JP2010087388A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010087388A JP2010087388A JP2008256965A JP2008256965A JP2010087388A JP 2010087388 A JP2010087388 A JP 2010087388A JP 2008256965 A JP2008256965 A JP 2008256965A JP 2008256965 A JP2008256965 A JP 2008256965A JP 2010087388 A JP2010087388 A JP 2010087388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- light source
- reflecting mirror
- elliptical reflecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70016—Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70025—Production of exposure light, i.e. light sources by lasers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】紫外線を放射する光源と、該光源にエネルギーを供給するレーザ光を入射するためのレーザ装置と、該光源から放射された紫外線を反射する楕円反射鏡と、該楕円反射鏡の第一焦点に配置された該光源から放射された光を該楕円反射鏡で反射し、コリメータレンズ、インテグレータレンズ、を含む光学素子を介して被照射物に照射する光学系と、を有する露光装置において、該光源に対して該楕円反射鏡の開口側からレーザ光を入射するために、該楕円反射鏡によって反射された光の光路中に波長選択機能を有するビームスプリッターを設けたことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
また、該楕円反射鏡の開口側からレーザ光を入射するには、該楕円反射鏡の開口側から放射される該紫外線の光路中にレーザ装置を配置しなければならず、該レーザ装置が該紫外線を遮蔽し、該光源から放射される紫外線の利用効率を下げてしまう。
本発明の請求項1の記載によれば、光路中にビームスプリッターを設け、該レーザ装置を光路外に配置しているので、該光源から放射された該紫外線を妨げることなく、該光源から放射される光を該楕円反射鏡で効率良く利用することができる。
更には、該光源から伝搬してくる該紫外線と同程度に広がった該レーザ光を該ビームスプリッターに入射することができるので、ビームスプリッターの温度上昇を抑制することができる。
更には、従来の露光装置の光学系にて、該楕円反射鏡の第一焦点と第二焦点とを結ぶ線分上に配置されている光学部品(反射ミラー)を、該ビームスプリッターに変更するだけで良いので、既存の光学系の配置のままで実現できるので簡便である、といった利点がある。
また、該レーザ光が赤外域の波長であれば、該光源からの紫外線を反射し、赤外線を透過する、いわゆるコールドミラーを安価に使用することが可能である。
また、該ビームスプリッターの配置向きを適切にすることにより、従来の露光装置の光学系の空きスペースに該レーザ装置を格納することができ、露光装置の大型化を回避できる、といった利点がある。
図5に示すように、レーザ発振器30のレーザ出射口31から出射したレーザ光(矢印でその光路を示している)は、該コーンレンズ72の入射面77で2方向に分岐され、光屈折部76を通り該レーザ光のビーム径を中央部分に光が無いリング状、または、ドーナツ状の光に変換して、光出射部から出射する。
2 楕円反射鏡
3 ランプハウス
4 ビームスプリッター
5 アパーチャ
6 コリメータレンズ
7 インテグレータレンズ
8 平面ミラー
9 第2のコリメータレンズ
10 マスク面
11 被照射面
20 光源
21 放電容器
22 電極
22a 陽極
22b 陰極
23a 給電部
23b 給電部
A 第一焦点
B 第二焦点
25 ランプ軸
26 長軸
30 レーザ発信器
31 レーザ出射口
50 露光装置
51 平面ミラー
52 ビームスプリッター
53 収束レンズ
60 露光装置
61 ビームスプリッター
70 露光装置
71 ビームスプリッター
72 コーンレンズ
721 外側部
722 内側部
723 内側部
724 外側部
725 外側部
726 内側部
727 内側部
728 外側部
75 光出射部
76 光屈折部
77 入射面
101 半導体露光装置
102 レーザ発振器
103 光学部品
104 光学部品
105 集光レンズ
106 無電極放電ランプ
107 楕円反射鏡
108 光学系
109 光吸収板
110 穴部
110a 光取り込み穴
110b 光取り出し穴
121 半導体ウエハ
Claims (10)
- 紫外線を放射する光源と、該光源にエネルギーを供給するレーザ光を入射するためのレーザ装置と、該光源から放射された紫外線を反射する楕円反射鏡と、該楕円反射鏡の第一焦点に配置された該光源から放射された光を該楕円反射鏡で反射し、コリメータレンズ、インテグレータレンズ、を含む光学素子を介して被照射物に照射する光学系と、を有する露光装置において、
該光源に対して該楕円反射鏡の開口側からレーザ光を入射するために、該楕円反射鏡によって反射された光の光路中に波長選択機能を有するビームスプリッターを設けたことを特徴とする露光装置。 - 前記レーザ装置は、出射されるレーザ光の広がり角が、該楕円反射鏡の第二焦点を基準にして該楕円反射鏡の開口周縁に向けて広がるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記レーザ装置は、レーザ光の出射口と前記ビームスプリッターとの間に該レーザ光を平行化、または、収束するレンズが配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項2に記載の露光装置。
- 前記光源は、放電容器内に対向する一対の電極を具備し、該電極と電気的に接続した給電部が該バルブ部の両端から突出しており、該電極を結び、各々の該給電部を通るランプ軸と、前記楕円反射鏡の長軸とが略一致していることを特徴とする請求項1乃至請求項3に記載の露光装置。
- 前記レーザ装置は、レーザ光の出射口側に、中抜け光を形成する部材を具備していることを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 前記ビームスプリッターは、該光路中のインテグレータレンズより光源側であって、該光路中の光が略平行光である範囲に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の露光装置。
- 前記ビームスプリッターは、該楕円反射鏡の第二焦点より光源側であって、該楕円反射鏡の第一焦点と第二焦点とを結ぶ直線上に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の露光装置。
- 前記ビームスプリッターは、該楕円反射鏡から放射される光の光路中に存在する第二焦点と、該コリメータレンズとの間に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の露光装置。
