JP2004530776A - 表面処理組成物およびその方法 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、表面処理の分野に関する。本発明は、組成物、および前記組成物を使用する基材の表面処理の方法を本発明の目的として有する。本発明は、また、化合物、およびその調製方法を本発明の目的として有する。最後に、本発明は、前記表面処理方法によって得られてもよい基材を、本発明の目的として有する。
【背景技術】
【0002】
建築、家具、家庭用機器などの分野では全て、表面の汚れは、衛生的な観点および審美的な観点の両方から有害である。輸送、特に飛行機または自動車などの分野では、汚物の蓄積は、例えば、透明な表面を通して見る視界を悪くすることにより、顕著な害となり得る。そのため、最小限のレベルの清浄を再確立する努力をしなければならならず、これには費用が掛かる。
【0003】
特に、汚物の保持を低下させることにより、基材の特性を改善する基材の表面処理が既知である。
【0004】
汚物保持の程度は、一般に、極性または無極性の液体による基材の濡れによるものである。基材の濡れは、基材上でこの液体の液滴により形成される接触角により特徴付けられる。従って、特に90°を上回る大きい角度は、基材が液体で濡れないことを示す。
【0005】
ここ数年にわたって、多数の疎水性および疎油性処理が提案されてきた。
【0006】
このため、米国特許公報(特許文献1)は、パーフルオロアルキルアルキルシランを用いる処理により得られる低い濡れ性を有する、ガラス基材を開示している。この処理は、パーフルオロアルキルアルキルシランを加水分解可能なシランと混合することにより、耐久性を増す。
【0007】
このようなパーフルオロアルキルアルキルシランフィルムは、(特許文献2)の文献にも記載されている。これらのフィルムを無機下層に堆積させることにより、耐摩耗性が改善される。
【0008】
(特許文献3)は、アルコキシシランとハロゲノシランとの混合物を含有し、磨耗および紫外線に対する耐性が改善されたコーティング組成物を記載している。
【0009】
最後に、(特許文献4)および(特許文献5)は、パーフルオロアルキル基とアルキル基との間にエーテル、エステル、またはカルボニル官能基を有してもよい、パーフルオロアルキルアルキルシランの単分子フィルムを開示している。
【0010】
【特許文献1】
米国特許第5,523,161号明細書
【特許文献2】
EP 692 463号明細書
【特許文献3】
特許出願第WO 99/18168号パンフレット
【特許文献4】
EP 491 251号明細書
【特許文献5】
EP 492 545号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
提案されたこれらの防汚処理は、極性および無極性液体による低い濡れ性の特性、即ち、疎水特性および疎油特性の両方を処理される基材に付与する。従って、このような液体は、接触角の大きい液滴を形成する。
【0012】
例えば、建物のファサード、または自動車の風防ガラスを形成するため、このような基材が垂直に取付けられるか、または風雨に曝される場合、重力および/または空力は、液滴を除去するのに十分であると、一般に認識されている。
【0013】
これらのスポットおよび/またはリングの数の増加に対して仮定される理由の1つは、小さすぎて前述の力では除去されない液滴の、基材上での外観である。これらの液滴の形成は、降水量の関数、および基材の表面状態の関数である。小さい水滴は、溶解および蒸発後の再堆積の機構により、汚れた基材の視覚的効果を助長する場合があり、これは透明な基材では特に不快である。(翻訳者注釈:フランス語のテキスト中に、スポットおよびリングの形成を検討する段落が1つ以上抜けていると思われる。)
【0014】
このような処理を受けた基材は、洗い落とすことが困難なスポットおよびリングを呈する場合があることが観察されてきた。このような汚れは、汚れを含有する小さい液滴が乾燥し、それらの含有する汚れを堆積させる、汚れを含有する小さい液滴から生じる。
【0015】
大きい液体接触角をベースにし、これまで提案されたシステムは、このように、完全に満足のいくものではない。
【0016】
前述の困難を克服し、好ましくは塗布が迅速で容易であり、コストが低く、毒性の低い表面処理の必要がある。
【課題を解決するための手段】
【0017】
汚れ、グリースおよびオイルに対する改善された耐性を基材に付与する、表面処理によって問題が解決された。驚くべきことに、過フッ素化基および極性基を有するシランを含む組成物を基材に塗布すると、非常に満足のいく結果を生じることが、観察された。
【0018】
更に、このように処理された基材は、自己洗浄特性を示した。自己洗浄特性の用語は、どのような汚れも容易に洗浄すること、例えば、機械の補助なしに簡単な水流により洗浄することを意味する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0019】
