CN107531732B - 表面处理剂 - Google Patents

表面处理剂 Download PDF

Info

Publication number
CN107531732B
CN107531732B CN201680026736.3A CN201680026736A CN107531732B CN 107531732 B CN107531732 B CN 107531732B CN 201680026736 A CN201680026736 A CN 201680026736A CN 107531732 B CN107531732 B CN 107531732B
Authority
CN
China
Prior art keywords
independently
formula
group
integer
occurrence
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201680026736.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107531732A (zh
Inventor
本多义昭
森安礼奈
胜间希望
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Publication of CN107531732A publication Critical patent/CN107531732A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107531732B publication Critical patent/CN107531732B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/71—Monoisocyanates or monoisothiocyanates
    • C08G18/718—Monoisocyanates or monoisothiocyanates containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
    • C03C17/322—Polyurethanes or polyisocyanates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08—Processes
    • C08G18/16—Catalysts
    • C08G18/22—Catalysts containing metal compounds
    • C08G18/24—Catalysts containing metal compounds of tin
    • C08G18/244—Catalysts containing metal compounds of tin tin salts of carboxylic acids
    • C08G18/246—Catalysts containing metal compounds of tin tin salts of carboxylic acids containing also tin-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48—Polyethers
    • C08G18/4854—Polyethers containing oxyalkylene groups having four carbon atoms in the alkylene group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/74—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic
    • C08G18/75—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic
    • C08G18/751—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring
    • C08G18/752—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group
    • C08G18/753—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group containing one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group having a primary carbon atom next to the isocyanate or isothiocyanate group
    • C08G18/755—Polyisocyanates or polyisothiocyanates cyclic cycloaliphatic containing only one cycloaliphatic ring containing at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group containing one isocyanate or isothiocyanate group linked to the cycloaliphatic ring by means of an aliphatic group having a primary carbon atom next to the isocyanate or isothiocyanate group and at least one isocyanate or isothiocyanate group linked to a secondary carbon atom of the cycloaliphatic ring, e.g. isophorone diisocyanate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C09D175/08—Polyurethanes from polyethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
    • C09D183/12—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films

Abstract

本发明提供下述通式(A1)或(A2)所示的化合物。R1－(PE1－Y)n－PE2－X－(SiRa kRb lRc m)α···(A1)(Rc mRb lRa kSi)α－X－(PE1－Y)n－PE2－X－(SiRa kRb lRc m)α···(A2)[式中，各记号的意义与说明书中的记载相同]。

