JP2010506425A5 - - Google Patents

Description

本出願の実施形態の更に別の態様では、ＥＵＶ光源は、ターゲット材料と、ターゲット材料でビーム経路を確立する少なくとも１つの光学器械と、ビーム経路に沿って位置決めされ、ターゲット材料と相互作用して、ビーム経路に出力光子を供給するシードレーザなしで、ＥＵＶ発光プラズマを生成するための増幅光子ビームを生成する光学利得媒体とを含むことができる。
この態様の一実施形態では、少なくとも１つの光学器械及びターゲット材料は、協働して光学発振器を確立することができ、少なくとも１つの光学器械は、平面ミラー、曲面ミラー、コーナ反射器、及び位相共役ミラーから成る光学器械の群から選択される。この態様の別の実施形態では、少なくとも１つの光学器械及びターゲット材料は、協働してリング形状部分を有するビーム経路を確立することができ、少なくとも１つの光学器械は、３つの回転ミラーを含むことができる。

Claims (18)

1. ターゲット材料と、
   前記ターゲット材料を有するビーム経路を確立する少なくとも１つの光学器械と、
   前記ビーム経路に沿って位置決めされ、ビーム経路に出力光子を供給するシードレーザなしで、前記ターゲット材料と相互作用してＥＵＶ発光プラズマを生成する増幅光子ビームを生成する光学利得媒体と、
   を含むことを特徴とするＥＵＶ光源。
2. 前記少なくとも１つの光学器械及び前記ターゲット材料は、協働して光学発振器を確立することを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
3. 前記少なくとも１つの光学器械及び前記ターゲット材料は、協働してリング形状部分を有するビーム経路を確立することを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
4. 前記ターゲット材料は、液滴の形態であることを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
5. 前記少なくとも１つの光学器械は、平面ミラー、曲面ミラー、コーナ反射器、及び位相共役ミラーから成る光学器械の群から選択されることを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
6. 前記ターゲット材料は、錫を含み、増幅器が、ＣＯ₂レーザ増幅器であることを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
7. 前記ターゲット材料と増幅器の間に前記ビーム経路に沿って位置決めされた光アイソレータを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
8. 前記増幅器は、１次偏光方向を有し、前記光アイソレータは、位相遅延光学器械及び偏光子を含むことを特徴とする請求項７に記載のＥＵＶ光源。
9. 前記増幅器は、１次偏光方向を有し、前記光アイソレータは、位相遅延ミラー及び偏光ミラーを含むことを特徴とする請求項７に記載のＥＵＶ光源。
10. 増幅器が、複数の増幅チャンバを含むことを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
11. 前記ターゲット材料と増幅器の間に配置された平行化光学器械を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
12. ターゲット材料が前記ビーム経路上にない期間の少なくとも一部分の間に前記光学利得媒体を維持するためのスイッチを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のＥＵＶ光源。
13. ＥＵＶ光を発生させる方法であって、
    照射部位を確立する工程、
    光学器械を所定の位置に設置して、前記照射部位を有するビーム経路を確立する工程、 前記ビーム経路に沿って光学利得媒体を配置する工程、及び
    ターゲット材料を前記照射部位に位置決めして、ビーム経路に出力光子を供給するシードレーザなしで、前記ターゲット材料と相互作用してＥＵＶ発光プラズマを生成する増幅光子ビームを生成するする工程、
    を含むことを特徴とする方法。
14. 前記ビーム経路に沿って前記ターゲット材料と光学利得媒体との間に光アイソレータを位置決めする工程、
    を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の方法。
15. 前記光アイソレータが可飽和吸収材料を含むことを特徴とする請求項１４に記載の方法。
16. ビーム経路上の光を反射するように位置決めされた光学器械と、
    前記光学器械とともに発振空洞を確立するように前記ビーム経路上に位置決め可能なターゲット材料と、
    前記ビーム経路に結合され、前記発振空洞内の光学利得が光学損失を超えるように、外部シードなしに励起可能な光学利得媒体と、
    を含むことを特徴とするＥＵＶ光源。
17. 前記ターゲット材料は、液滴の形態であることを特徴とする請求項１６に記載のＥＵＶ光源。
18. 前記ビーム経路に沿って前記ターゲット材料と利得媒体の間に位置決めされた光学器械を更に含み、該光学器械は前記ビーム経路上の光を前記ターゲット材料に収束させることを特徴とする請求項１６に記載のＥＵＶ光源。