従って、本発明の第1の目的は、式(I)、
(I)Rf−B−Ro−Z
(式中、
Rfは、1〜20個の、好ましくは6〜16個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖を有する過フッ素化アルキル基を表し、
Bは、酸素、硫黄、および/または窒素原子を1〜3個含むことができる二価の基を表し、
Roは、1〜100、好ましくは5〜20のオキシアルキレン基、好ましくは炭素原子を介してB基に結合されるオキシエチレンまたはオキシプロピレン基を表し、および
Zは、水素原子であるか、またはBがヒドロキシル基を有する場合には、1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖アルキル基である)の化合物、
および、式(II)、
【0020】
【化1】
【0021】
(式中、
mは、0〜10、好ましくは0〜3の整数であり、
Rは、それぞれ互いに独立して、1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖アルキル基を表し、
pは、0〜2の整数、好ましくは0であり、
Aは、それぞれ互いに独立して、ハロゲン、好ましくは塩素、または1〜6個の炭素原子を含むアルコキシ基、好ましくはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、および/またはイソプロピルオキシを表し、および
Yは、イソシアネート、エポキシ、カルボン酸、またはアルコール官能基を含む基を表し、Yはまた、mがゼロでない場合、Si(Rp)(A)3−pを表し、mがゼロの場合、A基を表すことができる)の化合物、
および/またはそれらの反応生成物を含む組成物である。
【0022】
好ましくは、化合物(II)は、周知の非イオン性フッ素化界面活性剤、例えば、アトフィナ(ATOFINA)製のフォラファック(FORAFAC)(登録商標)1110D、または本願特許出願人製のゾニル(ZONYL)(登録商標)FSN若しくはFSO、またはダイキン(Daikin)製のユニダイン(UNIDYNE)DS 401の中から選択される。式(I)の化合物は、一級または二級アルコールとすることができる。二級アルコールは、例えば、フッ素化エポキシドとCH3O(C2H4O)n−C2H4OHなどのポリグリコールエーテルとの反応により得ることができる。
【0023】
式(II)の好ましい化合物は、イソシアネートまたはエポキシ官能基を表す誘導体である。このような化合物の例は、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン(シルクエスト(SILQUEST)A 1310、ウィトコ(Witco)製のシラン)、ウィトコ(Witco)製のコートシル(COATOSIL)1770、またはグリシジル−3−オキシプロピル−トリエトキシシラン(ハルス/シベント(Huls/Sivento)製のグリオ(GLYEO))である。
【0024】
このような組成物は、基材の表面を処理するのに特に有用である。この目的のため、組成物は、無水溶媒と組合わせて、式(I)および(II)の化合物の、および/またはそれらの反応生成物の1〜50重量%、特に10〜40重量%を含有する。適切な無水溶媒は、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、または酢酸イソプロピルなどのエステル、アセトン、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトンなどのケトンである。
【0025】
有利には、組成物は、各カテゴリーから数種類の化合物を含むことができる。組成物は、また、有用な添加剤を含有してもよい。
【0026】
本発明の別の実施形態によれば、本組成物は、水、アルコール、およびこれらの混合物の中から選択される別の溶媒の導入により希釈されてもよい。このような組成物は、前述の化合物を0.05〜5重量%、特に0.1〜2重量%含むことができる。
【0027】
特定の実施形態によれば、本組成物は水性エマルジョンの形態である。
【0028】
本発明は、また、このような組成物を調製する方法を本発明の目的として有する。この方法は、
(a)式(I)の化合物および式(II)の化合物を適切な無水溶媒中に溶解させる工程を含む。
【0029】
特定の実施形態によれば、アルコキシシランまたはハロゲノシラン官能基、および水などの加水分解剤が加水分解のために添加される。そのため、この方法は、次の追加の工程、
(b)水、アルコール、またはこれらの混合物の中から選択される溶媒を添加する工程を含む。
【0030】
特定の実施形態によれば、この方法は、また、次の追加の工程、
(c)必要に応じて、界面活性剤、または水溶性ポリマーの存在下における、工程(b)で得られた溶液を乳化する工程、および、必要に応じて、
(d)無水溶媒を分離する工程
を含む。
【0031】
本発明は、また、式(III)、
【0032】
【化2】
【0033】
(式中、Rf、B、Ro、m、Aおよびpは、上記に定義した通りであり、Qは、カルバメート、エステル、アルコキシシラン、またはエーテル官能基であり、好ましくはカルバメートまたはエーテル官能基である)の化合物を本発明の目的として有する。
【0034】
式(III)の化合物は、特に、式(I)の化合物中のアルコール官能基と、式(II)の化合物中のY基との反応により、必要に応じて触媒の存在下で得られてもよい。
【0035】
本発明のこの実施形態では、特に、無水媒体中で操作することにより、アルコキシシランまたはハロゲノシラン基の加水分解を回避することが重要である。これらの基の加水分解は、シランの架橋に繋がる。当業者は適切な条件を容易に決定することができる。この反応の触媒を添加すると、有利な可能性がある。
【0036】
合成溶媒中に化合物を溶解させた溶液は、本発明の好ましい実施形態である。このような組成物は、合成後に直接得られ、後の分離を必要としない。
【0037】
式(III)の化合物は、合成溶媒の完全な除去、および他の溶媒または組成物に組み込むことにより、粉体、ペースト、または液体の形態で単離することができる。好ましくは、単離された化合物は、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、または酢酸イソプロピルなどのエステル、アセトン、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトンなどのケトンの中から選択される溶媒などの、適切な無水溶媒に導入される。このような組成物は、長期間保存することができる。
【0038】
本発明の別の実施形態によれば、化合物(III)をその前駆体を含む本発明の組成物の塗布時に適切な場所で合成することができる。
【0039】
形成される層の化学的性質は、加水分解された化合物(I)および(II)の架橋により、式(III)の化合物、並びに他の生成物が得られる程度までには、十分に明確化されない。しかし、この実施形態では、結果として相当の品質が得られ、また、調製に必要な工程の数が減少するという利点がある。
【0040】
本発明の別の実施形態は、水、および/またはメタノール、エタノール、若しくはイソプロパノールなどのアルコール、好ましくはエタノール若しくはイソプロパノールなどの他の溶媒を更に含む本発明の組成物に関する。好ましくは、アルコールと水との混合物が使用される。これらの組成物は、すぐに使用できる組成物として、特に有用である。
【0041】
添加される水は、その最初の機能として、アルコキシシラン、またはハロゲノシラン基に対する加水分解剤の役割をしなければならない。アルコールは、一般に、組成物中に含有される生成物の良好な溶媒である。これらの組成物は、環境保護および安全な使用の点で、更に有利である。
【0042】
これらの組成物は、例えば、水−アルコール溶液中で、無水溶媒を含む組成物を希釈することによって得ることができる。水−アルコール溶液は、アルコールを0〜100重量%、好ましくは10〜90重量%含有する。例えば、酢酸または塩酸の中から選択される、有機または無機酸の添加は、ハロゲノシランまたはアルコキシシラン官能基の加水分解を触媒するため有利である。
【0043】
無水溶媒中の組成物は、また、水中で希釈されてもよい。この場合、1種類以上の界面活性剤および/または1種類以上の水溶性ポリマーの存在下で作業することが有利な可能性がある。溶液は、例えば、高圧ホモジナイザーを使用して激しく撹拌された後、希釈され、全てのまたは一部の無水溶媒を除去する。安定な水性エマルジョンは、このようにして得られる。
【0044】
組成物が基材に塗布される際に起こる反応は、正確には知られていない。しかし、組成物中に存在するアルコキシシランまたはハロゲノシラン基は、加水分解剤の影響下でSi−OH基に加水分解され、これらは互いに、およびガラス中のSi−OH基とも反応することができる。後者の反応は、基材上に堆積された化学物質層の化学吸着反応と称される。シラン基は、また、分子間で反応し、Si−O−Si結合を含む三次元網目構造を形成し、このため、堆積された層に高レベルの硬度を付与する。
【0045】
本発明の別の目的は、
(i)存在するアルコキシシランまたはハロゲノシラン基の加水分解剤の存在下で、処理される基材に本発明の組成物を塗布する工程
を含む基材の表面を処理する方法に関する。
【0046】
基材は、表面処理の前に注意深く洗浄されることが好ましい。このような洗浄は、例えば、ガラス基材の表面のヒドロキシル官能基を活性化することにより、接着特性を顕著に改善する。ガラス基材の場合、それらをクロム酸溶液中に浸漬し、続いて脱塩水で洗い、乾燥させることが有利であると分かった。
【0047】
基材に塗布される組成物は、水などの加水分解剤を既に含有することができる、例えば、水−アルコール溶液、または水性エマルジョンの形態とすることができる。必要に応じて、有機または無機酸などの加水分解触媒も添加することができる。
【0048】
塗布される組成物は、無水溶媒中に溶解させた溶液の形態で存在することもできる。この場合、空気中の湿度が、加水分解剤の役割を果たす。
【0049】
適切な既知の技術を使用して、例えば、噴霧、刷毛塗り、コーティング、含浸、浸漬により、活性物質の0.05〜5%、好ましくは0.1〜2%の濃度で前述の組成物を基材に塗布することができる。
【0050】
基材に応じて、熱処理を適用してもよい。従って、有利であるが任意選択的には、この方法は、追加の工程、即ち
(ii)工程(i)の後、50〜200℃の温度で、1秒〜24時間の時間、熱処理する工程
を含む。
【0051】
この方法は、加水分解剤として水を使用して実施されることが好ましい。
【0052】
一般に、熱処理が短いほど、その温度は高くなる。この熱処理の第1の目的は、溶媒を蒸発させることである。従って、これは、溶媒が高い蒸発温度を有する場合に推薦される。
【0053】
加水分解剤は、組成物が塗布される基材上に存在することも可能である。
【0054】
最後に、本発明は、前述の方法によって得られる基材を、本発明の目的として有する。
【0055】
このような基材は、一般に、乾燥した液滴残留物の跡が非常に不快である、透明な材料から製造される無機または有機基材である。これらの基材は、本発明の表面処理を受ける前に別の表面処理、例えば、反射防止処理を受けることができる。含まれる物質は、例えば、ガラス、ポリメチルメタクリレート、およびポリカーボネートであり、また、石、煉瓦、コンクリート、木材、タイル、皮革、または織物などの任意の種類の物質である。
【0056】
本発明の方法に従って処理される基材は、オイルに対する良好な耐性、および自己洗浄特性を有する。
【0057】
次の実施例は本発明を説明するが、それを限定しない。
【実施例】
【0058】
(実施例1)
温度プローブおよびCaCl2トラップを介して大気とつながる凝縮器を装備した250mlの三口フラスコに、構造式、C6F13C2H4O(CH2−CH2O)nH(式中、nの平均値は11である)を有するオキシエチル化フッ素化アルコールFORAFAC 1110を20部を導入する。この化合物をBF3/エーテル触媒を使用してアルコールC6F13C2H4OHのエチレンオキシドの作用により合成した。トルエンを使用して、反応の副生成物として生成されるジオキサンを除去した後、蒸留した。オキシエチル化アルコールを無水酢酸エチル42グラムで希釈した後、触媒、ジブチルジラウリン酸スズ0.2部を添加した。無水窒素脱気(sweep)を使用して反応媒体を不活性化させ、溶液を77℃で加熱還流した後、式(C2H5O)3Si(CH2)3−N=C=Oの3−(トリエトキシ)シリルプロピルイソシアネートを化学量論的な量(OH基に対して)、即ち、7.9部、導入した。反応に続き、FTIR分光法を使用してN=C=Oを分析した。これは、3時間内に完了した。
【0059】
次の構造式、
C6F13C2H4O(CH2−CH2O)n−OC(O)NH−(CH2)3−Si(OC2H5)3(式中、nの平均値は11である)を有する活性物質を40%含有する、溶液S1が得られた。
【0060】
(実施例2)
この実施例は、塗布中に化合物を適切な場所で合成するための、組成物の調製を説明する。構造式、C6F13C2H4O(CH2−CH2O)nH(式中、nの平均値は11である)を有するオキシエチル化フッ素化アルコールFORAFAC 1110を18部、125mlのフラスコに導入し、酢酸エチル55部中に溶解させ、オールドリッチ(Aldrich)製のテトラエトキシシランSi(OC2H5)4を18部添加する。すぐに使用できる二成分混合物の溶液S2(乾燥抽出物40%)が得られる。
【0061】
(実施例3)
この実施例は、塗布中に化合物を適切な場所で合成するための、組成物の調製を説明する。構造式、C6F13C2H4O(CH2−CH2O)nH(式中、nの平均値は11である)を有するオキシエチル化フッ素化アルコールFORAFAC 1110を25部、125mlのフラスコに導入し、酢酸エチル55部中に溶解させ、次の構造式、
【0062】
【化3】
【0063】
を有するウィトコ(WITCO)製のシランエポキシドコータシル(Coatasil)1770を12部添加する。
【0064】
すぐに使用できる二成分混合物の溶液S3(乾燥抽出物40%)が得られる。
【0065】
(実施例4)
この実施例は、塗布中に化合物を適切な場所で合成するための、組成物の調製を説明する。構造式、C6F13C2H4O(CH2−CH2O)nH(式中、nの平均値は11である)を有するオキシエチル化フッ素化アルコールFORAFAC 1110を25部、125mlのフラスコに導入し、酢酸エチル55部中に溶解させ、次の構造式、
【0066】
【化4】
【0067】
を有するハルス/シベント(HULS/SIVENTO)製のシランエポキシド・グリオ(GLYEO)11.7部を添加した。
【0068】
すぐに使用できる二成分混合物の溶液S4(乾燥抽出物40%)が得られる。
【0069】
(実施例5)
パーフルオロアルキルおよびヒドロキシル化エチレンオキシドの付加生成物である、ダイキン(DAIKIN)製のユニダイン(UNIDYNE)DS 401、式、(CF3)2CF(CF2)nCH2CHOHCH2O(C2H4)n′CH3(n=6/8/10、およびn′≒8)を20部、および酢酸エチル50部を、温度プローブ、凝縮器、および滴下漏斗を装備した100mlの三口フラスコに導入する。無水窒素脱気(sweep)を使用して反応媒体を不活性化させ、溶液を77℃で加熱還流した後、共沸蒸留により界面活性剤から僅少の水を除去した。ジブチルジラウリン酸スズ0.2部を添加した後、式(C2H5O)3Si(CH2)3−N=C=Oの3−(トリエトキシ)シリルプロピルイソシアネートを化学量論的な量(OH基に対して)、即ち、4.6部、導入した。反応に続き、FTIR分光法を使用してN=C=Oを分析した。これは、2時間で完了する。次式、
【0070】
【化5】
【0071】
を有する活性物質を33%含有する溶液S5が得られた。
【0072】
(比較例1)
温度プローブ、CaCl2トラップを介して大気とつながる凝縮器、および滴下漏斗を装備した100mlの三口フラスコに、式C8F17C2H4SHのフッ素化チオールを19.4部、および無水酢酸エチルを5部、導入する。
【0073】
無水窒素脱気(sweep)を使用して反応媒体を不活性化させ、溶液を77℃で加熱還流した後、滴下漏斗を使用して、式CH2=C(CH)3C(O)O(CH2)3Si(OCH3)3の2−(トリメトキシ)シリルプロピルメタクリレート(MEMO)を10部、およびAIBN開始剤を0.3部含有する溶液を5時間にわたって導入し、無水酢酸エチル40部で希釈した。
【0074】
得られる溶液SC1は、式、
C8F17C2H4S−CH2−C(CH)3C(O)O(CH2)3Si(OCH3)3の一付加(mono−addition)生成物を39.5%含有する。
【0075】
(比較例2)
温度プローブ、凝縮器、および滴下漏斗を装備した100mlの三口フラスコに、式CH3(CH2)17(OC2H4)10OHのオキシエチル化界面活性剤、ICI製のBRIJ76を45部、および無水酢酸エチルを50部、導入する。無水窒素脱気(sweep)を使用して反応媒体を不活性化させ、溶液を77℃で加熱還流した後、共沸蒸留により界面活性剤から僅少の水を除去した。ジブチルジラウリン酸スズ0.1部を添加した後、式(C2H5O)3Si(CH2)3−N=C=Oの3−(トリエトキシ)シリルプロピルイソシアネートを、化学量論的な量(OH基に対して)、即ち、17.1部、導入した。反応に続き、FTIR分光法を使用してN=C=Oを分析した。これは、5時間で完了する。
【0076】
次の構造式、
CH3(CH2)17(OC2H4)10OCONH−(CH2)3−Si(OC2H5)3
を有する活性物質を55%含有する溶液SC2が得られた。
【0077】
次いで、これらの例で得られた溶液S1、S2、S3、S4、S5、SC1、およびSC2を水/イソプロパノール(比10/90)の混合物中で希釈し、酢酸でpH5に調節した。活性物質を0.1重量%含有する溶液が得られた。
【0078】
次いで、光学顕微鏡に使用される無機ガラスプレート(スライド)にこれらの溶液を塗布したが、この無機ガラスプレート(スライド)は、クロム酸溶液中に浸漬することにより、予め洗浄された後、脱塩水で洗い乾燥させたものである。このように調製されたガラスプレートを、その後、活性物質を0.1%含有する水性溶液中に室温で1時間浸漬させた後、クルス(KRUSS)表面張力計を使用して0.5mm/分で垂直に引き出し、最後に60℃のオーブン中で1時間乾燥させた。
【0079】
次いで、このような方法で処理されたガラスプレートの耐オイル性、および洗浄性を評価した。
【0080】
次の試験を使用して、本発明に従って処理された基材の性能を評価した。
【0081】
(耐オイル性(疎油特性))
耐オイル性は、処理済み基材上に堆積したパラフィン油、ドデカン、およびテトラデカンの液滴の接触角を測定することにより特性評価される。比較の測定は、未処理のガラスプレート上で実施される。角度は、ERMA G1型のゴニオメータを使用して測定される。
【0082】
マイクロメータスクリューで制御されるシリンジを使用して、小容積の油滴(〜1.5μl)を処理済み基材上に堆積させる。基材は、水平位置が気泡水準によって制御されるプラテン上で水平に維持される。角度は、基材上の液滴の接触点に対する2つの正接で測定される。少なくとも4滴についてこれら2つの角度の平均を計算する。
【0083】
(自己洗浄、または洗浄性試験)
自己洗浄特性は、標準AATCC 22−1989に記載されている、いわゆる「噴霧試験」の変形を使用して決定される。それは、汚された本発明の基材を、45℃に傾斜した支持体に取り付けた後、約20cmの高さから約5秒間にわたり、散水ポンプを備えた漏斗から水を50ml注ぐことである。
【0084】
本発明の溶液、および比較例の溶液で処理することにより得られる基材を、オルガノール(organol)タイプの染料を使用して赤色に着色したパラフィン油を噴霧することにより、予め汚す。堆積物は、ほぼ30g/m2程度である。前述のようにサンプル上に水を滴下し、視覚的に検査する。着色した油のスポットの固着、並びに残留水滴の存在を記録する。
【0085】
結果を次の表に記載する。
【0086】
比較例1は、過フッ素化基、並びに、エステルおよびチオエーテル基も有するアルコキシシランである。これは、無極性液体と比較して測定された接触角から分かるように、強い疎油特性を有する。基材が着色された油を噴霧されるとすぐ、小さい油滴が現れるのを観察することができる。しかし、このタイプの処理は、単に水を流すことにより汚れを除去することができない。実際、不純物を含有する小液滴の乾燥におそらくは由来する小さい着色スポットが残る。
【0087】
比較例2は、親水基を有するが過フッ素化基を有していない化合物に関する。測定された小さい接触角から、この化合物が親油性であることが分かる。基材は、液滴を形成することなくパラフィン油によって濡れることが実際に観察される。更に、基材は親水性の性質を有する。しかし、水を流した後、着色した跡を観察することができるため、この特性は十分ではない。
【0088】
未処理のガラスについての試験は、親油特性および疎水特性を有する基材の不十分な性質を示す。
【0089】
【表1】
【0090】
対照的に、本発明の組成物で処理された基材は、非常に満足のいく結果を示す、即ち、着色したパラフィン油スポット、および、後で基材上に汚れが現れることを助長する可能性のある小水滴もほとんど存在しないことが明瞭に分かる。
【0091】
従って、本発明の組成物は、単に水を流すことにより汚れを除去する、効果的な汚れ防止処理を基材に提供する。
Claims (22)
- 式(I)、
(I)Rf−B−Ro−Z
(式中、Rfは、1〜20個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖を有する過フッ素化アルキル基を表し、
Bは、酸素、硫黄、および/または窒素原子を1〜3個含むことができる二価の基を表し、
Roは、炭素原子を介してB基に結合される1〜100、好ましくは5〜20のオキシアルキレン基を表し、および
Zは、水素原子であるか、またはBがヒドロキシル基を有する場合、1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖アルキル基である)の化合物、
および、式(II)、
Rは、それぞれ互いに独立して、1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐アルキル基を表し、
pは、0〜2の整数であり、
Aは、それぞれ互いに独立して、ハロゲン、または1〜6個の炭素原子を含むアルコキシ基を表し、および
Yは、イソシアネート、エポキシ、カルボン酸、またはアルコール官能基を含む基を表し、また、Yは、mがゼロでない場合、Si(Rp)(A)3−pを表し、mがゼロの場合、A基を表すことができる)の化合物
および/または、これらの反応生成物を含むことを特徴とする組成物。 - 式(I)中のRfが6〜16個の炭素原子を含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 式(I)中のRoが、5〜20のオキシアルキレン基、好ましくはオキシエチレンまたはオキシプロピレン基を表すことを特徴とする請求項1または2に記載の組成物。
- 式(II)中のmが、0〜3の数であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 式(II)中のYが、イソシアネートまたはエポキシ官能基を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- 式(II)中のAが、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、および/またはイソプロピルオキシ基を表すことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
- pが0であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の組成物。
- 式(I)および(II)の化合物、および/またはこれらの反応生成物を1〜50重量%、特に10〜40重量%含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物。
- 水、アルコール、およびこれらの混合物の中から選択される溶媒を更に含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の組成物。
- 活性物質を0.05〜5重量%、特に0.1〜2重量%含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の組成物。
- 水性エマルジョンの形態であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の組成物。