- 前記ビームスプリッターは、平面形状であることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記ビームスプリッターは、曲面形状であることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008256965A JP2010087388A (ja) | 2008-10-02 | 2008-10-02 | 露光装置 |
TW98127708A TWI469196B (zh) | 2008-10-02 | 2009-08-18 | Exposure device |
CN2009101734603A CN101713928B (zh) | 2008-10-02 | 2009-09-18 | 曝光装置 |
KR1020090089511A KR101380506B1 (ko) | 2008-10-02 | 2009-09-22 | 노광 장치 |
US12/565,881 US8253926B2 (en) | 2008-10-02 | 2009-09-24 | Exposure device |
EP09012177.3A EP2172962B1 (en) | 2008-10-02 | 2009-09-24 | Exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008256965A JP2010087388A (ja) | 2008-10-02 | 2008-10-02 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010087388A true JP2010087388A (ja) | 2010-04-15 |
Family
ID=41272884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008256965A Withdrawn JP2010087388A (ja) | 2008-10-02 | 2008-10-02 | 露光装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8253926B2 (ja) |
EP (1) | EP2172962B1 (ja) |
JP (1) | JP2010087388A (ja) |
KR (1) | KR101380506B1 (ja) |
CN (1) | CN101713928B (ja) |
TW (1) | TWI469196B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010157625A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-07-15 | Ushio Inc | 露光装置 |
JP2010171159A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置および当該光源装置を備える露光装置 |
JP2010170112A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置 |
JP2012142464A (ja) * | 2011-01-01 | 2012-07-26 | Canon Inc | フィルタ、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2013065917A (ja) * | 2013-01-18 | 2013-04-11 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US9609732B2 (en) | 2006-03-31 | 2017-03-28 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source for generating light from a plasma in an pressurized chamber |
US12014918B2 (en) | 2021-05-24 | 2024-06-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser-driven light source with electrodeless ignition |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101974578B1 (ko) * | 2012-10-22 | 2019-05-02 | 삼성전자주식회사 | 3차원 영상 획득 장치용 결상 광학계 및 이를 포함하는 3차원 영상 획득 장치 |
US9390902B2 (en) | 2013-03-29 | 2016-07-12 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convective flow in a light-sustained plasma |
US9185788B2 (en) | 2013-05-29 | 2015-11-10 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convection within a plasma cell |
CN104111586A (zh) * | 2013-06-27 | 2014-10-22 | 东莞市瑾耀精密设备有限公司 | 基于ccd对位系统的曝光机 |
CN105045041B (zh) * | 2014-04-17 | 2017-06-23 | 株式会社菲尔光学 | Led光源曝光装置 |
EP3143638B1 (en) | 2014-05-15 | 2018-11-14 | Excelitas Technologies Corp. | Laser driven sealed beam lamp |
US9741553B2 (en) | 2014-05-15 | 2017-08-22 | Excelitas Technologies Corp. | Elliptical and dual parabolic laser driven sealed beam lamps |
US10186416B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-01-22 | Excelitas Technologies Corp. | Apparatus and a method for operating a variable pressure sealed beam lamp |
US9576785B2 (en) | 2015-05-14 | 2017-02-21 | Excelitas Technologies Corp. | Electrodeless single CW laser driven xenon lamp |
US10057973B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-08-21 | Excelitas Technologies Corp. | Electrodeless single low power CW laser driven plasma lamp |
