | ||
PCT/EP2021/060805 WO2021219532A1 (en) | 2020-04-27 | 2021-04-26 | Oleophilic silanes for fingerprint-resistant coatings featuring high transparency, high abrasion-resistance, and low friction |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023523983A true JP2023523983A (ja) | 2023-06-08 |
Family
ID=70470859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022565683A Pending JP2023523983A (ja) | 2020-04-27 | 2021-04-26 | 高い透過率、高い耐摩耗性及び低い摩擦を特色とする、指紋耐性コーティング用の親油性シラン |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023523983A (ja) |
KR (1) | KR20230008137A (ja) |
CN (1) | CN115397892B (ja) |
TW (1) | TW202146603A (ja) |
WO (1) | WO2021219532A1 (ja) |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0739427B2 (ja) * | 1987-04-03 | 1995-05-01 | 信越化学工業株式会社 | モノアルコキシシラン化合物の製造方法 |
JP3601580B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2004-12-15 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル変性アミノシラン及び表面処理剤並びに該アミノシランの被膜が形成された物品 |
JP3900453B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2007-04-04 | 大日本塗料株式会社 | 有機無機複合樹脂の製造方法及びコーティング組成物 |
DE102008007261A1 (de) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen |
JP2010100819A (ja) | 2008-09-25 | 2010-05-06 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 指紋汚れの防止方法、並びに耐指紋性コーティング材組成物及びその塗装品 |
JP2011006653A (ja) | 2008-09-25 | 2011-01-13 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 硬化被膜付き基材 |
DE102009017822A1 (de) * | 2009-04-20 | 2010-10-21 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme basierend auf Tris(alkoxysilylalkyl)aminen und deren Verwendung |
JP5293534B2 (ja) | 2009-09-25 | 2013-09-18 | パナソニック株式会社 | 耐指紋性塗膜形成品及び耐指紋性コーティング材組成物 |
KR101800743B1 (ko) * | 2011-01-10 | 2017-11-24 | 삼성전자주식회사 | 지문 돋보임 방지 피막용 조성물, 상기 조성물을 이용한 지문 돋보임 방지 피막, 및 상기 피막을 포함하는 물품 |
KR101860710B1 (ko) * | 2011-07-27 | 2018-05-25 | 삼성전자주식회사 | 내지문성 코팅 조성물 및 이를 이용한 피막 |
KR102070449B1 (ko) * | 2013-06-12 | 2020-01-28 | 삼성전자주식회사 | 향균내지문 코팅 조성물, 그 피막, 그 코팅 방법, 및 그 코팅이 적용된 제품 |
KR20150054149A (ko) * | 2013-11-11 | 2015-05-20 | 동우 화인켐 주식회사 | 방오성 코팅제 및 이를 이용한 방오성 피막 |
TWI726871B (zh) * | 2015-03-17 | 2021-05-11 | 德商巴斯夫歐洲公司 | 混成有機-無機材料的組成物及其製造方法與使用方法 |
US10450481B2 (en) * | 2016-06-06 | 2019-10-22 | Nbd Nanotechnologies, Inc. | Invisible fingerprint coatings and process for forming same |
KR101990090B1 (ko) * | 2017-05-15 | 2019-06-19 | 나노크리스탈주식회사 | 지문 돋보임 방지 기능을 갖는 유리코팅 조성물, 이의 제조방법 및 지문 돋보임 방지 기능을 갖는 유리 코팅막 |
JP2021525169A (ja) | 2018-05-24 | 2021-09-24 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ, インコーポレイテッドNbd Nanotechnologies, Inc. | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 |
-
2021
- 2021-04-26 KR KR1020227041000A patent/KR20230008137A/ko active Search and Examination
- 2021-04-26 JP JP2022565683A patent/JP2023523983A/ja active Pending
- 2021-04-26 CN CN202180028150.1A patent/CN115397892B/zh active Active
- 2021-04-26 TW TW110114856A patent/TW202146603A/zh unknown
- 2021-04-26 WO PCT/EP2021/060805 patent/WO2021219532A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2021219532A1 (en) | 2021-11-04 |
CN115397892B (zh) | 2024-05-24 |
CN115397892A (zh) | 2022-11-25 |
KR20230008137A (ko) | 2023-01-13 |
TW202146603A (zh) | 2021-12-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240426 |