Description

表面处理剂
技术领域
本发明涉及含(聚)醚基的硅烷化合物、以及含有该化合物的表 面处理剂。
背景技术
已知某些种类的硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优 异的功能(例如拨水性、拨油性、防污性)等。由含有硅烷化合物的 表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)，作为所谓的功 能性薄膜，应用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基 材。
作为这样的硅烷化合物，已知含氟硅烷化合物。具体而言，在专 利文献1和2中记载了在分子末端具有与Si原子结合的能够水解的基 团的含全氟聚醚基的硅烷化合物。
另外，作为其他的硅烷化合物，已知含聚醚基的硅烷化合物。具 体而言，在专利文献3和4中记载了在分子末端具有与Si原子结合的 能够水解的基团的含聚醚基的硅烷化合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第97/07155号
专利文献2：日本特表2008－534696号公报
专利文献3：日本特开2013－60354号
专利文献4：日本特开2014－65827号
发明内容
发明所要解决的课题
由专利文献1～4所记载的那样的表面处理剂得到的表面处理层， 即使为薄膜也能够发挥如上所述的功能，因此适合用于需要透光性或 透明性的眼镜、或触摸面板等光学部件。在这样的用途中，指纹的附 着成为问题。
由含有如专利文献1和2所记载的那样的含全氟聚醚基的硅烷化 合物的表面处理剂得到的层具有优异的拨水拨油性，指纹不易附着。 然而，在由含有含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层中， 虽然指纹的附着量少，但在附着了指纹的情况下，由于其优异的拨水 拨油性、即高的接触角，所以存在附着的皮脂散射光、指纹变得明显 的问题。
由含有如专利文献1和2所记载的那样的含聚醚的硅烷化合物的 表面处理剂得到的层由于亲油性高，附着的皮脂渗入层中，所以即使 在附着了指纹的情况下，也不易变得明显。然而，由含有如专利文献1 和2所记载的那样的含聚醚的硅烷化合物的表面处理剂得到的层，存 在即使将附着的指纹擦去，皮脂的痕迹仍然残留的问题。
本发明的目的在于提供一种能够形成附着的指纹的视认性低、且 附着的指纹的痕迹容易消除的层的硅烷化合物、以及含有该化合物的 表面处理剂。
用于解决课题的方法
本发明的发明人经过深入研究，结果发现，通过在含(聚)醚基 的硅烷化合物中的(聚)醚基中包含CH2CH2CH2CH2O单元，能够得 到可提供附着的指纹的视认性低、且附着的指纹的痕迹容易消除的表 面处理层的化合物，从而完成了本发明。
即，根据本发明的第一要点，提供下述通式(A1)或(A2)所示 的化合物：
R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α…(A1
(Rc mRb lRa kSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α
…(A2)
[式中：
R1表示OR4；
R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；
PE1在每次出现时分别独立地为下式所示的基团：
－(CaH2aO)b－
(式中：
a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整 数；
其中，在式(A1)或(A2)中，在至少1个单元中a为4；
a为4的－(C4H8O)－单元为－(CH2CH2CH2CH2O)－；
b在每次出现时分别独立地为1～200的整数)；
Y在每次出现时分别独立地表示单键或－CONH－R5－NHCOO －；
R5在每次出现时分别独立地表示二价的有机基团；
n为1～50的整数；
PE2表示单键或上述－(CaH2aO)b－基；
X分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；
Ra在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR71 pR72 qR73 r；
Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；
R71在每次出现时分别独立地表示Ra′；
Ra′的意义与Ra相同；
Ra中，经由Z基以直链状连结的Si最多为5个；
R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；
R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；
p在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
在1个Ra中，p、q与r之和为3；
Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；
Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基；
k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
m在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
在标注α且用括号括起来的单元中，k、l与m之和为3；
α分别独立地为1～9的整数；
其中，式中至少存在1个R72或Rb]。
根据本发明的第二要点，提供含有上述式(A1)或式(A2)所示 的至少1种化合物的表面处理剂。
根据本发明的第三要点，提供包括基材、和在该基材的表面由上 述表面处理剂形成的层的物品。
发明的效果
根据本发明，提供一种新型的含(聚)醚基的硅烷化合物以及含 有该化合物的表面处理剂。通过使用该表面处理剂，能够形成即使在 附着了指纹的情况下指纹的视认性也低、指纹的痕迹容易消除的表面 处理层。
具体实施方式
以下，对本发明的化合物进行说明。
在本说明书中使用时，“烃基”意指含有碳和氢的基团，是从烃脱 离了1个氢原子而得到的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可 以列举可以被1个或1个以上的取代基取代的、碳原子数1～20的烃 基、例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”为直链状、 支链状或环状的任一种均可，饱和或不饱和的任一种均可。另外，烃 基可以包含1个或1个以上的环结构。此外，这样的烃基在其末端或 分子链中可以具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺、磺酰基、 硅氧烷、羰基、羰氧基等。
在本说明书中使用时，作为“烃基”的取代基，没有特别限定， 例如可以列举选自：卤原子；可以被1个或1个以上的卤原子取代的、 C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、 5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。
在本说明书中使用时，“2～10价的有机基团”意指含碳的2～10 价的基团。作为这样的2～10价的有机基团，没有特别限定，可以列 举从烃基再脱离1～9个氢原子而得到的2～10价的基团。例如，作为 2价的有机基团，没有特别限定，可以列举从烃基再脱离1个氢原子而 得到的2价的基团。
本发明提供下述通式(A1)或(A2)所示的至少1种含(聚)醚 基的硅烷化合物。
R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α…(A1
(Rc mRb lRa kSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α
…(A2)
上述式(A1)或(A2)中，R1表示OR4。
R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基。该碳原子数1～20的烷 基既可以为直链，也可以为支链，优选为直链。碳原子数1～20的烷 基优选为碳原子数1～10的烷基，更优选为碳原子数1～6的烷基。具 体而言，碳原子数1～20的烷基优选为甲基、乙基或正丙基，更优选 为甲基。R4优选为氢原子或甲基，更优选为氢原子。
上述式(A1)或(A2)中，PE1在每次出现时分别独立地为下述 式所示的基团：
-(CaH2aO)b-
(式中：
a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整 数，优选为2～4的整数；
b在每次出现时分别独立地为1～200的整数，优选为5～200的整 数，更优选为5～100的整数，进一步优选为5～50的整数)。
上述式(A1)或(A2)中，PE2在每次出现时分别独立地为单键、 或下述式所示的基团：
-(CaH2aO)b-
(式中，a和b的意义同上)。
式(A1)或(A2)中，在至少1个-(CaH2aO)-单元中a为4。 即，式(A1)或(A2)包含至少1个-C4H8O-基团。另外，式(A1) 或(A2)中，a为4的-(C4H8O)-单元为-(CH2CH2CH2CH2O) -(四亚甲基氧基)。通过包含--CH2CH2CH2CH2O-基，本发明的 化合物能够提供指纹的视认性低、并且指纹的痕迹容易消除的表面处 理层。
在优选的方式中，PE1和PE2中的－(CaH2aO)b－在每次出现时 分别独立地为下式所示的基团：
－(C4H8O)c－(C3H6O)d－(C2H4O)e－
(式中：
c、d和e在每次出现时分别独立地为0～200的整数，例如为1～ 200的整数，优选为5～200的整数，更优选为5～100的整数，进一步 优选为5～50的整数；
c、d与e之和为1～200，优选为5～200，更优选为5～100，进 一步优选为5～50；
标注下标c、d或e且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式 中是任意的)。
在上述的方式中，(C4H8O)单元数、(C3H6O)单元数与(C2H4O) 单元数之比没有特别限定。在优选的方式中，(C3H6O)单元数和 (C2H4O)单元数分别可以为(C4H8O)单元数的100％以下，优选为 80％以下，更优选为50％以下，进一步优选为30％以下。
在一个方式中，PE1和PE2中的－(CaH2aO)b－在每次出现时分 别独立地为下式所示的基团：
－(C4H8O)c－(C3H6O)d－
(式中：
c和d在每次出现时分别独立地为0～200的整数，例如为1～200 的整数，优选为5～200的整数，更优选为5～100的整数，进一步优 选为5～50的整数；
c与d之和为1～200，优选为5～200，更优选为5～100，进一步 优选为5～50；
标注下标c或d且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中 是任意的)。
在上述的方式中，(C4H8O)单元数与(C3H6O)单元数之比没有 特别限定。在优选的方式中，(C3H6O)单元数可以为(C4H8O)单元 数的100％以下，优选为80％以下，更优选为50％以下，进一步优选 为30％以下。
在另一个方式中，PE1和PE2在每次出现时分别独立地为选自：
－(C4H8O)c－－(C3H6O)d－、和
－(C2H4O)e－中的基团，
(式中，c、d和e分别独立地为1～200的整数，优选为5～200 的整数，更优选为5～100的整数，进一步优选为5～50的整数)。即， 在该方式中，PE1和PE2分别独立地为－(C4H8O)c－、－(C3H6O)d－或－(C2H4O)e－所示的均聚物单元。在该方式中，式(A1)或(A2)中，至少存在1个－(C4H8O)c－均聚物单元。另外，式(A1)或(A2) 中，除了存在－(C4H8O)c－均聚物单元以外，还可以存在另外的2 种，也可以仅存在另外的1种。
在上述的方式中，各均聚物单元的存在比率没有特别限定，优选 －(C3H6O)d－均聚物单元数和－(C2H4O)e－均聚物单元数分别为 －(C4H8O)c－均聚物单元数的80％以下，优选为50％以下，更优选 为30％以下。
在优选的方式中，PE1和PE2在每次出现时分别独立地为选自：
－(C4H8O)c－、和
－(C3H6O)d－中的基团，
(式中，c和d分别独立地为1～200的整数，优选为5～200的整 数，更优选为5～100的整数，进一步优选为5～50的整数)。在该方 式中，式(A1)或(A2)中，包含至少1个－(C4H8O)c－均聚物单 元。
在上述的方式中，各均聚物单元的存在比率没有特别限定，优选 －(C3H6O)d－均聚物单元数为－(C4H8O)c－均聚物单元数的80％ 以下，优选为50％以下，更优选为30％以下。