US10008378B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-06-26 | Excelitas Technologies Corp. | Laser driven sealed beam lamp with improved stability |
US9865447B2 (en) * | 2016-03-28 | 2018-01-09 | Kla-Tencor Corporation | High brightness laser-sustained plasma broadband source |
CN106838827A (zh) * | 2017-01-18 | 2017-06-13 | 深圳市润沃自动化工程有限公司 | 一种远距离投射的线光源件固化机 |
WO2019146448A1 (ja) * | 2018-01-24 | 2019-08-01 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
US10109473B1 (en) | 2018-01-26 | 2018-10-23 | Excelitas Technologies Corp. | Mechanically sealed tube for laser sustained plasma lamp and production method for same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61193358A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-27 | Canon Inc | 光源装置 |
JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH0729808A (ja) * | 1993-07-15 | 1995-01-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP2005234120A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置及び露光方法 |
JP2005235959A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Canon Inc | 光発生装置及び露光装置 |
WO2007120521A2 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-25 | Energetiq Technology, Inc. | Lazer-driven light source |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61193385A (ja) | 1985-02-22 | 1986-08-27 | 株式会社日立製作所 | 電線端末保持シ−ト |
US6252647B1 (en) * | 1990-11-15 | 2001-06-26 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US6304317B1 (en) * | 1993-07-15 | 2001-10-16 | Nikon Corporation | Projection apparatus and method |
KR100379873B1 (ko) * | 1995-07-11 | 2003-08-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 막질개량방법 |
JP2002182158A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Ushio Inc | 偏光ビームスプリッタを備えた光配向用偏光光照射装置 |
US7491954B2 (en) * | 2006-10-13 | 2009-02-17 | Cymer, Inc. | Drive laser delivery systems for EUV light source |
KR100624081B1 (ko) * | 2002-01-31 | 2006-09-19 | 캐논 가부시끼가이샤 | 레이저장치, 노광장치 및 노광방법 |
CN2530263Y (zh) * | 2002-03-08 | 2003-01-08 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 检测生物荧光的光纤传感器 |
JP4298336B2 (ja) * | 2002-04-26 | 2009-07-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 |
JP2004303810A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Sony Corp | 投影露光装置 |
JP5506194B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2014-05-28 | サイマー インコーポレイテッド | レーザシステム |
JP2008145580A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Ushio Inc | 投影装置用光学系 |
-
2008
- 2008-10-02 JP JP2008256965A patent/JP2010087388A/ja not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-08-18 TW TW98127708A patent/TWI469196B/zh active
- 2009-09-18 CN CN2009101734603A patent/CN101713928B/zh active Active
- 2009-09-22 KR KR1020090089511A patent/KR101380506B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-24 EP EP09012177.3A patent/EP2172962B1/en active Active
- 2009-09-24 US US12/565,881 patent/US8253926B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61193358A (ja) * | 1985-02-22 | 1986-08-27 | Canon Inc | 光源装置 |
JPH05283317A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH0729808A (ja) * | 1993-07-15 | 1995-01-31 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP2005234120A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Nikon Corp | 照明光学装置、露光装置及び露光方法 |
