JP2021525169A - 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 - Google Patents
指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021525169A JP2021525169A JP2020565459A JP2020565459A JP2021525169A JP 2021525169 A JP2021525169 A JP 2021525169A JP 2020565459 A JP2020565459 A JP 2020565459A JP 2020565459 A JP2020565459 A JP 2020565459A JP 2021525169 A JP2021525169 A JP 2021525169A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- fingerprint
- formulation
- resistant
- silane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 105
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 154
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 135
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 64
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 claims description 117
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 79
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 43
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 25
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 23
- -1 - OH Chemical group 0.000 claims description 22
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 21
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 claims description 18
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- XOFYZVNMUHMLCC-ZPOLXVRWSA-N prednisone Chemical compound O=C1C=C[C@]2(C)[C@H]3C(=O)C[C@](C)([C@@](CC4)(O)C(=O)CO)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 XOFYZVNMUHMLCC-ZPOLXVRWSA-N 0.000 claims description 14
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 9
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 11-triethoxysilylundecan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCN LPWZCJFZJCOBHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RFCIRPRPWWLXQT-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCl RFCIRPRPWWLXQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000006116 anti-fingerprint coating Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- HRWFTJJLYCFELO-UHFFFAOYSA-N 10-triethoxysilyldecan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCO HRWFTJJLYCFELO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- NXBZFMBAFVYFMM-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCl NXBZFMBAFVYFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- MQYLLRQSAVMDGZ-UHFFFAOYSA-N 7-triethoxysilylheptan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCO MQYLLRQSAVMDGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- UVENXOXZCROPHI-UHFFFAOYSA-N 10-trimethoxysilyldecan-1-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCO UVENXOXZCROPHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MRSKLRCWHHHUOD-UHFFFAOYSA-N 11-triethoxysilylundecan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCO MRSKLRCWHHHUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- LIJFLHYUSJKHKV-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(undecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC LIJFLHYUSJKHKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 30
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 25
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- RRQTYXHHYIJDFB-UHFFFAOYSA-N n'-(triethoxysilylmethyl)hexane-1,6-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNCCCCCCN RRQTYXHHYIJDFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- DJIBPOHTDYJVAE-UHFFFAOYSA-N 11-chloroundecyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCCl DJIBPOHTDYJVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRYVPDMODZIFEB-UHFFFAOYSA-N 11-chloroundecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCCl BRYVPDMODZIFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005376 alkyl siloxane group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N hex-5-en-1-ol Chemical compound OCCCCC=C UIZVMOZAXAMASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 description 2