在更优选的方式中，PE1和PE2在每次出现时分别独立地为下式所 示的基团：
－(C4H8O)c－
(式中，c为1～200的整数，优选为5～200的整数，更优选为5～ 100的整数，进一步优选为5～50的整数)。即，在该方式中，PE1和 PE2仅由－C4H8O－单元构成。
上述聚醚的重复单元中，如上所述，－(C4H8O)－为直链，即为 －(CH2CH2CH2CH2O)－。－(C3H6O)－为－(CH2CH2CH2O)－、 －(CH(CH3)CH2O)－和－(CH2CH(CH3)O)－中的任一种均 可，优选为－(CH2CH(CH3)O)－。另外，－(C2H4O)－为－(CH2CH2O) －和－(CH(CH3)O)－中的任一种均可，优选为－(CH2CH2O) -。
上述式(A1)或(A2)中，Y在每次出现时分别独立地表示单键 或－CONH－R5－NHCOO－。
上述R5在每次出现时分别独立地表示二价的有机基团。
R5优选为可以具有取代基的、碳原子数1～20的二价的脂肪族烃 基或碳原子数3～20的二价的芳香族烃基、或者它们的组合。上述脂 肪族烃基为直链状、支链状或环状的任一种均可。在一个方式中，R5可以为可以具有取代基的、碳原子数1～20的亚烷基、碳原子数3～20 的亚环烷基或碳原子数3～20的亚芳基、或者它们的组合。作为上述 取代基，优选列举碳原子数为1～6个的烷基。
在一个方式中，R5可以为下述式所示的基团。
－(CH2)x′－(式中，x′为1～6的整数，例如为1～4的整数)；
Figure BDA0001460909420000081
(式中，x和y分别独立地为0～6的整数，例如为0～3或1～3 的整数；
z为0～10的整数，例如为0～4或1～4的整数)；
Figure BDA0001460909420000082
(式中，x和y分别独立地为0～6的整数，例如为0～3或1～3 的整数；
z为0～4的整数，例如为0～3或1～3的整数)。
其中，在x或y为0的情况下，－(CH2)x－或－(CH2)y－分 别表示单键(价键)。
上述式(A1)或(A2)中，n为1～50的整数，优选为1～30的 整数，例如为5～30的整数或10～20的整数。
上述式(A1)或(A2)中，X分别独立地表示单键或2～10价的 有机基团。该X可以被理解为在式(A1)和(A2)所示的化合物中， 将主要提供表面功能的聚醚部(即，R1－(PE1－Y)n－PE2－部或－ (PE1－Y)n－PE2－部)和提供与基材的结合能力的硅烷部(即，标 注α且用括号括起来的基团)连结的连接部。因此，只要式(A1)和 (A2)所示的化合物能够稳定存在，则该X可以为任意的有机基团。
上述式中，α为1～9的整数。这些α可以对应于X的价数而变化。 在式(A1)和(A2)中，α为从X的价数中减去1后的值。例如，在 X为10价的有机基团的情况下，α为9；在X为5价的有机基团的情 况下，α为4；在X为2价的有机基团的情况下，α为1。
上述X优选为2～7价、例如2～4价或2价的有机基团。
在一个方式中，X可以为下述X1a。
作为上述X1a的例子，没有特别限定，例如，可以列举下述式：
－(R30)r′－[(R31)p′－(Xa)q′]－所示的2价的基团，
[式中：
R30为－CONH－或－CO－，优选为－CONH－；
r′为0或1，
R31表示单键、－(CH2)s′－或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基， 优选为－(CH2)s′－，
s′为1～20的整数，优选为1～6的整数，更优选为1～3的整数， 进一步优选为1或2，
Xa表示－(Xb)l′－，
Xb在每次出现时分别独立地表示选自－O－、－S－、邻亚苯基、 间亚苯基或对亚苯基、－C(O)O－、－Si(R33)2－、－(Si(R33) 2O)m′－Si(R33)2－、－CONR34－、－O－CONR34－、－NR34－和－ (CH2)n′－中的基团，
R33在每次出现时分别独立地表示苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基， 优选为苯基或C1－6烷基，更优选为甲基，
R34在每次出现时分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基(优选 为甲基)，
m′在每次出现时分别独立地为1～100的整数，优选为1～20的整 数，
n′在每次出现时分别独立地为1～20的整数，优选为1～6的整数， 更优选为1～3的整数，
l′为1～10的整数，优选为1～5的整数，更优选为1～3的整数，
p′为0或1，
q′为0或1，
其中，p′和q′的至少一方为1，[(R31)p′－(Xa)q′]中，标注p′ 或q′且用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的]。
其中，R31和Xa(典型地为R31和Xa的氢原子)可以被选自C1－3烷基中的1个或1个以上的取代基取代。
优选上述X1a为－(R30)r′－(R31)p′－(Xa)q′－R32－。R32表示 单键、－(CH2)t′－、或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为 －(CH2)t′－。t′为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～ 3的整数。其中，R32(典型地为R32的氢原子)可以被选自C1－3烷基 中的1个或1个以上的取代基取代。
优选上述X1a为：
－R30－C1－20亚烷基、
－R30－R31－Xc－R32－、
－R30－Xd－R32－、
C1－20亚烷基、
－R31－Xc－R32－、或
－Xd－R32－
[式中，R30、R31和R32的意义同上]。
更优选上述X1a为：
－R30－C1－20亚烷基、
－R30－(CH2)s′－Xc－、
－R30－(CH2)s′－Xc－(CH2)t′－
－R30－Xd－、
－R30－Xd－(CH2)t′－、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s′－Xc－、
－(CH2)s′－Xc－(CH2)t′－
－Xd－、或
－Xd－(CH2)t′－
[式中，R30、s′和t′的意义同上]。
上述式中，Xc表示：
－O－、
－S－、
－C(O)O－、
－CONR34－、
－O－CONR34－、
－Si(R33)2－、
－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－、
－O－(CH2)u′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－、
－O－(CH2)u′－Si(R33)2－O－Si(R33)2－CH2CH2－Si(R33)2－ O－Si(R33)2－、
－O－(CH2)u′－Si(OCH3)2OSi(OCH3)2－、
－CONR34－(CH2)u′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－、
－CONR34－(CH2)u′－N(R34)－、或
－CONR34－(邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基)－Si(R33)2－
[式中，R33、R34和m′的意义同上，
u′为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数]。
Xc优选为－O－。
上述式中，Xd表示：
－S－、
－C(O)O－、
－CONR34－、
－CONR34－(CH2)u′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－、
－CONR34－(CH2)u′－N(R34)－、或
－CONR34－(邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基)－Si(R33)2－
[式中，各记号的意义同上]。
更优选上述X1a为：
－R30－C1－20亚烷基、
－R30－(CH2)s′－Xc－(CH2)t′－、
－R30－Xd－(CH2)t′－、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s′－Xc－(CH2)t′－、或
－Xd－(CH2)t′－
[式中，各记号的意义同上]。
进一步优选上述X1a为：
－R30－C1－20亚烷基、
－R30－(CH2)s′－O－(CH2)t′－、
－R30－(CH2)s′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－(CH2)t′－、
－R30－(CH2)s′－O－(CH2)u′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－(CH2) t′-、
－R30－(CH2)s′－O－(CH2)t′－Si(R33)2－(CH2)u′－Si(R33) 2－(CvH2v)－、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s′－O－(CH2)t′－、
－(CH2)s′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－(CH2)t′－、
－(CH2)s′－O－(CH2)u′－(Si(R33)2O)m′－Si(R33)2－(CH2) t′－、或
－(CH2)s′－O－(CH2)t′－Si(R33)2－(CH2)u′－Si(R33)2－(CvH2v) －
[式中，－R30、R33、m′、s′、t′和u′的意义同上，v为1～20的整 数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数]。
上述式中，－(CvH2v)－既可以为直链，也可以为支链，例如可 以为－CH2CH2－、－CH2CH2CH2－、－CH(CH3)－、－CH(CH3) CH2－。
上述X1a基可以被选自C1－3烷基中的1个或1个以上的取代基取 代。
在其他方式中，作为X1a基，例如可以列举下列基团：
Figure BDA0001460909420000131
Figure BDA0001460909420000141
[式中，R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基 或C1－6烷氧基，优选为甲基；
D为选自：
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CF2O(CH2)3－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－CONH－(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3－、
－CONH－(CH2)4－、
－CO－(CH2)2－、
－CO－(CH2)3－、
－CO－(CH2)4－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(Ph)－(CH2)3－(式中，Ph表示苯基)、和
Figure BDA0001460909420000151
(式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优 选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基)中的基团，
E为－(CH2)n－(n为2～6的整数)，
D与分子主链的PE2结合，E与Si原子结合。]
作为上述X1a的具体例，例如可以列举：
－CONH－(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3－、
－CONH－(CH2)4－、
－CO－(CH2)2－、
－CO－(CH2)3－、
－CO－(CH2)4－、
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CH2O(CH2)6－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2 -、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2 -、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2 -、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2 -、
－CH2OCF2CHFOCF2－、
－CH2OCF2CHFOCF2CF2－、
－CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3) 2OSi(OCH3)2(CH2)2－、