JP2005235959A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Canon Inc | 光発生装置及び露光装置 |
WO2007120521A2 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-25 | Energetiq Technology, Inc. | Lazer-driven light source |
JP2009532829A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド | レーザ駆動の光源 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9609732B2 (en) | 2006-03-31 | 2017-03-28 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source for generating light from a plasma in an pressurized chamber |
JP2010157625A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-07-15 | Ushio Inc | 露光装置 |
JP2010170112A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置 |
JP2010171159A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置および当該光源装置を備える露光装置 |
JP2012142464A (ja) * | 2011-01-01 | 2012-07-26 | Canon Inc | フィルタ、露光装置及びデバイス製造方法 |
US8760628B2 (en) | 2011-01-01 | 2014-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Filter, exposure apparatus, and method of manufacturing device |
KR101460846B1 (ko) * | 2011-01-01 | 2014-11-11 | 캐논 가부시끼가이샤 | 필터, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP2013065917A (ja) * | 2013-01-18 | 2013-04-11 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US12014918B2 (en) | 2021-05-24 | 2024-06-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser-driven light source with electrodeless ignition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8253926B2 (en) | 2012-08-28 |
KR101380506B1 (ko) | 2014-04-01 |
TW201015627A (en) | 2010-04-16 |
US20100085549A1 (en) | 2010-04-08 |
KR20100038048A (ko) | 2010-04-12 |
EP2172962A1 (en) | 2010-04-07 |
CN101713928A (zh) | 2010-05-26 |
TWI469196B (zh) | 2015-01-11 |
EP2172962B1 (en) | 2014-08-20 |
CN101713928B (zh) | 2013-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010087388A (ja) | 露光装置 | |
KR101432349B1 (ko) | 레이저 구동 광원 | |
TWI466169B (zh) | Light source device | |
JP5076349B2 (ja) | 極端紫外光集光鏡および極端紫外光光源装置 | |
JP2007115817A (ja) | 光照射装置 | |
JP5182958B2 (ja) | 光源装置 | |
JP5346602B2 (ja) | 光源装置および当該光源装置を備える露光装置 | |
JP5659497B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP2007066911A (ja) | 光源装置および映像表示装置 | |
JP6978718B2 (ja) | レーザ駆動光源 | |
JP5142217B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2007335196A (ja) | 光源装置及びプロジェクタ | |
JP2006351670A (ja) | 紫外線照射装置 | |
WO2017212710A1 (ja) | レーザ駆動光源装置 | |
JP5180854B2 (ja) | 光源装置および当該光源装置を備える露光装置 | |
CN110831311A (zh) | Euv产生装置 | |
JP6390863B2 (ja) | レーザ駆動光源装置 | |
JP2010210717A (ja) | 光源装置 | |
JP2017220439A (ja) | レーザ駆動光源装置 | |
JP5620186B2 (ja) | レーザ駆動光源 | |
JP2010107620A (ja) | 光源装置及びプロジェクタ | |
RU2012145683A (ru) | Лазерная электронно-лучевая трубка | |
JP2008053014A (ja) | 光照射装置 | |
JP2018049714A (ja) | レーザ駆動光源装置 | |
JP2007005325A (ja) | 光源装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20110809 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110809 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110729 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110809 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110922 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121019 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121102 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20130108 |