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- MNEXIOKPOFUXLA-UHFFFAOYSA-N n'-(11-trimethoxysilylundecyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCNCCN MNEXIOKPOFUXLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical class CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920006294 polydialkylsiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- RUZWLLDLFPSUSH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[11-(2-methoxyethoxy)undecyl]silane Chemical compound COCCOCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RUZWLLDLFPSUSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- GIEMHYCMBGELGY-UHFFFAOYSA-N 10-undecen-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCC=C GIEMHYCMBGELGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEDYDEQIDTZXRJ-UHFFFAOYSA-N 11-chloroundecylsilane Chemical class [SiH3]CCCCCCCCCCCCl VEDYDEQIDTZXRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLAKYYIYWIWCED-UHFFFAOYSA-N 11-prop-2-enoyloxyundecylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCCCCCCOC(=O)C=C RLAKYYIYWIWCED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFNCUURCEGYHIZ-UHFFFAOYSA-N 11-silylundecan-1-amine Chemical compound NCCCCCCCCCCC[SiH3] IFNCUURCEGYHIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNFBRUCVCBEWSQ-UHFFFAOYSA-N 11-triethoxysilylundecylphosphonic acid Chemical compound P(=O)(O)(O)CCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC HNFBRUCVCBEWSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSPASXKSXBJFKB-UHFFFAOYSA-N 11-trimethoxysilylundecan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCCCN XSPASXKSXBJFKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAOTUXWSVAFIEK-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCCC)[Si](OCC)(OCC)OCC.P(=O)(O)(O)O Chemical compound C(CCCCCCCCCC)[Si](OCC)(OCC)OCC.P(=O)(O)(O)O HAOTUXWSVAFIEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- XJOGFVSZSDLJNN-UHFFFAOYSA-N ClCCCCCC[SiH3] Chemical class ClCCCCCC[SiH3] XJOGFVSZSDLJNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N caproleic acid Natural products OC(=O)CCCCCCCC=C KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- IGWUWXXNAUVPIA-UHFFFAOYSA-N chloro(undecyl)silane Chemical compound C(CCCCCCCCCC)[SiH2]Cl IGWUWXXNAUVPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 210000001061 forehead Anatomy 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- NQQRRWZOABVNNP-UHFFFAOYSA-N hydroxy(6,6,6-triethoxyhexyl)silane Chemical compound C(C)OC(CCCCC[SiH2]O)(OCC)OCC NQQRRWZOABVNNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- HQMIFEVVPBXKRP-UHFFFAOYSA-N n'-(11-triethoxysilylundecyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCCCCCNCCN HQMIFEVVPBXKRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 210000001732 sebaceous gland Anatomy 0.000 description 1
- 210000002374 sebum Anatomy 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/30—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen phosphorus-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/5406—Silicon-containing compounds containing elements other than oxygen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
- C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
- C08K5/5419—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本出願は、2018年5月24日に出願された、米国仮特許出願第62/676,052号の35U.S.C.§119(e)下の利益を主張し、その開示はその全体が参照により援用される。
本開示は、例示的な実施形態において、基材をコーティングして指紋を視認できなくするか、ほぼ視認できなくするためのコーティング組成物に関する。
いくつかの実施形態では、前記基材は、ガラス、ガラスセラミック、金属酸化物、またはプラスチックを含む。
(RA)3SiRB
であり、
式中、各RAは独立して、−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、または−OC2〜C6アルキニルであり、そしてRBはC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニルであり、ここで−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、−OC2〜C6アルキニル、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−C(O)OR1、−C(O)OC1〜C20−PO3H2、−C(O)NH2、−C(O)NH(C1〜C6アルキル)、−C(O)N(C1〜C6アルキル)2、−SC1〜C6アルキル、−S(O)C1〜C6アルキル、−S(O)2C1〜C6アルキル、−S(O)NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)2NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)N(C1〜C6アルキル)2、−S(O)2N(C1〜C6アルキル)2、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(H)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(R1)C1〜C6アルキル−N(R1)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−OC1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2、または−Si(−OC1〜C6アルキル)3で置換され、そしてここで、−N(H)C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3のC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換され、そしてここでR1は独立して、重水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルであり、ここでC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換される。いくつかの実施形態において、RAは−OC1〜C6アルキルである。いくつかの実施形態において、RBはC10〜C20アルキル、C10〜C20アルケニル、またはC10〜C20アルキニルであり、ここでC10〜C20アルキル、C10〜C20アルケニル、またはC10〜C20アルキニル中の各水素原子は、必要に応じて、ハロで置換される。いくつかの実施形態において、RBはハロ置換されたn−オクチルトリエトキシシランまたはハロ置換されたC1〜C6アルキルではない。
式中、Rは−C1〜C6アルキル、−AE−O−BF−CG−O−DH、または−O−Si(C1〜C6アルキル)3であり、ここでAはC1〜C6アルキルであり、Bは−C1〜C6アルキル−O−であり、CはC1〜C6アルキルであり、DはC1〜C6アルキルであり、Oは酸素であり、E、G、およびHは各々、少なくとも1であり、Fは5〜12の整数であり、−C1〜C6アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR2、−OC1〜C6アルキル、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−OPO3Hで置換され、そしてR2は独立して、重水素、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである。いくつかの実施形態では、Rは−AE−O−BF−CG−O−DHまたは−O−Si(C1〜C6アルキル)3である。いくつかの実施形態では、Rは−AE−O−BF−CG−O−DHである。いくつかの実施形態では、Rは−(CH2)3O(CH2CH2O)9CH2CH2OCH3である。いくつかの実施形態では、Rは−O−Si(CH2)2CH2CH2CH2OHである。例示的なPOSSは、米国特許出願公開第2017/0349785号の実施例1に従って作製されるか、またはSigma AldrichからCAS番号288290−32−4で購入することができる。いくつかの実施形態では、RはC1〜C6アルキルまたは−O−Si−(C1〜C6アルキル)3であり、少なくとも1つのC1〜C6アルキルは、少なくとも1つのヒドロキシで置換される。
H3C−(CH2)n−Si(X)3−p(R)p
であり、
ここで、n=0から15、好ましくはn=3から5、またはn=10から20であり、ここで、p=0、または2、またはp=0または1、さらに別の例示的な実施形態では、p=0である。いくつかの実施形態において、Rは、アルキル基または水素原子であり、そしてXは、ハロゲン化物基またはアルコキシ基などの加水分解性基であるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、前記POSSは以下の構造
ここで、RはOH−(CH2)n、n=0から5、好ましくはn=1である。
耐指紋性基材であって、
前記耐指紋性表面は、約40°未満の初期油角および約65°を超える初期水角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性コーティング用の配合物は、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
を含み、
RAは−OC1〜C6アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記アルキルシランは、(クロロウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリメトキシ)シラン、11−(2−メトキシエトキシ)ウンデシルトリメトキシシラン、(アミノウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(アミノウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリメトキシ)シラン、(11−ウンデシリン酸)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシヘプチル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシウンデシル)(トリエトキシ)シラン、および(11−ホスホウンデシル)(トリエトキシ)シランからなる群から選択される、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記アルキルシランは、フルオロを含まない、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
Rは−AE−O−BF−CG−O−DHまたは−O−Si(C1〜C6アルキル)3である、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
Rは−AE−O−BF−CG−O−DHである、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
Rは−(CH2)3O(CH2CH2O)9CH2CH2OCH3である、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、約0.2未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、約0.13未満の摩擦係数を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記基材は、ガラス、金属酸化物、およびアクリルポリマーからなる群から選択される少なくとも1つの材料を含む、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、少なくとも約50°未満の初期油角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、少なくとも約45°未満の初期油角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、少なくとも約35°未満の初期油角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、約65°を超える初期水角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、約70°〜約90°の初期水角を有する、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記耐指紋性基材は、実質的にフッ化物を含まない、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
前記デルタEは、約0.7未満である、前述の条項のいずれかまたは条項の組み合わせの耐指紋性基材。
耐指紋性コーティング用の配合物であって、前記配合物は、
を含む、配合物。
前記アルキルシランは、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
であり、
RAは−OC1〜C6アルキルである、条項23〜24のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルである、条項23〜25のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、条項23〜26のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記アルキルシランは、(クロロウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリメトキシ)シラン、11−(2−メトキシエトキシ)ウンデシルトリメトキシシラン、(アミノウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(アミノウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリメトキシ)シラン、(11−ウンデシリン酸)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシヘプチル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシウンデシル)(トリエトキシ)シラン、および(11−ホスホウンデシル)(トリエトキシ)シランからなる群から選択される、条項23〜27のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
Rは−AE−O−BF−CG−O−DHまたは−O−Si(C1〜C6アルキル)3である、条項23〜29のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
Rは−AE−O−BF−CG−O−DHである、条項23〜30のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
Rは−(CH2)3O(CH2CH2O)9CH2CH2OCH3である、条項23〜31のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記アルキルシランは、約1g/l〜約6g/Lの濃度で存在する、条項23〜32のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記アルキルシランの濃度は、約2g/l〜約5g/lである、条項23〜34のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記POSSは、約50mg/lから約500mg/lの濃度で存在する、条項23〜34のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記POSSの濃度は、約50mg/l〜約250mg/lである、条項23〜35のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、条項23〜36のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記溶媒は、約1〜7のpHで存在する、条項23〜37のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記配合物は、PDMSを含む、条項23〜38のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記PDMSは、トリアルコキシシランで終端されている、条項23〜39のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記PDMSは、約10,000Da未満の分子量を有する、条項23〜40のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記PDMSの分子量は、少なくとも2,000Daである、条項23〜41のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
基材上に耐指紋性コーティングを形成する方法であって、前記方法は、
前記耐指紋性コーティング用の配合物は、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
を含み、
前記耐指紋性コーティングは、少なくとも約50°未満の初期油角を有する、条項43〜44のいずれか1つまたは組み合わせの方法。
前記耐指紋性コーティングは、少なくとも約45°未満の初期油角を有する、条項43〜45のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記耐指紋性コーティングは、約65°を超える初期水角を有する、条項43〜46のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記耐指紋性コーティングは、約70°〜約90°の初期水角を有する、条項43〜47のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記方法は、不活性ガス、N2、O2、および前記ガスのうちの少なくとも2つの混合物からなる群から選択される少なくとも1つのガスのプラズマに前記基材の表面を曝露することによって前記表面を活性化するステップを含む、条項43〜48のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記適用するステップは、前記基材の表面を前記耐指紋性コーティング用の配合物に浸漬する、前記配合物で拭く、または前記基材の表面に前記配合物を噴霧することによって実施される、条項43〜49のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記耐指紋性コーティングは、約0.2未満の摩擦係数を有する、条項43〜50のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
前記耐指紋性コーティングは、約0.13未満の摩擦係数を有する、条項43〜52のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの方法。
RBはハロ置換されたn−オクチルトリエトキシシランまたはハロ置換されたC1〜C6アルキルではない、前述の条項のいずれかまたは前述の条項のいずれかの組み合わせの基材、配合物、または方法。
RBはC1〜C20アルキル、C6〜C20アルキル、またはC10〜C20アルキルであり、ここでC1〜C20アルキル、C6〜C20アルキル、またはC10〜C20アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、置換される、前述の条項のいずれかまたは前述の条項のいずれかの組み合わせの基材、配合物、または方法。いくつかの実施形態において、各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2で置換されてもよく、ここでR1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである。
前記アルキルシランは、ハロゲンを含むがフルオロを含まず、前記アルキルシランは、PEG基を含まない、またはその両方である、前述の条項のいずれかまたは前述の条項のいずれかの組み合わせの基材、配合物、または方法。
POSSは、前記耐指紋性コーティング用の配合物中に存在しない、前述の条項のいずれかまたは前述の条項のいずれかの組み合わせの基材、配合物、または方法。
耐指紋性コーティング用の配合物であって、前記配合物は、アルキルシランおよびPDMSを含む、配合物。
前記PDMSは、トリアルコキシシランで終端されている、条項58の配合物。
前記PDMSは、約10,000Da未満の分子量を有する、条項58〜59のいずれか1つまたは組み合わせの配合物。
前記PDMSの分子量は、少なくとも2,000Daである、条項58〜60のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
前記アルキルシランは、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
であり、
RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、条項58〜63のいずれか1つまたはいずれかの組み合わせの配合物。
Claims (58)
- 耐指紋性基材であって、
基材の表面に耐指紋性コーティング用の配合物を適用するステップを含む方法によって作製され、
ここで、得られた耐指紋性表面は2未満のデルタEを有する、耐指紋性基材。 - 前記耐指紋性表面は、約40°未満の初期油角および約65°を超える初期水角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性コーティング用の配合物は、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
を含み、
式中、各RAは独立して、−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、または−OC2〜C6アルキニルであり、
RBはC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニルであり、ここで−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、−OC2〜C6アルキニル、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−C(O)OR1、−C(O)OC1〜C20−PO3H2、−C(O)NH2、−C(O)NH(C1〜C6アルキル)、−C(O)N(C1〜C6アルキル)2、−SC1〜C6アルキル、−S(O)C1〜C6アルキル、−S(O)2C1〜C6アルキル、−S(O)NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)2NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)N(C1〜C6アルキル)2、−S(O)2N(C1〜C6アルキル)2、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(H)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(R1)C1〜C6アルキル−N(R1)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−OC1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2、または−Si(−OC1〜C6アルキル)3で置換され、そしてここで、−N(H)C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3のC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換され、そして