－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－(CH2)6－、
－CONH－(CH2)3－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(Ph)－(CH2)3－(式中，Ph表示苯基)、
－CONH－(CH2)6－、
－CON(CH3)－(CH2)6－、
－CON(Ph)－(CH2)6－(式中，Ph表示苯基)、
－CONH－(CH2)2NH(CH2)3－、
－CONH－(CH2)6NH(CH2)3－、
－CH2O－CONH－(CH2)3－、
－CH2O－CONH－(CH2)6－、
－S－(CH2)3－、
－(CH2)2S(CH2)3－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2) 2-、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2) 2-、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2) 2-、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2) 2-
－C(O)O－(CH2)3－、
－C(O)O－(CH2)6－、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2) 2-、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3) -、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2) 3-、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3) －CH2－、
Figure BDA0001460909420000171
等。
在其他的方式中，X可以为X1b。作为X1b基的例子，可以列举下 列基团：
Figure BDA0001460909420000181
[式中，
R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C1－6烷 氧基，优选为甲基；
在各X1b基中，T中的任意几个为与分子主链的PE2结合的以下基 团：
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CF2O(CH2)3－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－CONH－(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3－、
－CONH－(CH2)4－、
－CO－(CH2)2－、
－CO－(CH2)3－、
－CO－(CH2)4－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(Ph)－(CH2)3－(式中，Ph表示苯基)、或
Figure BDA0001460909420000191
[式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优 选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基]，另外的T的几个为与Si原 子结合的－(CH2)n″－(n″为2～6的整数)，在存在的情况下，剩余 的分别独立地为甲基、苯基或C1－6烷氧基。
在该方式中，X1b可以为3～10价的有机基团。在该方式中，作为 与基材的结合部位的硅烷部位(SiRa kRb lRc m)可以存在2个以上。通过 形成这样的结构，能够提高表面处理层的摩擦耐久性。
在另外的方式中，X可以为下述X2。
X2为－CONH－R61－R62(R61－NHCO－R63)β－1所示的基团，
[式中：
R61分别独立地表示二价的烃基；
R62表示β价的有机基团；
β为2～6的整数；
R63表示－O－R67(OR68)s(O－X1a－)t；
R67表示γ价的有机基团；
γ为2～8的整数；
R68为氢原子或碳原子数1～6的烷基；
X1a为二价的有机基团，意义与上述X1a相同；
s为0～6的整数；
t为1～7的整数；
s与t之和为γ－1]。
上述R61分别独立地优选为可以具有取代基的碳原子数1～10的亚 烷基、碳原子数3～10的亚环烷基或碳原子数3～10的亚芳基，更优 选为可以具有取代基的碳原子数1～10的亚烷基，例如为碳原子数3～ 8的亚烷基。
R62优选为可以具有取代基的2～6价的脂肪族烃基、脂环式烃基、 脂肪族杂环基、芳香族基团或芳香族杂环基。
在一个方式中，β为3～6，即R62为3～6价。在该方式中，作为 与基材的结合部位的具有能够水解的基团的硅烷部位(SiRa kRb lRc m)可 以存在2个以上。通过形成这样的结构，能够提高表面处理层的摩擦 耐久性。
上述X2中，除R63外的部分(即－CONH－R61－R62(R61－NHCO －)β－1)可以理解为多官能异氰酸酯残基，例如具有以下的结构。
Figure BDA0001460909420000211
R67优选为可以具有取代基的2～8价的脂肪族烃基、脂环式烃基、 脂肪族杂环基、芳香族基团或芳香族杂环基。
在一个方式中，γ为3～8，即R67为3～8价。在该方式中，作为 与基材的结合部位的具有能够水解的基团的硅烷部位(SiRa kRb lRc m)可 以存在2个以上。通过形成这样的结构，能够提高表面处理层的摩擦 耐久性。
上述R63中，除X1a外的部分(即－O－R67(OR68)s(O－)t)可 以理解为多元醇残基，例如具有以下的结构。
Figure BDA0001460909420000221
R68为氢原子或碳原子数1～6的烷基，例如为甲基或乙基，优选 为氢原子。
s为0～6的整数，优选为0～3的整数，更优选为0或1，进一步 优选为0。
在一个方式中，X2为下述式所示的基团：
Figure BDA0001460909420000222
[式中，R61、R67、X1和t的意义同上]。
在该方式中，R61优选为可以具有取代基的碳原子数1～8的亚烷 基、碳原子数5～8的亚环烷基或亚苯基。作为上述取代基，优选为碳 原子数1～6的烷基，更优选为甲基或乙基，进一步优选为甲基。
在该方式中，R67可以为2～6价、优选2～4价、更优选2价或3 价的碳原子数2～6的烃链。优选R67为下列基团。
Figure BDA0001460909420000231
[式中，标注＊的价键与异氰脲酸酯环侧结合。]
在该方式中，X1优选为碳原子数1～8的亚烷基，更优选为碳原子 数2～6的亚烷基。
在一个方式中，X分别独立地表示3～10价的有机基团，α分别独 立地为2～9的整数。在该方式中，优选标注α且用括号括起来的单元 均包含结合了羟基或能够水解的基团的Si原子。通过形成这样的结构， 能够提高表面处理层的摩擦耐久性。
上述式中，Ra在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR71 pR72 qR73 r。
式中，Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团。
上述Z优选为C1－6亚烷基、－(CH2)g－O－(CH2)h－(式中， g为1～6的整数，h为1～6的整数)或－亚苯基－(CH2)i－(式中， i为0～6的整数)，更优选为C1－3亚烷基。这些基团可以被例如选自氟 原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基 取代。
式中，R71在每次出现时分别独立地表示Ra′。Ra′的意义与Ra相同。
Ra中，经由Z基以直链状连结的Si最多为5个。即，在上述Ra中，在存在至少1个R71的情况下，Ra中经由Z基以直链状连结的Si 原子存在2个以上，但经由该Z基以直链状连结的Si原子的数目最多 为5个。其中，“Ra中经由Z基以直链状连结的Si原子的数目”与Ra中以直链状连结的－Z－Si－的重复数相等。
例如，下面表示Ra中Si原子经由Z基连结的一例。
Figure BDA0001460909420000241
在上述式中，＊表示与主链的Si结合的部位，…表示结合有ZSi 以外的规定的基团，即在Si原子的3条价键均为…的情况下，表示ZSi 的重复的结束部位。另外，Si的右上角的数字表示从＊数起经由Z基 以直链状连结的Si的出现数。即，ZSi重复以Si2结束的链的“Ra中经 由Z基以直链状连结的Si原子的数目”为2个，同样，ZSi重复以Si3、 Si4和Si5结束的链各自的“Ra中经由Z基以直链状连结的Si原子的数 目”为3、4和5个。此外，由上述式可知，Ra中存在多个ZSi链，但 它们不需要均为相同长度，可以分别为任意的长度。
在优选的方式中，如下所述，“Ra中经由Z基以直链状连结的Si 原子的数目”在所有的链中为1个(左式)或2个(右式)。
Figure BDA0001460909420000251
在一个方式中，Ra中经由Z基以直链状连结的Si原子的数目为1 个或2个，优选为1个。
式中，R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团。
在本说明书中使用的情况下，上述“能够水解的基团”意指能够 接受水解反应的基团。作为能够水解的基团的例子，可以列举－OR、 －OCOR、－O－N＝C(R)2、－N(R)2、－NHR、卤素(在这些式 中，R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)等，优选为－OR (烷氧基)。R的例子包括甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁 基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优 选非取代烷基，更优选甲基或乙基。羟基没有特别限定，可以是能够 水解的基团水解而生成的羟基。
优选R72为－OR(式中，R表示取代或非取代的C1－3烷基，更优 选表示甲基)。
式中，R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基。该低 级烷基优选为碳原子数1～20的烷基，更优选为碳原子数1～6的烷基， 进一步优选为甲基。
式中，p在每次出现时分别独立地为0～3的整数；q在每次出现 时分别独立地为0～3的整数；r在每次出现时分别独立地为0～3的整 数。其中，p、q与r之和为3。
在优选的方式中，Ra中的末端的Ra′(在不存在Ra′的情况下为Ra) 中，上述q优选为2以上，例如为2或3，更优选为3。
上述式中，Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基 团。
上述“能够水解的基团”的意义与R72的记载相同，优选为－OR、 －OCOR、－O－N＝C(R)2、－N(R)2、－NHR、卤素(这些式中， R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)，优选为－OR。R包括： 甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基 等取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲 基或乙基。羟基没有特别限定，可以为能够水解的基团水解而生成的 羟基。更优选Rb为－OR(式中，R表示取代或非取代的C1－3烷基， 更优选表示甲基)。
上述式中，Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或低级烷基。 该低级烷基优选为碳原子数1～20的烷基，更优选为碳原子数1～6的 烷基，进一步优选为甲基。
式中，k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；l在每次出现时 分别独立地为0～3的整数；m在每次出现时分别独立地为0～3的整 数。其中，k、l与m之和为3。
在一个方式中，k为1～3。即，存在Ra。在该方式中，作为与基 材的结合部位的具有能够水解的基团的硅烷部位可以存在2个以上。 通过形成这样的结构，能够提高表面处理层的摩擦耐久性。
本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物的数均分子量优选为200以 上、更优选为500以上，优选为10,000以下、更优选为5,000以下、 进一步优选为2,000以下。通过具有这样的数均分子量，在基材上附着 的指纹的视认性降低，并且例如用布等擦拭附着的指纹能够容易地消 除。