- (a)式(I)の化合物、および式(II)の化合物を適切な無水溶媒中に溶解させる工程
を含むことを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物を調製する方法。 - 次の追加の工程、
(b)水、アルコール、またはこれらの混合物の中から選択される溶媒を添加する工程
を含むことを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 次の追加の工程、
(c)必要に応じて、界面活性剤または水溶性ポリマーの存在下で、工程(b)で得られた溶液を乳化する工程、および、必要に応じて
(d)前記無水溶媒を分離する工程
を含むことを特徴とする請求項12または13に記載の方法。 - Qが、カルバメートまたはエーテル官能基であることを特徴とする請求項15に記載の化合物。
- 必要に応じて触媒の存在下で、式(I)の化合物中のアルコール官能基と、式(II)の化合物中のY基との反応により、式(III)の化合物を調製する方法。
- 次の工程、
(i)請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物を、存在するアルコキシシランまたはハロゲノシラン基のための加水分解剤の存在下で、処理される基材に塗布する工程
を含むことを特徴とする表面処理方法。 - 追加の工程、
(ii)工程(i)で得られた基材を50〜200℃の温度で、1秒〜24時間の時間、熱処理する工程
を含むことを特徴とする請求項18に記載の方法。 - 前記加水分解剤が水であることを特徴とする請求項18または19に記載の方法。
- 請求項18〜20のいずれか一項に記載の方法によって得られることを特徴とする処理済み基材。
- 前記基材が、ガラス、ポリメチルメタクリレート、およびポリカーボネートの中から選択されることを特徴とする請求項21に記載の処理済み基材。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50135011A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-10-25 | ||
JPS60190727A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-28 | Daikin Ind Ltd | 含フツ素有機シラン化合物およびその製法と用途 |
JPH02252787A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-11 | Daikin Ind Ltd | 防汚性撥水撥油剤組成物 |
JPH0720411A (ja) * | 1993-07-03 | 1995-01-24 | Sofuto 99 Corp:Kk | めがねレンズの防曇剤 |
JPH09241622A (ja) * | 1996-03-06 | 1997-09-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 防汚加工剤組成物 |
JPH10180937A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-07-07 | Asahi Glass Co Ltd | 表面処理された基材とその製造方法 |
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---|---|---|---|---|
US3012006A (en) * | 1958-04-24 | 1961-12-05 | Dow Corning | Fluorinated alkyl silanes and their use |
DE1232959B (de) * | 1964-09-12 | 1967-01-26 | Walter Bloechl | Verfahren zur Herstellung eines aus waessriger Loesung anwendbaren Impraegniermittels |
US3422131A (en) * | 1966-02-10 | 1969-01-14 | Us Agriculture | Fluoroalkoxyalkyl silanes |
US3442664A (en) * | 1966-04-26 | 1969-05-06 | Minnesota Mining & Mfg | Treating composition,method of treating and treated surfaces |
US4089882A (en) * | 1974-03-22 | 1978-05-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of preparing fluoroalkyl-containing organosilanes |
JPS521926B2 (ja) * | 1974-03-25 | 1977-01-19 | ||
US4525425A (en) * | 1981-05-11 | 1985-06-25 | El-Chem Corporation | Water and oil repellent metal oxide-organic combination coating systems and method of making same |
EP0166363B1 (en) * | 1984-06-26 | 1991-08-07 | Asahi Glass Company Ltd. | Low reflectance transparent material having antisoiling properties |
US4549003A (en) * | 1984-10-26 | 1985-10-22 | Dow Corning Corporation | Method for preparing novel fluorinated organosiloxane copolymers |
US4689181A (en) * | 1985-12-27 | 1987-08-25 | Dow Corning Corporation | Fluorine-containing organosilanes useful as magnetic media lubricants |
US4648904A (en) * | 1986-02-14 | 1987-03-10 | Scm Corporation | Aqueous systems containing silanes for rendering masonry surfaces water repellant |
US5011963A (en) * | 1988-02-09 | 1991-04-30 | Matsushita Electric Ind., Co., Ltd. | Terminal perfluoroalkylsilane compounds |
US4990377A (en) * | 1988-05-02 | 1991-02-05 | Pcr Group, Inc. | Buffered silane emulsions having low volatile organic compounds when cured |
US4877654A (en) * | 1988-05-02 | 1989-10-31 | Pcr, Inc. | Buffered silane emulsions for rendering porous substrates water repellent |
US5059649A (en) * | 1989-11-08 | 1991-10-22 | Dow Corning Corporation | Storage stable one-part fluorosilicone gel compositions exhibiting improved thermal stability |
US4983459A (en) * | 1990-04-03 | 1991-01-08 | Ppg Industries, Inc. | Chemically reacted glass surface |
US5051129A (en) * | 1990-06-25 | 1991-09-24 | Dow Corning Corporation | Masonry water repellent composition |
US5124467A (en) * | 1990-07-20 | 1992-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Perfluoroalkypolyoxyalkylpolysiloxane surfactants |
US5274159A (en) * | 1993-02-18 | 1993-12-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Destructable fluorinated alkoxysilane surfactants and repellent coatings derived therefrom |
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JP2000328230A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-28 | Toray Ind Inc | 有機膜の成膜法 |
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JPH0720411A (ja) * | 1993-07-03 | 1995-01-24 | Sofuto 99 Corp:Kk | めがねレンズの防曇剤 |
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