R1は独立して、重水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルであり、ここでC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換される、請求項2に記載の耐指紋性基材。 - RAは−OC1〜C6アルキルである、請求項3に記載の耐指紋性基材。
- RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルである、請求項3に記載の耐指紋性基材。
- RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、請求項5に記載の耐指紋性基材。
- 前記アルキルシランは、(クロロウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリメトキシ)シラン、11−(2−メトキシエトキシ)ウンデシルトリメトキシシラン、(アミノウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(アミノウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリメトキシ)シラン、(11−ウンデシリン酸)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシヘプチル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシウンデシル)(トリエトキシ)シラン、および(11−ホスホウンデシル)(トリエトキシ)シランからなる群から選択される、請求項6に記載の耐指紋性基材。
- 前記アルキルシランは、フルオロを含まない、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性コーティング用の配合物は、以下の式のPOSS
式中、Rは−C1〜C6アルキル、−AE−O−BF−CG−O−DH、または−O−Si(C1〜C6アルキル)3であり、ここでAはC1〜C6アルキルであり、Bは−C1〜C6アルキル−O−であり、CはC1〜C6アルキルであり、DはC1〜C6アルキルであり、Oは酸素であり、E、G、およびHは各々、少なくとも1であり、Fは5〜12の整数であり、−C1〜C6アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR2、−OC1〜C6アルキル、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−OPO3Hで置換され、そして
R2は独立して、重水素、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、請求項1に記載の耐指紋性基材。 - Rは−AE−O−BF−CG−O−DHまたは−O−Si(C1〜C6アルキル)3である、請求項9に記載の耐指紋性基材。
- Rは−AE−O−BF−CG−O−DHである、請求項9に記載の耐指紋性基材。
- Rは−(CH2)3O(CH2CH2O)9CH2CH2OCH3である、請求項11に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、約0.2未満の摩擦係数を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、約0.13未満の摩擦係数を有する、請求項13に記載の耐指紋性基材。
- 前記基材は、ガラス、金属酸化物、およびアクリルポリマーからなる群から選択される少なくとも1つの材料を含む、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、少なくとも約50°未満の初期油角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、少なくとも約45°未満の初期油角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、少なくとも約35°未満の初期油角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、約65°を超える初期水角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、約70°〜約90°の初期水角を有する、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記耐指紋性基材は、実質的にフッ化物を含まない、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 前記デルタEは、約0.7未満である、請求項1に記載の耐指紋性基材。
- 耐指紋性コーティング用の配合物であって、前記配合物は、
アルキルシラン、
POSS、および
溶媒
を含む、配合物。 - 前記アルキルシランは、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
であり、
式中、各RAは独立して、−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、または−OC2〜C6アルキニルであり、
RBはC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニルであり、ここで−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、−OC2〜C6アルキニル、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−C(O)OR1、−C(O)OC1〜C20−PO3H2、−C(O)NH2、−C(O)NH(C1〜C6アルキル)、−C(O)N(C1〜C6アルキル)2、−SC1〜C6アルキル、−S(O)C1〜C6アルキル、−S(O)2C1〜C6アルキル、−S(O)NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)2NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)N(C1〜C6アルキル)2、−S(O)2N(C1〜C6アルキル)2、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(H)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(R1)C1〜C6アルキル−N(R1)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−OC1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2、または−Si(−OC1〜C6アルキル)3で置換され、そしてここで、−N(H)C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3のC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換され、そして
R1は独立して、重水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルであり、ここでC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換される、請求項23に記載の配合物。 - RAは−OC1〜C6アルキルである、請求項24に記載の配合物。
- RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルである、請求項25に記載の配合物。
- RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、請求項26に記載の配合物。
- 前記アルキルシランは、(クロロウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリエトキシ)シラン、(クロロヘキシル)(トリメトキシ)シラン、11−(2−メトキシエトキシ)ウンデシルトリメトキシシラン、(アミノウンデシル)(トリエトキシ)シラン、(アミノウンデシル)(トリメトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシデシル)(トリメトキシ)シラン、(11−ウンデシリン酸)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシヘプチル)(トリエトキシ)シラン、(ヒドロキシウンデシル)(トリエトキシ)シラン、および(11−ホスホウンデシル)(トリエトキシ)シランからなる群から選択される、請求項27に記載の配合物。
- 前記POSSは以下の式のPOSS
式中、Rは−C1〜C6アルキル、−AE−O−BF−CG−O−DH、または−O−Si(C1〜C6アルキル)3であり、ここでAはC1〜C6アルキルであり、Bは−C1〜C6アルキル−O−であり、CはC1〜C6アルキルであり、DはC1〜C6アルキルであり、Oは酸素であり、E、G、およびHは各々、少なくとも1であり、Fは5〜12の整数であり、−C1〜C6アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR2、−OC1〜C6アルキル、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−OPO3Hで置換され、そして
R2は独立して、重水素、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、請求項23に記載の配合物。 - Rは−AE−O−BF−CG−O−DHまたは−O−Si(C1〜C6アルキル)3である、請求項29に記載の配合物。
- Rは−AE−O−BF−CG−O−DHである、請求項30に記載の配合物。
- Rは−(CH2)3O(CH2CH2O)9CH2CH2OCH3である、請求項31に記載の配合物。
- 前記アルキルシランは、約1g/l〜約6g/Lの濃度で存在する、請求項23に記載の配合物。
- 前記アルキルシランの濃度は、約2g/l〜約5g/lである、請求項33に記載の配合物。
- 前記POSSは、約50mg/lから約500mg/lの濃度で存在する、請求項33に記載の配合物。
- 前記POSSの濃度は、約50mg/l〜約250mg/lである、請求項35に記載の配合物。
- 前記溶媒は、水、アルコール、またはそれらの混合物を含む、請求項23に記載の配合物。
- 前記溶媒は、約1〜7のpHで存在する、請求項37に記載の配合物。
- 前記配合物は、PDMSを含む、請求項23に記載の配合物。
- 前記PDMSは、トリアルコキシシランで終端されている、請求項39に記載の配合物。
- 前記PDMSは、約10,000Da未満の分子量を有する、請求項39に記載の配合物。
- 前記PDMSの分子量は、少なくとも2,000Daである、請求項41に記載の配合物。
- 基材上に耐指紋性コーティングを形成する方法であって、前記方法は、
前記基材の表面に耐指紋性コーティング用の配合物を適用するステップ、および
前記基材の表面上で前記耐指紋性コーティング用の配合物を硬化させて耐指紋性コーティングを形成するステップを含む、方法。 - 前記耐指紋性コーティング用の配合物は、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
を含み、
式中、各RAは独立して、−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、または−OC2〜C6アルキニルであり、
RBはC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニルであり、ここで−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、−OC2〜C6アルキニル、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−C(O)OR1、−C(O)OC1〜C20−PO3H2、−C(O)NH2、−C(O)NH(C1〜C6アルキル)、−C(O)N(C1〜C6アルキル)2、−SC1〜C6アルキル、−S(O)C1〜C6アルキル、−S(O)2C1〜C6アルキル、−S(O)NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)2NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)N(C1〜C6アルキル)2、−S(O)2N(C1〜C6アルキル)2、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(H)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(R1)C1〜C6アルキル−N(R1)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−OC1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2、または−Si(−OC1〜C6アルキル)3で置換され、そしてここで、−N(H)C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3のC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換され、そして
R1は独立して、重水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルであり、ここでC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換される、請求項43に記載の方法。 - 前記耐指紋性コーティングは、少なくとも約50°未満の初期油角を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記耐指紋性コーティングは、少なくとも約45°未満の初期油角を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記耐指紋性コーティングは、約65°を超える初期水角を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記耐指紋性コーティングは、約70°〜約90°の初期水角を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記方法は、不活性ガス、N2、O2、および前記ガスのうちの少なくとも2つの混合物からなる群から選択される少なくとも1つのガスのプラズマに前記基材の表面を曝露することによって前記表面を活性化するステップを含む、請求項43に記載の方法。
- 前記適用するステップは、前記基材の表面を前記耐指紋性コーティング用の配合物に浸漬する、前記配合物で拭く、または前記基材の表面に前記配合物を噴霧することによって実施される、請求項43に記載の方法。
- 前記耐指紋性コーティングは、約0.2未満の摩擦係数を有する、請求項43に記載の方法。
- 前記耐指紋性コーティングは、約0.13未満の摩擦係数を有する、請求項51に記載の方法。
- 耐指紋性コーティング用の配合物であり、前記配合物は、アルキルシランおよびPDMSを含む、配合物。
- 前記PDMSは、トリアルコキシシランで終端されている、請求項53に記載の配合物。
- 前記PDMSは、約10,000Da未満の分子量を有する、請求項54に記載の配合物。
- 前記PDMSの分子量は、少なくとも2,000Daである、請求項55に記載の配合物。
- 前記アルキルシランは、以下の式のアルキルシラン
(RA)3SiRB
であり、
式中、各RAは独立して、−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、または−OC2〜C6アルキニルであり、
RBはC1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニルであり、ここで−OC1〜C6アルキル、−OC2〜C6アルケニル、−OC2〜C6アルキニル、C1〜C20アルキル、C2〜C20アルケニル、またはC2〜C20アルキニル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、重水素、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−C(O)OR1、−C(O)OC1〜C20−PO3H2、−C(O)NH2、−C(O)NH(C1〜C6アルキル)、−C(O)N(C1〜C6アルキル)2、−SC1〜C6アルキル、−S(O)C1〜C6アルキル、−S(O)2C1〜C6アルキル、−S(O)NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)2NH(C1〜C6アルキル)、−S(O)N(C1〜C6アルキル)2、−S(O)2N(C1〜C6アルキル)2、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−N(H)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(R1)C1〜C6アルキル−N(R1)C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−OC1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3、−N(H)C1〜C6アルキル−N(H)C1〜C6アルキル−NH2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、−PO3H2、または−Si(−OC1〜C6アルキル)3で置換され、そしてここで、−N(H)C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキル−Si(−OC1〜C6アルキル)3のC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換され、そして
R1は独立して、重水素、C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニル、C2〜C6アルキニル、C3〜C6シクロアルキル、または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルであり、ここでC1〜C6アルキル中の各水素原子は、必要に応じて、ヒドロキシルで置換される、請求項55に記載の配合物。 - RBはC6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキルであり、C6〜C20アルキルまたはC10〜C20アルキル中の各水素原子は独立して、必要に応じて、ハロゲン、−OH、−CN、−OR1、−CO2H、−NH2、−NH(C1〜C6アルキル)、−N(C1〜C6アルキル)2、−P(C1〜C6アルキル)2、−P(O)(C1〜C6アルキル)2、または−PO3H2で置換され、R1は独立して、重水素または−C1〜C6アルキル−O−C1〜C6アルキルである、請求項57に記載の配合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862676052P | 2018-05-24 | 2018-05-24 | |
US62/676,052 | 2018-05-24 | ||
PCT/US2019/033952 WO2019227010A1 (en) | 2018-05-24 | 2019-05-24 | Invisible fingerprint coatings and process for forming same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021525169A true JP2021525169A (ja) | 2021-09-24 |
Family
ID=68615640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020565459A Pending JP2021525169A (ja) | 2018-05-24 | 2019-05-24 | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190367773A1 (ja) |
EP (1) | EP3801928A4 (ja) |
JP (1) | JP2021525169A (ja) |
KR (1) | KR20210020933A (ja) |
CN (1) | CN112218728B (ja) |
WO (1) | WO2019227010A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111253860A (zh) * | 2020-02-09 | 2020-06-09 | 西北工业大学 | 一种耐烧蚀有机硅树脂涂层材料及其制备方法 |
CN113492094A (zh) * | 2020-03-18 | 2021-10-12 | Nbd纳米技术公司 | 形成涂层的方法 |
CN115397892B (zh) * | 2020-04-27 | 2024-05-24 | 巴斯夫欧洲公司 | 用于具有高透明度、高耐磨性和低摩擦的抗指纹涂层的亲油性硅烷 |
US20240191099A1 (en) * | 2022-12-08 | 2024-06-13 | Corning Incorporated | Coated articles with an anti-fingerprint coating or surface-modifying layer and methods of making the same |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09228074A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-09-02 | Kobe Steel Ltd | 耐指紋性に優れた表面処理鋼板およびその製造方法 |
JP2004136344A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-05-13 | Takasago Tekko Kk | 耐指紋汚染性を有するステンレス鋼板 |
JP2011508689A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-17 | ポスコ | 鋼板、及び鋼板表面処理組成物 |
WO2015056738A1 (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 日油株式会社 | 耐指紋性反射防止フィルム |
JP2018027531A (ja) * | 2016-06-06 | 2018-02-22 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ, インコーポレイテッドNbd Nanotechnologies, Inc. | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5300608A (en) * | 1992-03-31 | 1994-04-05 | Loctite Corporation | Process for preparing alkoxy-terminated organosiloxane fluids using organo-lithium reagents |
US20090123516A1 (en) * | 2005-08-08 | 2009-05-14 | The Board Of Regents Of The University Of Texas System | Drug delivery from implants using self-assembled monolayers-therapeutic sams |
DE102006026227A1 (de) * | 2006-06-06 | 2007-12-13 | Wacker Chemie Ag | Vernetzbare Massen auf der Basis von Organosiliciumverbindungen |
JP5141596B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2013-02-13 | Jsr株式会社 | ポリジアルキルポリシロキサン基、パーフルオロポリエーテル基、ウレタン基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物、それを含有する硬化性組成物及び硬化膜 |
JP5329905B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2013-10-30 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物 |
KR101800743B1 (ko) * | 2011-01-10 | 2017-11-24 | 삼성전자주식회사 | 지문 돋보임 방지 피막용 조성물, 상기 조성물을 이용한 지문 돋보임 방지 피막, 및 상기 피막을 포함하는 물품 |
US20120219801A1 (en) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Yu-Hui Huang | Hydrophobic and lipophobic coating material |
KR101271965B1 (ko) * | 2011-07-13 | 2013-06-07 | 주식회사 노루코일코팅 | 표면 처리용 수지 조성물 및 이에 의해 코팅된 강판 |
US10532020B2 (en) * | 2012-08-22 | 2020-01-14 | Revlon Consumer Products Corporation | Nail coatings having enhanced adhesion |
KR20160061348A (ko) * | 2013-09-16 | 2016-05-31 | 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 | 폴리 플루오르 함유 실록산 코팅 |
KR101384424B1 (ko) * | 2013-12-20 | 2014-04-14 | 김병만 | 지문 방지 코팅액 조성물 및 그 제조방법과 지문 방지 코팅액 제조용 중공체 입자의 제조방법 |
US10155858B2 (en) * | 2014-03-17 | 2018-12-18 | Dow Corning Corporation | Curable composition, cured product formed from the curable composition, and method of forming the cured product |
JP6732783B2 (ja) * | 2015-03-17 | 2020-07-29 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 耐擦傷性の易洗浄コーティング、その製造方法およびその使用 |
CN105524552B (zh) * | 2016-01-18 | 2019-05-17 | 矽时代材料科技股份有限公司 | 一种高性能有机硅氟纳米涂料及其应用 |
CN107629591A (zh) * | 2017-07-19 | 2018-01-26 | 合肥普庆新材料科技有限公司 | 一种用于热镀锌钢板的无铬耐指纹处理液 |
CN107641802A (zh) * | 2017-07-19 | 2018-01-30 | 合肥普庆新材料科技有限公司 | 一种用于热镀锌钢板的含铬耐指纹处理液 |
CN107652799A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-02-02 | 江阴长发耐指纹钢板有限公司 | 用于镀锌板上的耐指纹水基涂料及其制备方法 |
-
2019
- 2019-05-24 JP JP2020565459A patent/JP2021525169A/ja active Pending
- 2019-05-24 US US16/422,329 patent/US20190367773A1/en active Pending
- 2019-05-24 WO PCT/US2019/033952 patent/WO2019227010A1/en unknown
- 2019-05-24 CN CN201980034964.9A patent/CN112218728B/zh active Active
- 2019-05-24 KR KR1020207037149A patent/KR20210020933A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-05-24 EP EP19808217.4A patent/EP3801928A4/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09228074A (ja) * | 1995-12-19 | 1997-09-02 | Kobe Steel Ltd | 耐指紋性に優れた表面処理鋼板およびその製造方法 |
JP2004136344A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-05-13 | Takasago Tekko Kk | 耐指紋汚染性を有するステンレス鋼板 |
JP2011508689A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-17 | ポスコ | 鋼板、及び鋼板表面処理組成物 |
WO2015056738A1 (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 日油株式会社 | 耐指紋性反射防止フィルム |
JP2018027531A (ja) * | 2016-06-06 | 2018-02-22 | エヌビーディー ナノテクノロジーズ, インコーポレイテッドNbd Nanotechnologies, Inc. | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3801928A4 (en) | 2022-12-14 |
CN112218728B (zh) | 2024-04-26 |
CN112218728A (zh) | 2021-01-12 |
WO2019227010A1 (en) | 2019-11-28 |
EP3801928A1 (en) | 2021-04-14 |
US20190367773A1 (en) | 2019-12-05 |
KR20210020933A (ko) | 2021-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2021525169A (ja) | 指紋非視認性コーティングおよびそれを形成する方法 | |
KR102468424B1 (ko) | 비가시적 지문 코팅 및 이의 형성 방법 | |
EP0844265B1 (en) | Silicon-containing organic fluoropolymers and use of the same | |
JP6112866B2 (ja) | スルホネート官能コーティング及び方法 | |
JP6704854B2 (ja) | 透明皮膜 | |
CN109071935B (zh) | 组合物 | |
JP2017201008A (ja) | 組成物 | |
JP2022539052A (ja) | 基材のためのコーティング組成物、その方法およびその使用 | |
JP2003064348A (ja) | 防汚性表面処理剤及び防汚性表面処理用組成物 | |
JP7202588B2 (ja) | 含フッ素アルコールコンポジット | |
US11802994B2 (en) | Easy-clean coating | |
JP2007001959A (ja) | シラン化合物、その製造方法、及び表面改質剤 | |
US20130260156A1 (en) | Surface coating with perfluorinated compounds as antifouling | |
JP2022191969A (ja) | ポリシラザン系表面改質剤 | |
JP2011006653A (ja) | 硬化被膜付き基材 | |
JP2004530776A (ja) | 表面処理組成物およびその方法 | |
EP3263665B1 (en) | Fluorine-based protective coating composition for chromium surfaces | |
JP2016050276A (ja) | 塗装鋼板用表面処理剤 | |
WO2024029537A1 (ja) | シリカ膜付き基板 | |
JP7486726B2 (ja) | シリカ膜付き基板 | |
US11384012B2 (en) | Atomized anti-scratching nano-coating for glass surface and method of manufacturing thereof | |
WO2023189685A1 (ja) | Abaトリブロックポリマー、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 | |
JP2023149215A (ja) | 重合性組成物、重合体、重合体組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 | |
WO2023189686A1 (ja) | Abaトリブロックポリマー、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 | |
JP2013216530A (ja) | 複合アルミナ皮膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220401 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230221 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231010 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240304 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20240326 |