本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物中的聚醚部(PE1基)的数均 分子量没有特别限定，优选为200以上、更优选为500以上，优选为 10,000以下、更优选为5,000以下、进一步优选为2,000以下。通过PE1具有这样的数均分子量，在基材上附着的指纹的视认性降低，并且通 过擦拭附着的指纹能够容易地降低指纹的视认性。
在本发明中，“数均分子量”通过GPC(凝胶渗透色谱)分析来测 定。
本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物具有优选－70℃以上、优选 40℃以下、更优选30℃以下、进一步优选20℃以下的玻璃化转变温度 (Tg)。通过具有这样的玻璃化转变温度，在基材上附着的指纹的视认 性降低，并且通过擦拭附着的指纹能够容易地降低指纹的视认性。
在本发明中，“玻璃化转变温度”通过差示扫描量热分析来测定。
式(A1)和式(A2)所示的含(聚)醚基的硅烷化合物能够通过 公知的方法制造。
例如，通过使对应于PE1和PE2的含聚醚基的二醇与对应于Y的 二异氰酸酯基反应，合成R1－(PE1－Y)n－PE2－H，然后使R1－(PE1－Y)n－PE2－H的末端的OH基与对应于－X－SiRa kRb lRc m的末端具 有异氰酸酯基的硅烷化合物反应来获得。
关于制造本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物时的反应条件，本 领域技术人员可以在优选的范围内适当调整。
接着，对本发明的表面处理剂进行说明。
本发明的表面处理剂含有式(A1)和式(A2)的任一式所示的至 少1种的含(聚)醚基的硅烷化合物。
本发明的表面处理剂没有特别限定，能够根据结构对基材赋予亲 水性、亲油性、防污性、表面滑动性、擦拭性或摩擦耐久性等。
特别是使用包含本发明的化合物的表面处理剂在基材上形成的表 面处理层的亲油性高。即，包含本发明的化合物的表面处理剂能够形 成对于正十六烷的接触角优选40°以下、更优选30°以下、进一步优选 25°以下、并且优选10°以上、更优选15°以上的表面处理层。因此，即 使在附着了指纹的情况下，由于接触角小，视认性低，指纹不明显。
另外，使用包含本发明的化合物的表面处理剂在基材上形成的表 面处理层的表面滑动性高。即，包含本发明的化合物的表面处理剂能 够形成动摩擦系数优选0.30以下、更优选0.25以下、进一步优选0.20 以下、更优选0.15以下、进一步优选0.10以下的表面处理层。
在一个方式中，本发明的表面处理剂含有式(A1)所示的至少1 种的含(聚)醚基的硅烷化合物。
本发明的表面处理剂可以利用溶剂稀释。作为这样的溶剂，没有 特别限定，能够使用各种通用溶剂。例如，作为本发明的表面处理剂 所含的溶剂，可以列举丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、丙二 醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙 二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚戊烷、己 烷、庚烷、辛烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、二硫化碳、 苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、二乙基醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲 醚、三甘醇二甲醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、乙腈、苯甲腈、丁醇、1－丙醇、2－丙醇、乙醇、甲醇和二丙酮 醇。这些溶剂能够单独使用或以2种以上的混合物的形态使用。
本发明的表面处理剂除了含有本发明的含(聚)醚基的硅烷化合 物以外，还可以含有其他成分。作为这样的其他成分，没有特别限定， 可以列举多元醇、催化剂等。
作为上述多元醇，可以为下述式：HO－(Ca′H2a′O)b′－OH所示 的化合物。
[式中：
a′在每个标注b′且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整 数；
b′在每次出现时分别独立地为1～300的整数。]
该多元醇既可以为嵌段聚合物，也可以为无规聚合物。通过加入 多元醇，能够得到更加优异的表面滑动性、摩擦耐久性、使擦拭后的 指纹视认性降低的性能等。
在优选的方式中，－(Ca′H2a′O)b′－为下述式：－(C4H8O)c′－ (C3H6O)d′－(C2H4O)e′－所示的基团。
(式中：
c′、d′和e′在每次出现时分别独立地为0～300的整数，例如为1～ 300的整数，优选为5～200的整数，更优选为10～100的整数；
c′、d′与e′之和为1～200，优选为5～200，更优选为10～100；
标注下标c′、d′或e′且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式 中是任意的。)
在另一个方式中，－(Ca′H2a′O)b′－为选自下述式：
－(C4H8O)c′－
－(C3H6O)d′－、和
－(C2H4O)e′－中的基团，
(式中，c′、d′和e′分别独立地为1～300的整数，优选为5～200 的整数，更优选为10～100的整数。)
上述多元醇的数均分子量优选为1,000～30,000，更优选为5,000～ 20,000，例如可以为8,000～20,000或10,000～20,000。
本发明的表面处理剂中，相对于上述本发明的含聚醚基的硅烷化 合物的合计100质量份(2种以上的情况下为它们的合计，下同)，多 元醇的含量例如可以为0～500质量份，优选为0～400质量份，更优 选为25～400质量份。
在优选的方式中，在利用真空蒸镀法形成表面处理层的情况下， 可以使上述多元醇的平均分子量大于式(A1)或式(A2)所示的化合 物的平均分子量。通过设为这样的式(A1)或式(A2)所示的化合物 和多元醇的平均分子量，能够得到更优异的表面滑动性和摩擦耐久性。
作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例 如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
催化剂促进本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物的水解和脱水缩 合，促进表面处理层的形成。
本发明的表面处理剂能够浸渗在多孔物质、例如多孔的陶瓷材料、 金属纤维、例如将钢丝绒固化成棉状的物体中，制成粒料。该粒料例 如能够在真空蒸镀中使用。
接着，对本发明的物品进行说明。
本发明的物品包括基材、和在该基材的表面由本发明的表面处理 剂形成的层(表面处理层)。该物品例如能够如下操作制造。
首先，准备基材。本发明中能够使用的基材可以由例如玻璃、蓝 宝石玻璃、树脂(可以为天然或合成树脂、例如通常的塑料材料，可 以为板状、膜、其他形态)、金属(可以为铝、铜、铁等的金属单质或 合金等的复合体)、陶瓷、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、木材、陶瓷器、石材等、建筑部件等任意的适当材 料构成。优选基材为玻璃或蓝宝石玻璃。
作为上述玻璃，优选钠钙玻璃、碱铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、 无碱玻璃、水晶玻璃、石英玻璃，特别优选经化学强化的钠钙玻璃、 经化学强化的碱铝硅酸盐玻璃和经化学结合的硼硅酸玻璃。
作为树脂，优选丙烯酸树脂、聚碳酸酯。
例如在想要制造的物品是光学部件的情况下，构成基材的表面的 材料可以为光学部件用材料、例如玻璃或透明塑料等。另外，在想要 制造的物品是光学部件的情况下，可以在基材的表面(最外层)形成 某些层(或膜)、例如硬涂层或防反射层等。防反射层可以使用单层防 反射层和多层防反射层的任一种。作为防反射层能够使用的无机物的 示例，可以列举SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、 Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。这些无机物可以 单独使用，或将它们的2种以上组合(例如以混合物的形态)使用。 在为多层防反射层的情况下，其最外层优选使用SiO2和/或SiO。在 想要制造的物品是触摸面板用的光学玻璃部件的情况下，基材(玻璃) 的表面的一部分可以具有透明电极、例如使用了氧化铟锡(ITO)或氧 化铟锌等的薄膜。另外，基材可以根据其具体的方式等而具有绝缘层、 粘合层、保护层、装饰框层(I-CON)、雾化膜层、硬涂膜层、偏光膜、 相位差膜和液晶显示模块等。
基材的形状没有特别限定。另外，需要形成表面处理层的基材的 表面区域为基材表面的至少一部分即可，可以根据想要制造的物品的 用途和具体的方式等适当确定。
作为该基材，至少其表面部分可以由原本具有羟基的材料构成。 作为该材料，可以列举玻璃，还可以列举在表面形成有自然氧化膜或 热氧化膜的金属(特别是贱金属)、陶瓷、半导体等。或者，在如树脂 等即便具有羟基也不够充分的情况、或原本就不具有羟基的情况下， 能够通过对基材实施某些前处理，在基材的表面导入羟基或使羟基增 加。作为该前处理的例子，可以列举等离子体处理(例如电晕放电) 或离子束照射。等离子体处理能够在基材表面导入羟基或使羟基增加， 并且将基材表面清洁化(去除异物等)，所以适合利用。另外，作为该 前处理的另外的例子，可以列举将具有碳-碳不饱和键基团的表面吸附剂通过LB法(Langmuir-Blodgett法)或化学吸附法等，在基材表面预 先以单分子膜的形态形成，之后，在含有氧或氮等的气氛下使不饱和 键断裂的方法。
另外，作为这种基材，至少其表面部分可以由具有其他的反应性 基团、例如具有一个以上Si-H基的有机硅化合物、或含有烷氧基硅烷 的材料构成。
接着，在该基材的表面形成上述本发明的表面处理剂的膜，根据 需要对该膜进行后处理，由此，由本发明的表面处理剂形成表面处理 层。
本发明的表面处理剂的膜形成可以通过相对于基材的表面、以被 覆该表面的方式应用上述表面处理剂而实施。被覆方法没有特别限定。 例如，可以使用湿润被覆法和干燥被覆法。
作为湿润被覆法的示例，可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊 涂、凹版涂敷以及类似的方法。
作为干燥被覆法的示例，可以列举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、 CVD以及类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例， 可以列举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束以及类 似的方法。作为CVD方法的具体例，可以列举等离子体-CVD、光学 CVD、热CVD以及类似的方法。
并且，也可以利用常压等离子体法进行被覆。
在使用湿润被覆法的情况下，本发明的表面处理剂可以在被溶剂 稀释后应用于基材表面。从本发明的表面处理剂的稳定性和溶剂的挥 发性的观点出发，优选使用如下溶剂：丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、 环己酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲 醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二 甲醚戊烷、己烷、庚烷、辛烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙 烷、二硫化碳、苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、二乙基醚、二甲氧基乙 烷、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲 酰胺、二甲基亚砜、乙腈、苯甲腈、丁醇、1－丙醇、2－丙醇、乙醇、 甲醇和二丙酮醇。这些溶剂能够单独使用或将2种以上组合以混合物 的形态使用。此外，例如为了调节含(聚)醚基的硅烷化合物的溶解 性等，也可以与其他溶剂混合。
在使用干燥被覆法的情况下，本发明的表面处理剂既可以直接用 于干燥被覆法，或者也可以用上述溶剂稀释后用于干燥被覆法。
膜形成优选以本发明的表面处理剂与用于水解和脱水缩合的催化 剂共同在膜中存在的方式实施。简单地说，使用湿润被覆法时，可以 使用溶剂将本发明的表面处理剂稀释，之后，在即将在基材表面应用 之前，在本发明的表面处理剂的稀释液中添加催化剂。在使用干燥被 覆法时，可以将添加了催化剂的本发明的表面处理剂直接进行蒸镀(通 常为真空蒸镀)处理，或者使用在铁或铜等金属多孔体中浸渗已添加 催化剂的本发明的表面处理剂而得到的粒状物质进行蒸镀(通常为真 空蒸镀)处理。
催化剂能够使用任意的适当的酸或碱。作为酸催化剂，例如能够 使用乙酸、甲酸、三氟乙酸等。另外，作为碱催化剂，例如能够使用 氨、有机胺类等。
接着，根据需要对膜进行后处理。该后处理没有特别限定，例如 可以依次实施水分供给和干燥加热，进一步详细而言，可以如下所述 操作实施。
如上所述操作在基材表面将本发明的表面处理剂成膜后，向该膜 (以下也称为“前体膜”)供给水分。水分的供给方法没有特别限定， 例如可以使用利用前体膜(和基材)与周围气氛的温度差的结露、或 喷出水蒸气(Steam)等的方法。
可以认为在向前体膜供给水分时，水与本发明的表面处理剂中的 含(聚)醚基的硅烷化合物的Si所结合的能够水解的基团作用，能够 使该化合物迅速水解。
水分的供给可以在例如0～250℃、优选60℃以上、更优选100℃ 以上，优选180℃以下、更优选150℃以下的气氛下实施。通过在这样 的温度范围内供给水分，能够使水解进行。此时的压力没有特别限定， 简便起见可以设为常压。
接着，将该前体膜在该基材的表面在超过60℃的干燥气氛下加热。 干燥加热方法没有特别限定，可以将前体膜与基材一起，配置在超过 60℃、优选超过100℃的温度下、例如250℃以下、优选180℃以下的 温度下，且在不饱和水蒸气压的气氛下。此时的压力没有特别限定， 简便起见可以设为常压。
在这样的气氛下，在本发明的含(聚)醚基的硅烷化合物之间， 水解后的与Si结合的基团彼此之间迅速脱水缩合。另外，在该化合物 与基材之间，该化合物的水解后的与Si结合的基团和存在于基材表面 的反应性基团之间迅速反应，在存在于基材表面的反应性基团为羟基 时发生脱水缩合。结果，在含全氟(聚)醚基的硅烷化合物与基材之 间成键。
上述的水分供给和干燥加热可以通过使用过热水蒸气连续地实 施。
过热水蒸气是将饱和水蒸气加热到高于沸点的温度而得到的气 体，是在常压下通过加热到超过100℃、通常在500℃以下、例如300℃ 以下的温度且超过沸点的温度而达到不饱和水蒸气压的气体。在本发 明中，从抑制含全氟(聚)醚基的硅烷化合物的分解的观点出发，优 选在水分供给和干燥加热中使用250℃以下、优选180℃以下的过热水 蒸气。将形成有前体膜的基材暴露在过热水蒸气中时，首先，由于过 热水蒸气与相对低温的前体膜之间的温度差，在前体膜表面产生结露， 由此向前体膜供给水分。不久随着过热水蒸气与前体膜之间的温度差 缩小，前体膜表面的水分在过热水蒸气所形成的干燥气氛中气化，前体膜表面的水分量逐渐减少。在前体膜表面的水分量减少的过程中， 即，在前体膜处于干燥气氛下期间，基材的表面的前体膜因与过热水 蒸气接触而被加热至该过热水蒸气的温度(在常压下为超过100℃的温 度)。因此，在使用过热水蒸气时，仅通过将形成有前体膜的基材暴露 在过热水蒸气中，就能够连续地实施水分供给和干燥加热。
能够如上所述操作实施后处理。该后处理可以为了进一步提高摩 擦耐久性而实施，但需留意的是这并不是制造本发明的物品所必须的。 例如，在将本发明的表面处理剂应用在基材表面后，也可以仅直接静 置。
如上所述操作，在基材的表面形成源自本发明的表面处理剂的膜 的表面处理层，制造本发明的物品。由此得到的表面处理层具有高摩 擦耐久性。另外，该表面处理层除了具有高摩擦耐久性之外，还能够 容易地消除附着的指纹，并且根据所使用的表面处理剂的组成，也可 以具有拨水性、拨油性、防污性(例如防止指纹等污渍附着)、防水性 (防止水浸入电子构件等)、表面滑动性(或润滑性，例如指纹等污渍 的擦拭性、或对于手指的优异的触感)等，适合作为功能性薄膜使用。
具有通过本发明得到的表面处理层的物品没有特别限定，可以为 光学部件。作为光学部件，例如可以列举下列光学部件：例如阴极射 线管(CRT，例如TV、笔记本电脑监控器)、液晶显示器、等离子体 显示器、有机EL显示器、无机薄膜EL点阵显示器、背投型显示器、 荧光显示管(VFD)、场发射型显示器(FED，Field Emission Display) 等显示器或这些显示器的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩光板 或在它们的表面实施了防反射膜处理的材料；眼镜等透镜；便携电话、 便携信息终端等设备的触摸面板片；蓝光(Blu-ray(注册商标))光盘、 DVD光盘、CD-R、MO等光盘的盘面；光纤；钟表的显示面等。
具有通过本发明得到的表面处理层的其他的物品，可以列举陶瓷 制品、涂面、布制品、皮革制品、医疗品和灰泥制品等。
另外，具有通过本发明得到的表面处理层的物品，还可以是医疗 器械或医疗材料。
表面处理层的厚度没有特别限定。在光学部件的情况下，从光学 性能、表面滑动性、摩擦耐久性和防污性的观点出发，表面处理层的 厚度在1～50nm、优选在1～30nm、更优选在1～15nm的范围。
以上，对使用本发明的表面处理剂得到的物品进行了详细说明。 但本发明的表面处理剂的用途、使用方法或物品的制造方法等并不限 定于上述的例示。
实施例
通过以下的实施例对本发明的表面处理剂进行更具体的说明，但 本发明不限于这些实施例限定。其中，在本实施例中，以下所示的化 学式均表示平均组成。
(化合物的合成)
实施例1
在具备滴液漏斗、搅拌器、温度计的四口烧瓶中投入聚四亚甲基 二醇(分子量650)8.56g、乙酸乙酯10.0g，搅拌混合，使体系内均匀。 接着，从滴液漏斗滴加使得[OH]/[NCO]＝2/1的异佛尔酮二异 氰酸酯1.45g和作为催化剂的二月桂酸二正丁基锡0.05g的混合物，进 行搅拌在室温反应12小时。通过FT－IR确认2260cm－1的异氰酸酯的 峰消失后，滴加3－(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯1.63g，在室 温反应直到异氰酸酯的峰完全消失，以下式所示的化合物的混合物形态得到组合物1。
Figure RE-GDA0002228962660000011
[式中，R分别独立地为－H或－CONH－(CH2)3－Si(OEt)3。]
实施例2
在具备滴液漏斗、搅拌器、温度计的四口烧瓶中投入聚四亚甲基 二醇(分子量650)7.8g、乙酸乙酯10.0g，搅拌混合，使体系内均匀。 接着，从滴液漏斗滴加使得[OH]/[NCO]＝6/5的异佛尔酮二异 氰酸酯2.2g和作为催化剂的二月桂酸二正丁基锡0.05g的混合物，进 行搅拌在室温反应12小时。通过FT－IR确认2260cm－1的异氰酸酯的 峰消失后，滴加3－(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯0.5g，在室温 反应直到异氰酸酯的峰完全消失，以下式所示的化合物的混合物的形 态得到组合物2。
Figure RE-GDA0002228962660000012
[式中，R分别独立地为－H或－CONH－(CH2)3－Si(OEt)3。]
实施例3
在具备滴液漏斗、搅拌器、温度计的四口烧瓶中投入聚四亚甲基 二醇(分子量2000)9.5g、乙酸乙酯10.0g，搅拌混合，使体系内均匀。 接着，从滴液漏斗滴加使得[OH]/[NCO]＝2/1的异佛尔酮二异 氰酸酯0.52g和作为催化剂的二月桂酸二正丁基锡0.05g的混合物，进 行搅拌在室温反应12小时。通过FT－IR确认2260cm－1的异氰酸酯的 峰消失后，滴加3－(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯0.59g，在室 温反应直到异氰酸酯的峰完全消失，以下式所示的化合物的混合物的 形态得到组合物3。
Figure RE-GDA0002228962660000021
[式中，R分别独立地为－H或－CONH－(CH2)3－Si(OEt)3。]
比较例1
在具备滴液漏斗、搅拌器、温度计的四口烧瓶中投入聚丙二醇(分 子量1000)9.0g、乙酸乙酯10.0g，搅拌混合，使体系内均匀。接着， 从滴液漏斗滴加使得[OH]/[NCO]＝2/1的异佛尔酮二异氰酸酯 0.99g和作为催化剂的二月桂酸二正丁基锡0.05g的混合物，进行搅拌 在室温反应12小时。通过FT－IR确认2260cm－1的异氰酸酯的峰消失 后，滴加3－(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯1.11g，在室温反应 直到异氰酸酯的峰完全消失，以下式所示的化合物的混合物的形态得 到组合物4。
Figure RE-GDA0002228962660000022
[式中，R分别独立地为－H或－CONH－(CH2)3－Si(OEt)3。]
比较例2
在具备滴液漏斗、搅拌器、温度计的四口烧瓶中投入聚丁二醇(－ (OCH(CH3)CH2CH2)n－)(分子量700)8.64g、乙酸乙酯10.0g， 搅拌混合，使体系内均匀。接着，从滴液漏斗滴加使得[OH]/[NCO] ＝2/1的异佛尔酮二异氰酸酯1.36g和作为催化剂的二月桂酸二正丁 基锡0.05g的混合物，进行搅拌在室温反应12小时。通过FT－IR确 认2260cm－1的异氰酸酯的峰消失后，滴加3－(三乙氧基甲硅烷基) 丙基异氰酸酯1.44g，在室温反应直到异氰酸酯的峰完全消失，以下式 所示的化合物的混合物的形态得到组合物5。
Figure RE-GDA0002228962660000031
[式中，R分别独立地为－H或－CONH－(CH2)3－Si(OEt)3。]
(表面处理层的形成)
实施例4
将上述实施例1中得到的组合物1调制成浓度20wt％的乙酸乙酯 溶液，制备表面处理剂。将表面处理剂真空蒸镀(压力3.0×10－3Pa) 在化学强化玻璃(康宁公司制、“Gorilla”玻璃、厚度0.7mm)上。每 1片化学强化玻璃(55mm×100mm)蒸镀表面处理剂2mg(即，含有 0.4mg实施例1的化合物1)。然后，将带有蒸镀膜的化学强化玻璃在 温度20℃和湿度65％的气氛下静置24小时。由此，蒸镀膜硬化，形 成表面处理层。
实施例5
除了使用实施例2的组合物2代替实施例1的组合物1以外，与 实施例4同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
实施例6
除了使用实施例3的组合物3代替实施例1的组合物1以外，与 实施例4同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
实施例7
代替实施例1的组合物1，将实施例1的组合物1和比较例1的组 合物4分别以固态成分比50/50的量混合调制。然后，与实施例4同 样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
实施例8
代替实施例1的组合物1，将实施例1的组合物1和比较例1的组 合物4分别以固态成分比25/75的量混合调制。然后，与实施例4同 样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
比较例3
除了使用比较例1的组合物4代替实施例1的组合物1以外，与 实施例4同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
比较例4
除了使用比较例2的组合物5代替实施例1的组合物1以外，与 实施例4同样操作，制备表面处理剂，形成表面处理层。
试验例
·表面滑动性评价(动摩擦系数(COF)的测定)
对于上述的实施例4～8和比较例3～4中形成在基材表面的表面 处理层，使用表面性测定机(Labthink公司制FPT－1)，使用纸作为 摩擦子，按照ASTM D4917测定动摩擦系数(－)。具体而言，将形成 有表面处理层的材料水平配置，使摩擦纸(2cm×2cm)与表面处理层 的露出上表面接触，在其上施加200gf的负荷，然后，在施加了负荷的 状态下，使摩擦纸以500mm/秒的速度平衡移动，测定动摩擦系数。 将结果表示在表1中。
·视认性评价
对于上述的实施例4～8和比较例3～4中形成在基材表面的表面 处理层，评价附着的指纹的视认性、擦拭性。具体而言，将附着了指 纹的处理基材载置在铝金属板之上，在暗室内对基材以60度的入射角 照射荧光灯的光，从与光源相反侧60度的角度目测确认附着于基材的 指纹的外观，按照以下的3个等级评价。
1：完全看不到指纹附着部。
2：略微看到指纹附着部。
3：指纹附着部发白且清晰可见。
·擦拭性评价
将指纹附着试验后的基材用擦拭纸(KimWipe)以100gf的负荷擦 拭，目测确认擦拭后的指纹，按照以下的3个等级评价。
1：通过2次往复以内的擦拭指纹消除。
2：通过3～5次往复的擦拭指纹消除。
3：往复5次仍然残留指纹的痕迹。
·接触角评价
使用接触角计(协和界面科学株式会社制、“DropMaster”)分别以 1μL的液量测定水和正十六烷酸的静态接触角。将结果表示在表1中。
[表1]
Figure BDA0001460909420000391
由以上结果可以确认，由含有本发明化合物的表面处理剂形成的 表面处理层即使在附着了指纹的情况下，指纹的视认性也低，滑动性 高，还确认到附着的指纹的痕迹容易消除。
产业上的可利用性
本发明适合用于在多种多样的基材、特别是要求透过性的光学部 件的表面形成表面处理层。

Claims (19)

1.一种下述通式(A1)或(A2)所示的化合物，其中，
R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α…(A1)
(Rc mRb lRakSi)α-X-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRakRb lRcm)α
…(A2)
式中：
R1表示OR4；
R4表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；
PE1在每次出现时分别独立地为式：-(CaH2aO)b-所示的基团，
式-(CaH2aO)b-中：a在每个标注b且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整数，其中，在式(A1)或(A2)中，在至少1个单元中a为4，-(C4H8O)-单元为-(CH2CH2CH2CH2O)-，b在每次出现时分别独立地为1～200的整数；
Y在每次出现时分别独立地表示-CONH-R5-NHCOO-，
式-CONH-R5-NHCOO-中，R5为-(CH2)x′-、
Figure FDA0002503763140000011
所示的基团，
其中，式-(CH2)x′-中，x′为1～6的整数，
式
Figure FDA0002503763140000012
中，
x和y分别独立地为0～6的整数，z为0～10的整数；
式
Figure FDA0002503763140000021
中，
x和y分别独立地为0～6的整数，z为0～4的整数；
n为1～50的整数；
PE2表示单键或上述－(CaH2aO)b－基；
X分别独立地表示单键或2～10价的有机基团；
Ra在每次出现时分别独立地表示－Z－SiR71 pR72 qR73 r；
Z在每次出现时分别独立地表示氧原子或2价的有机基团；
R71在每次出现时分别独立地表示Ra′；
Ra′的意义与Ra相同；
Ra中，经由Z基以直链状连结的Si最多为5个；
R72在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；
R73在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；
p在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
q在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
r在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
在1个Ra中，p、q与r之和为3；
Rb在每次出现时分别独立地表示羟基或能够水解的基团；
Rc在每次出现时分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的烷基；
k在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
l在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
m在每次出现时分别独立地为0～3的整数；
在标注α且用括号括起来的单元中，k、l与m之和为3；
α分别独立地为1～9的整数；
所述能够水解的基团为－OR、－OCOR、－O－N＝C(R)2、－N(R)2、－NHR、卤素，其中，R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基；
其中，式中至少存在1个R72或Rb。
2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于：
该化合物由式(A1)表示，
R1-(PE1-Y)n-PE2-X-(SiRa kRb lRc m)α…(A1)
式中，R1、PE1、PE2、X、Y、Ra、Rb、Rc、k、l、m、n和α的意义与权利要求1的记载相同。
3.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1和PE2中的－(CaH2aO)b－分别独立地为下式所示的基团：
－(C4H8O)c－(C3H6O)d－(C2H4O)e－
式中：
c、d和e分别独立地为0～200的整数；
c、d与e之和为1～200；
标注下标c、d或e且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
4.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1和PE2中的－(CaH2aO)b－为下式所示的基团：
－(C4H8O)c－(C3H6O)d－
式中：
c和d为0～200的整数；
c与d之和为1～200；
标注下标c或d且用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
5.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1和PE2在每次出现时分别独立地为选自：
－(C4H8O)c－、
－(C3H6O)d－、和
－(C2H4O)e－中的基团，
式中，c、d和e分别独立地为1～200的整数。
6.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1和PE2在每次出现时分别独立地为选自：
－(C4H8O)c－、和
－(C3H6O)d－中的基团，
式中，c和d分别独立地为1～200的整数。
7.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1和PE2在每次出现时分别独立地为下式所示的基团：
－(C4H8O)c－
式中，c为1～200的整数。
8.如权利要求3所述的化合物，其特征在于：
C3H6O为CH2CHCH3O；
C2H4O为CH2CH2O。
9.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
X为－CONH－C1－20亚烷基。
10.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
PE1的数均分子量为500～10,000。
11.如权利要求1或2所述的化合物，其特征在于：
玻璃化转变温度在－70℃～40℃的范围。
12.一种表面处理剂，其特征在于：
含有权利要求1～11中任一项所述的式(A1)或式(A2)所示的至少1种化合物。
13.如权利要求12所述的表面处理剂，其特征在于：
还含有溶剂。
14.如权利要求12或13所述的表面处理剂，其特征在于：
还含有下述式所示的多元醇：
HO－(Ca′H2a′O)b′－OH
式中：
a′在每个标注b′且用括号括起来的单元中分别独立地为1～6的整数；
b′在每次出现时分别独立地为1～300的整数。
15.如权利要求12或13所述的表面处理剂，其特征在于：
能够形成对于正十六烷的接触角为40°以下的表面处理层。
16.如权利要求12或13所述的表面处理剂，其特征在于：
能够形成动摩擦系数为0.30以下的表面处理层。
17.一种包括基材、和在该基材的表面由权利要求12～16中任一项所述的表面处理剂形成的层的物品。
18.如权利要求17所述的物品，其特征在于：
所述物品为光学部件。
19.如权利要求17或18所述的物品，其特征在于：
所述物品为显示器或触摸面板。
CN201680026736.3A 2015-06-12 2016-06-10 表面处理剂 Active CN107531732B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015119825 2015-06-12
JP2015-119825 2015-06-12
JP2015-203611 2015-10-15
JP2015203611 2015-10-15
PCT/JP2016/067419 WO2016199909A1 (ja) 2015-06-12 2016-06-10 表面処理剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107531732A CN107531732A (zh) 2018-01-02
CN107531732B true CN107531732B (zh) 2020-10-30

Family

ID=57503861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680026736.3A Active CN107531732B (zh) 2015-06-12 2016-06-10 表面处理剂

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11155672B2 (zh)
EP (1) EP3309164B1 (zh)
JP (1) JP6406448B2 (zh)
KR (1) KR102045664B1 (zh)
CN (1) CN107531732B (zh)
TW (1) TWI637977B (zh)
WO (1) WO2016199909A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI644942B (zh) * 2015-06-12 2018-12-21 日商大金工業股份有限公司 表面處理劑
CN114746479A (zh) * 2019-12-19 2022-07-12 迈图高新材料日本合同公司 固化性组合物
TW202313774A (zh) * 2021-06-09 2023-04-01 日商邁圖高新材料日本合同公司 硬化性組成物

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110190526A1 (en) * 2008-03-19 2011-08-04 Mihail-Dumitru Barboiu Sulfone hybrid precursor, method of synthesizing same, and uses thereof
WO2014177627A1 (en) * 2013-04-30 2014-11-06 L'oreal Compound suitable for making up and/or caring for the nails

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU397518A1 (zh) * 1971-11-29 1973-09-17
US5227410A (en) 1991-12-05 1993-07-13 General Electric Company Uv-curable epoxysilicone-polyether block copolymers
DE69624923T2 (de) 1995-08-11 2003-08-21 Daikin Ind Ltd Silizium enthaltende organische fluorpolymere und ihre verwendung
US5990257A (en) * 1998-01-22 1999-11-23 Witco Corporation Process for producing prepolymers which cure to improved sealants, and products formed thereby
JP2001131243A (ja) * 1999-11-04 2001-05-15 Shin Etsu Chem Co Ltd 液状放射線硬化型樹脂組成物、光ファイバ用被覆材及び光ファイバ
US6756465B1 (en) * 2001-10-19 2004-06-29 Henkel Loctite Corporation Moisture curable compounds and compositions
FR2862223B1 (fr) * 2003-11-13 2006-04-28 Oreal Emulsion renfermant des portions de spheres creuses organosiliconees.
US7294665B1 (en) * 2004-03-15 2007-11-13 Henkel Corporation Moisture curable compositions with enhanced adhesion to polyolefins
JP4378565B2 (ja) * 2004-03-26 2009-12-09 株式会社ネオス アルコキシシラン化合物
CN103551075B (zh) 2005-04-01 2016-07-06 大金工业株式会社 表面改性剂
KR100803197B1 (ko) * 2006-08-16 2008-02-14 삼성에스디아이 주식회사 실란 화합물, 이를 채용한 유기전해액 및 리튬 전지
GB0724914D0 (en) * 2007-12-21 2008-01-30 Dow Corning Moisture curable compositions
DE102008020980A1 (de) * 2008-04-25 2009-10-29 Henkel Ag & Co. Kgaa Härtbare Zusammensetzungen enthaltend silylierte Polyurethane auf Basis von Polyetherblockpolymeren
JP5046404B2 (ja) * 2009-09-25 2012-10-10 信越化学工業株式会社 ω末端にポリアルキレンオキシド基を有する片末端反応性オルガノポリシロキサン及びその製造方法。
WO2012003187A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Dow Global Technologies Llc Silyl-terminated polymers
US8859674B2 (en) * 2011-03-31 2014-10-14 Momentive Performance Materials Inc. Moisture curable silylated polymer compositions with improved adhesion to concrete
DE102011081264A1 (de) * 2011-08-19 2013-02-21 Wacker Chemie Ag Vernetzbare Massen auf Basis von organyloxysilanterminierten Polymeren
JP2013060354A (ja) 2011-08-19 2013-04-04 Central Glass Co Ltd 耐指紋性被膜形成処理剤及び該被膜を有する耐指紋性ガラス
US20150322097A1 (en) * 2011-11-04 2015-11-12 Dow Corning Corporation Process for preparing an organosilane composition
JP5830368B2 (ja) * 2011-12-16 2015-12-09 東レ・ダウコーニング株式会社 オルガノポリシロキサン−ポリオキシアルキレンブロック共重合体の製造方法
JP2014065827A (ja) 2012-09-26 2014-04-17 Dic Corp トップコート剤ならびにそれを用いて得られたトップコート層を備えた表示装置及びタッチパネル
JP2013076094A (ja) * 2013-01-28 2013-04-25 Asahi Glass Co Ltd 硬化性組成物
JP6080670B2 (ja) * 2013-04-22 2017-02-15 日本パーカライジング株式会社 塗装鋼板用下地処理組成物、並びに下地処理されためっき鋼板およびその製造方法、塗装めっき鋼板およびその製造方法
US9156981B2 (en) * 2013-07-24 2015-10-13 Momentive Performance Materials Inc. Moisture curable compositions with enhanced elongation and tear strength properties
CN105658342B (zh) * 2013-09-30 2019-12-27 弗吉尼亚联邦大学 冰释放涂层
TWI644942B (zh) 2015-06-12 2018-12-21 日商大金工業股份有限公司 表面處理劑

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110190526A1 (en) * 2008-03-19 2011-08-04 Mihail-Dumitru Barboiu Sulfone hybrid precursor, method of synthesizing same, and uses thereof
WO2014177627A1 (en) * 2013-04-30 2014-11-06 L'oreal Compound suitable for making up and/or caring for the nails

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Sol-gel method for the matrix of chloride-selective membranes doped with tridodecylmethylammonium chloride;Wantae Kim等;《Analytical Chemistry》;19971231;第69卷(第1期);第95-98页，特别是Scheme 1 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP6406448B2 (ja) 2018-10-17
US11155672B2 (en) 2021-10-26
JPWO2016199909A1 (ja) 2018-02-01
CN107531732A (zh) 2018-01-02
KR102045664B1 (ko) 2019-11-15
KR20180005682A (ko) 2018-01-16
US20180162985A1 (en) 2018-06-14
TWI637977B (zh) 2018-10-11
EP3309164A4 (en) 2019-03-20
TW201708311A (zh) 2017-03-01
EP3309164A1 (en) 2018-04-18
EP3309164B1 (en) 2020-09-02
WO2016199909A1 (ja) 2016-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2024028510A (ja) パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物
CN108495907B (zh) 表面处理剂
JP6008037B2 (ja) 表面処理剤
EP3950777B1 (en) Fluoropolyether group-including compound
KR20190039759A (ko) 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 화합물을 포함하는 표면 처리제
CN107636001B (zh) 表面处理剂
WO2020203671A1 (ja) フルオロポリエーテル基含有化合物
TW202336025A (zh) 表面處理劑
CN107531732B (zh) 表面处理剂
EP3889205A1 (en) Polyether group-containing compound
EP3950779A1 (en) Fluoropolyether group-containing compound
CN113677739B (zh) 含氟代聚醚基的化合物
EP4177053A1 (en) Curable composition
EP4242249A1 (en) Surface treatment agent
JP7252500B2 (ja) 表面処理剤
WO2023204249A1 (ja) ポリエーテル基含有化合物
CN116745382A (zh) 表面处理剂
CN117203261A (zh) 表面处理剂

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant