JP5182958B2 - 光源装置 - Google Patents

光源装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5182958B2
JP5182958B2 JP2009284872A JP2009284872A JP5182958B2 JP 5182958 B2 JP5182958 B2 JP 5182958B2 JP 2009284872 A JP2009284872 A JP 2009284872A JP 2009284872 A JP2009284872 A JP 2009284872A JP 5182958 B2 JP5182958 B2 JP 5182958B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
plasma generation
laser
plasma
source device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009284872A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010170112A (ja
Inventor
幸夫 安田
卓 住友
雅規 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Energetiq Technology Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Energetiq Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Energetiq Technology Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2009284872A priority Critical patent/JP5182958B2/ja
Publication of JP2010170112A publication Critical patent/JP2010170112A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5182958B2 publication Critical patent/JP5182958B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
    • H01J65/042Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70016Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/025Associated optical elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/54Igniting arrangements, e.g. promoting ionisation for starting

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)

Description

本発明は、半導体や液晶基板、更には、カラーフィルタ等の製造工程で利用される露光
装置に組み込まれる光源装置に関する。
半導体や液晶基板やカラーフィルタ等の製造工程では、処理時間の短縮化や、大面積の
被処理物の一括露光が求められている。この求めに対して、より紫外線放射強度の大きな
入力電力の投入が可能な大きな高圧放電ランプが提案されている。
しかし、高圧放電ランプへの入力電力を大きくすると、電極への負荷が増大し、電極か
らの蒸発物が原因となって、高圧放電ランプが黒化し、短寿命となる問題が発生する。
図13は、従来技術に係る特許文献1に記載の光源装置を示す図である。
同図に示すように、この光源装置100は、上記の問題を解決するために、無電極のプラズマ発生容器104を楕円反射鏡101内に配置し、楕円反射鏡101の側面に設けられた穴部102を通して、レーザ光をプラズマ発生容器104内に入射させ、プラズマ発生容器104内に封入されたプラズマ発生ガスを励起し、発光させる装置である。この光源装置100によれば、プラズマ発生容器104中に電極が無いので上記の問題を解決することができる。
しかし、特許文献1に記載の光源装置100は、楕円反射鏡101の側面にレーザ光の光取り込み穴102と光取り出し穴103があり、プラズマ発生容器104から発生した紫外線を楕円反射鏡101で集めると、反射面に穴102、103があるため、効率良く紫外線を利用できない問題がある。また、レーザ光が、楕円反射鏡101の光軸Xに対して交差する方向からプラズマ発生容器104に入射することになり、プラズマが横方向(光軸Xに対して交差する方向)に伸び、楕円反射鏡101の焦点からずれた領域にプラズマが発生し、紫外線が正確に反射されず、効率良く紫外線を利用することができないという問題がある。
図14は、他の従来技術に係る特許文献2に記載の光源装置を示す図である。
同図に示すように、この光源装置200は、上記の問題を解決するために、プラズマ発生容器を反射鏡201内に配置し、反射鏡201の頂部の開口202を通して、レーザ光をプラズマ発生容器203内に入射させ、プラズマ発生容器203内に封入されたプラズマ発生ガスを励起し、発光させる装置である。この光源装置200によれば、プラズマ発生容器中に電極が無いので上記の問題を解決することができる。
しかし、特許文献2に記載の光源装置200も、レーザ光が反射鏡201の頂部開口202から反射鏡201内に入射し、プラズマ発生容器203に照射され、プラズマ204が発生するが、レーザ光の一部がプラズマ204を通過し、更に、プラズマ発生容器203も透過し、プラズマによって発生する放射光と共に、レーザ光が照射面に照射されてしまう。この結果、この不所望のレーザ光の影響により、照射面の被処理物が損傷する問題が発生する。
図15及び図16は、特許文献2に記載の光源装置200の上記の問題点を解決するための構成を示す図である。
図15に示された構成によれば、反射鏡205から光出射する開口側から、入射されたレーザ光を、反射鏡206で反射させて、反射鏡205内に照射し、反射鏡205内に充填されたプラズマ発生ガスを励起してプラズマを発生させ、プラズマによって生成された放射光を反射鏡206を透過させて放射するものである。また、図16に示された構成によれば、反射鏡205から光出射する開口側から、入射されたレーザ光を、反射鏡208を透過させて、反射鏡205内に照射し、反射鏡205内に充填されたプラズマ発生ガスを励起してプラズマを発生させ、プラズマによって生成された放射光を反射鏡208で反射させて放射するものである。
図15及び図16に示した構成によれば、図14の光源装置の問題点を解決することはできる。しかし、図15及び図16に示す構成では、反射鏡206、208は、波長選択性が必要であり、製造が難しく、また、確実に波長を切り分けることができない場合がある。更には、反射鏡206では放射光の一部が反射鏡206に吸収され、反射鏡208でも放射光の一部が反射鏡208に吸収され、効率良く放射光を利用することができないという問題がある。
特開昭61−193358号公報 米国特許2007/0228300号公報
本発明の目的は、上記の問題点に鑑みて、プラズマ発生容器にレーザ光を照射してプラズマ発生容器から放射光を放射させる光源装置において、プラズマ発生容器によって楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域を利用して、レーザ光を導入することにより、プラズマ発生容器から放射された光を楕円反射面で反射し、その反射光を効率良く利用することのできる光源装置を提供することにある。
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような手段を採用した。
第1の手段は、内部に発光物質が封入され、楕円反射鏡の開口側からレーザ光が集光して照射されて前記発光物質を励起して放射光が放射されるプラズマ発生容器と、一方の焦点に前記プラズマ発生容器が配置された前記楕円反射鏡と、前記放射光が前記楕円反射鏡によって反射されて反射光となり、該反射光の向きを変える平面鏡とを備え、前記平面鏡には、前記プラズマ発生容器によって前記楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域に、前記レーザ光を導入する窓部が設けられていることを特徴とする光源装置である。
第2の手段は、第1の手段において、前記平面鏡と前記プラズマ発生容器との間に、前記レーザ光を集光する集光レンズが配置されていることを特徴とする光源装置である。
第3の手段は、第1の手段において、前記窓部の前記プラズマ発生容器とは反対側に、前記レーザ光を集光する集光レンズが配置されていることを特徴とする光源装置である。
第4の手段は、第1の手段において、前記窓部の前記プラズマ発生容器とは反対側に、前記レーザ光を集光して反射する集光反射鏡が配置されていることを特徴とする光源装置である。
第5の手段は、第1の手段において、前記プラズマ発生容器の一部に、前記レーザ光を集光する集光レンズ部分が形成されていることを特徴とする光源装置である。
第6の手段は、第1の手段において、前記プラズマ発生容器は、プラズマ発生容器の内部に電極を有しない無電極プラズマ発生容器であることを特徴とする光源装置である。
第7の手段は、第1の手段において、前記プラズマ発生容器は、プラズマ発生容器の内部に一対の電極を有する有電極プラズマ発生容器であることを特徴とする光源装置である。
第8の手段は、第6の手段において、前記プラズマ発生容器に導入されるレーザ光は、パルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光とパルスレーザ又はCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であることを特徴とする光源装置である。
第9の手段は、第7の手段において、前記プラズマ発生容器に導入されるレーザ光は、パルスレーザ又はCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であることを特徴とする光源装置である。
第10の手段は、第1の手段ないし第7の手段のいずれか1つの手段において、前記プラズマ発生容器は、加熱手段を有することを特徴とする光源装置である。
第11の手段は、第10の手段において、前記加熱手段は、プラズマ発生容器内に埋設されたレーザ光を吸収して発熱する発熱体であることを特徴とする光源装置である。
本発明によれば、プラズマ発生容器に導入されるレーザ光が、楕円反射鏡からの反射光の向きを変える平面鏡の、プラズマ発生容器によって楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域に設けられた窓部から導入されるので、プラズマ発生容器から放射した放射光が楕円反射鏡で反射し、その反射光を効率良く利用することができる。更に、レーザ光を楕円反射鏡の開口側からプラズマ発生容器に向けて照射するので、照射面の被処理物には、レーザ光が直接照射されることがなく、被処理物がレーザ光によって、損傷されることがない。
第1の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第2の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第3の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第4の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第5の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第6の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第7の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第8の実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。 第1ないし第3の各実施形態及び第5ないし第7に示されたプラズマ発生容器の詳細な構成を示す図である。 第4及び第8の各実施形態に示されたプラズマ発生容器の詳細な構成を示す図である。 図9に示した無電極プラズマ発生容器に代えて、第1ないし第3の各実施形態及び第5ないし第7に示されたプラズマ発生容器として有電極プラズマ発生容器を用いる場合のプラズマ発生容器の構成を示す図である。 図10に示した無電極プラズマ発生容器に代えて、第5及び第11の各実施形態に示されたプラズマ発生容器として有電極プラズマ発生容器を用いる場合のプラズマ発生容器の構成を示す図である。 従来技術に係る特許文献1に記載の光源装置を示す図である。 他の従来技術に係る特許文献2に記載の光源装置を示す図である。 特許文献2に記載の光源装置の問題点を解決するための構成を示す図である。 特許文献2に記載の光源装置の問題点を解決するための構成を示す図である。
本発明の第1の実施形態を図1を用いて説明する。
図1は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、プラズマ発生容器1は、石英ガラス製で発光部11と封止部12からなり、発光部11には、発光物質として、例えば、4.5mg/cmの水銀とキセノンが2気圧封入されている。プラズマ発生容器1は、内部に電極が存在しない無電極プラズマ発生容器である。楕円反射鏡2は、頂部開口21を有し、頂部開口21にプラズマ発生容器1の封止部12が挿入され、封止部12が楕円反射鏡2の背後で保持され、楕円反射鏡2の一方の焦点F1にプラズマ発生容器1が配置される。楕円反射鏡2の外部には、レーザ光発生器3が設けられ、レーザ光発生器3から、例えば、20kHzのパルスレーザ又はCW(Continuous Wave)レーザからなるレーザ光がプラズマ発生容器1に導入される。
楕円反射鏡2から反射する反射光のうち、プラズマ発生容器1から楕円反射鏡2の他方の焦点F2に向かい平面鏡4との間に形成される領域L1−L2は、反射光が遮られる反射光阻害領域L1−L2である。L1及びL2はプラズマ発生容器1の最大径となる外面部分と平面鏡4で折り返されて焦点F2を結ぶ線である。反射光阻害領域L1−L2が平面鏡4と突き当たる面がプラズマ発生容器1によって楕円反射鏡2からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域L3−L4であり、反射光非照射領域L3−L4に平面鏡4の窓部41が形成される。レーザ光発生器3から出射したレーザ光は、窓部41を介して導入され、窓部41とプラズマ発生容器1との間に配置された集光レンズ5によって集光されてプラズマ発生容器1に照射される。レーザ光を集光することにより、集光点でエネルギー密度を高めることができ、発光物質を励起させ、放射光を発生させることができる。放射光は楕円反射鏡2で反射され、反射光が窓部41を除く平面鏡4の反射面で向きを変え被照射物側に反射する。なお、窓部41は、平面鏡4に形成された貫通孔であるが、貫通孔以外には、平面鏡4がレーザ光を透過する基板よりなり、窓部41以外の基板部分に放射光を反射する反射膜が形成されたものであってもよい。
本実施形態の発明によれば、平面鏡4の窓部41と集光レンズ5が、反射光阻害領域L1−L2に設けられているので、元々楕円反射鏡2からの反射光が存在しない領域を利用するものであり、効率よく楕円反射鏡2からの反射光を利用することができる。また、レーザ光を窓部41を介して、楕円反射鏡2の開口側からプラズマ発生容器1に導入するため、照射面の被処理物には、直接レーザ光が照射されることがなく、被処理物がレーザ光によって、損傷されることがない。また、レーザ光は、楕円反射鏡2の光軸Xに沿って進行するように構成されるので、プラズマ発生容器1内で発生するプラズマが光軸X方向に伸び、楕円反射鏡2によって、放射光を捕捉する割合が高くなり、放射光を効率よく利用することができる。
本発明の第2の実施形態を図2を用いて説明する。
図2は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3から出射したレーザ光は、レーザ光発生器3と平面鏡4の窓部41との間に配置された集光レンズ5によって集光されて、窓部41を介して導入され、プラズマ発生容器1に照射される。レーザ光を集光することにより、集光点でエネルギー密度を高めることができ、発光物質を励起させ、放射光を発生させることができる。
放射光は楕円反射鏡2で反射され、反射光が窓部41を除く平面鏡4の反射面で向きを変えられて被照射物側に反射する。なお、その他の構成は図1に示した同符号の構成に対応する。
本実施形態の発明によれば、平面鏡4の窓部41が、反射光阻害領域L1−L2に設けられているので、元々楕円反射鏡2からの反射光が存在しない領域を利用するものであり、効率よく楕円反射鏡2からの反射光を利用することができる。また、レーザ光を窓部41を介して、楕円反射鏡2の開口側からプラズマ発生容器1に導入されるため、照射面の被処理物には、直接レーザ光が照射されることがなく、被処理物がレーザ光によって、損傷されることがない。また、レーザ光は、楕円反射鏡2の光軸Xに沿って進行するように構成されるので、プラズマ発生容器1内で発生するプラズマが光軸X方向に伸び、楕円反射鏡2によって、放射光を捕捉する割合が高くなり、放射光を効率よく利用することができる。
本発明の第3の実施形態を図3を用いて説明する。
図3は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3から出射したレーザ光は、レーザ光発生器3と平面鏡4の窓部41との間に配置された集光反射鏡レンズ6によって集光し反射されて、窓部41を介して導入され、プラズマ発生容器1に照射される。レーザ光を集光することにより、集光点でエネルギー密度を高めることができ、発光物質を励起させ、放射光を発生させることができる。放射光は楕円反射鏡2で反射され、反射光が窓部41を除く平面鏡4の反射面で向きを変え被照射物側に反射する。その他の構成は図1に示した同符号の構成に対応する。
本実施形態の発明によれば、平面鏡4の窓部41が、反射光阻害領域L1−L2に設けられているので、元々楕円反射鏡2からの反射光が存在しない領域を利用するものであり、効率よく楕円反射鏡2からの反射光を利用することができる。また、レーザ光を窓部41を介して、楕円反射鏡2の開口側からプラズマ発生容器1に導入されるため、照射面の被処理物には、直接レーザ光が照射されることがなく、被処理物がレーザ光によって、損傷されることがない。また、レーザ光は、楕円反射鏡2の光軸Xに沿って進行するように構成されるので、プラズマ発生容器1内で発生するプラズマが光軸X方向に伸び、楕円反射鏡2によって、放射光を捕捉する割合が高くなり、放射光を効率よく利用することができる。
本発明の第4の実施形態を図4を用いて説明する。
図4は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3から出射したレーザ光は、平面鏡4の窓部41を介して導入され、プラズマ発生容器1の一部に形成された集光レンズ部分19によって集光されてプラズマ発生容器1内に照射される。レーザ光を集光することにより、集光点でエネルギー密度を高めることができ、発光物質を励起させ、放射光を発生させることができる。放射光は楕円反射鏡2で反射され、反射光が窓部41を除く平面鏡4の反射面で向きを変え被照射物側に反射する。なお、その他の構成は図1に示した同符号の構成に対応する。
本実施形態の発明によれば、平面鏡4の窓部41が、反射光阻害領域L1−L2に設けられているので、元々楕円反射鏡2からの反射光が存在しない領域を利用するものであり、効率よく楕円反射鏡2からの反射光を利用することができる。また、レーザ光を窓部41を介して、楕円反射鏡2の開口側からプラズマ発生容器1に導入するため、照射面の被処理物には、直接レーザ光が照射されることがなく、被処理物がレーザ光によって、損傷されることがない。また、レーザ光は、楕円反射鏡2の光軸Xに沿って進行するように構成されるので、プラズマ発生容器1内で発生するプラズマが光軸X方向に伸び、楕円反射鏡2によって、放射光を捕捉する割合が高くなり、放射光を効率よく利用することができる。
本発明の第5の実施形態を図5を用いて説明する。
図5は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3Aから反射鏡7を透過したレーザ光Aと、レーザ光発生器3Bから反射鏡7で反射したレーザ光Bを、平面鏡4の窓部41とプラズマ発生容器1との間に配置された集光レンズ5で集光して、プラズマ発生容器1に放射する。レーザ光AはCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であり、レーザ光Bは、例えば、20kHzのパルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光である。レーザ光Bをレーザ光Aに重畳することにより、プラズマ発生容器1内の発光物質の励起を助長し、レーザ光Aのみを照射した場合に比べて、確実にプラズマを発生させることができる。なお、プラズマが発生して安定化後、レーザ光Bを停止する。また、レーザ光Aとレーザ光Bの印加時期は、同時でもよいし、両者が前後してもよい。また、レーザ光Aとレーザ光Bとは、上記の組み合わせの他に、レーザ光A及びレーザ光Bを共にパルスレーザとしてもよい。なお、本実施形態の他の構成及び効果は、第1の実施形態の場合と同様であるので、説明を省略する。
本発明の第6の実施形態を図6を用いて説明する。
図6は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3Aから反射鏡7を透過したレーザ光Aと、レーザ光発生器3Bから反射鏡7で反射したレーザ光Bを、反射鏡7と平面鏡4の窓部41との間に配置された集光レンズ5で集光して、窓部41を通してプラズマ発生容器1に放射する。レーザ光AはCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であり、レーザ光Bはパルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光である。レーザ光Bをレーザ光Aに重畳することにより、プラズマ発生容器1内の発光物質の励起を助長し、レーザ光Aのみを照射した場合に比べて、確実にプラズマを発生させることができる。なお、プラズマが発生して安定化後、レーザ光Bを停止する。また、レーザ光Aとレーザ光Bの印加時期は、同時でもよいし、両者が前後してもよい。また、レーザ光Aとレーザ光Bとは、上記の組み合わせの他に、レーザ光A及びレーザ光Bを共にパルスレーザとしてもよい。なお、本実施形態の他の構成及び効果は、第1の実施形態の場合と同様であるので、説明を省略する。
本発明の第7の実施形態を図7を用いて説明する。
図7は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3Aから反射鏡7を透過したレーザ光Aと、レーザ光発生器3Bから反射鏡7で反射したレーザ光Bを、集光し反射する集光反射鏡6で集光して、平面鏡4の窓部41を通してプラズマ発生容器1に放射する。レーザ光AはCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であり、レーザ光Bはパルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光である。レーザ光Bをレーザ光Aに重畳することにより、プラズマ発生容器1内の発光物質の励起を助長し、レーザ光Aのみを照射した場合に比べて、確実にプラズマを発生させることができる。なお、プラズマが発生して安定化後、レーザ光Bを停止する。また、レーザ光Aとレーザ光Bの印加時期は、同時でもよいし、両者が前後してもよい。また、レーザ光Aとレーザ光Bとは、上記の組み合わせの他に、レーザ光A及びレーザ光Bを共にパルスレーザとしてもよい。なお、本実施形態の他の構成及び効果は、第1の実施形態の場合と同様であるので、説明を省略する。
本発明の第8の実施形態を図8を用いて説明する。
図8は、本実施形態の発明に係る光源装置の構成を示す図である。
同図に示すように、レーザ光発生器3Aから反射鏡7を透過したレーザ光Aと、レーザ光発生器3Bから反射鏡7で反射したレーザ光Bを、平面鏡4の窓部41を通して導入し、プラズマ発生容器1の一部に形成された集光レンズ部19で集光して、プラズマ発生容器1内に放射する。レーザ光AはCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であり、レーザ光Bはパルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光である。レーザ光Bをレーザ光Aに重畳することにより、プラズマ発生容器1内の発光物質の励起を助長し、レーザ光Aのみを照射した場合に比べて、確実にプラズマを発生させることができる。なお、プラズマが発生して安定化後、レーザ光Bを停止する。また、レーザ光Aとレーザ光Bの印加時期は、同時でもよいし、両者が前後してもよい。また、レーザ光Aとレーザ光Bとは、上記の組み合わせの他に、レーザ光A及びレーザ光Bを共にパルスレーザとしてもよい。なお、本実施形態の他の構成及び効果は、第1の実施形態の場合と同様であるので、説明を省略する。
図9は、第1ないし第3の各実施形態及び第5ないし第7に示されたプラズマ発生容器1の詳細な構成を示す図である。
同図に示すように、プラズマ発生容器1は、プラズマ発生容器1内部に電極を有しない無電極プラズマ発生容器であり、プラズマ発生容器1の封止部12は、加熱手段であるヒータ13とレーザ光を吸収して発熱する発熱体14が配置されている。発熱体14は、純カーボンやカーボン混合体、アルミニウム、金属やセラミクス上に酸化三鉄を被覆したものである。また、ヒータ13と発熱体14のどちらか一方でもよい。プラズマ発生容器1に加熱手段を設けることにより、プラズマ発生容器1の温度を上げ、発光物質の励起を助長することができる。
図10は、第4及び第8の各実施形態に示されたプラズマ発生容器1の詳細な構成を示す図である。
同図に示すように、プラズマ発生容器1は、プラズマ発生容器1内部に電極を有しない無電極プラズマ発生容器であり、プラズマ発生容器1には、レーザ光を集光するプラズマ発生容器1の一部に形成された集光レンズ部分19が形成されている。その他の構成及び効果は、図9において説明したプラズマ発生容器1と同様であるので、説明を省略する。
図11は、図9に示した無電極プラズマ発生容器に代えて、第1ないし第3の各実施形態及び第5ないし第7に示されたプラズマ発生容器1として有電極プラズマ発生容器を用いる場合のプラズマ発生容器1の構成を示す図である。
同図に示すように、プラズマ発生容器1は、プラズマ発生容器1の内部に一対の電極15、16を有する有電極プラズマ発生容器であり、電極15、16は、封止部12に埋設された金属箔17に接続されており、金属箔17に繋がる外部リード18が封止部12から外部に突出している。
第1ないし第3の各実施形態の場合は、外部リード18に不図示の電源から放電開始用の電圧が供給され、電極15、16間に電圧が印加されると、プラズマ発生容器1内の発光物質の励起が助長され、レーザ光が照射されるだけの場合に比べて、プラズマを確実に発生させることができる。なお、プラズマが発生して安定した後は、電極15、16間への給電を停止する。
第5ないし第7の各実施形態の場合は、プラズマ始動用のパルスレーザからなるレーザ光Bを照射すると共に、放電始動用の電圧を電極15、16に印加してその後停止し、プラズマ維持用のパルスレーザ又はCWレーザからなるレーザ光Aを照射する。又は、プラズマ始動用のパルスレーザからなるレーザ光Bを照射し、プラズマ維持用の電圧を電極15、16に印加すると共に、プラズマ維持用のパルスレーザ又はCWレーザからなるレーザ光Aを照射するようにしてもよい。
図12は、図10に示した無電極プラズマ発生容器に代えて、第5及び第11の各実施形態に示されたプラズマ発生容器1として有電極プラズマ発生容器を用いる場合のプラズマ発生容器1の構成を示す図である。
同図に示すように、プラズマ発生容器1には、レーザ光を集光するプラズマ発生容器1の一部に集光レンズ部分19が形成されている。その他の構成及び効果は、図11において説明したプラズマ発生容器1と同様であるので、説明を省略する。
1 プラズマ発生容器
11 発光部
12 封止部
13 ヒータ
14 発熱体
15、16 一対の電極
17 金属箔
18 外部リード
19 集光レンズ部分
2 楕円反射鏡
21 頂部開口
3 レーザ光発生器
3A レーザ光発生器
3B レーザ光発生器
4 平面鏡
41 窓部
5 集光レンズ
6 集光反射鏡
7 反射鏡
L1−L2 反射光阻害領域
L3−L4 反射光非照射領域
X 光軸

Claims (11)

  1. 内部に発光物質が封入され、楕円反射鏡の開口側からレーザ光が集光して照射されて前記発光物質を励起して放射光が放射されるプラズマ発生容器と、一方の焦点に前記プラズマ発生容器が配置された前記楕円反射鏡と、前記放射光が前記楕円反射鏡によって反射されて反射光となり、該反射光の向きを変える平面鏡とを備え、
    前記平面鏡には、前記プラズマ発生容器によって前記楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域に、前記レーザ光を導入する窓部が設けられていることを特徴とする光源装置。
  2. 前記平面鏡と前記プラズマ発生容器との間に、前記レーザ光を集光する集光レンズが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記窓部の前記プラズマ発生容器とは反対側に、前記レーザ光を集光する集光レンズが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  4. 前記窓部の前記プラズマ発生容器とは反対側に、前記レーザ光を集光して反射する集光反射鏡が配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  5. 前記プラズマ発生容器の一部に、前記レーザ光を集光する集光レンズ部分が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  6. 前記プラズマ発生容器は、プラズマ発生容器の内部に電極を有しない無電極プラズマ発生容器であることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  7. 前記プラズマ発生容器は、プラズマ発生容器の内部に一対の電極を有する有電極プラズマ発生容器であることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  8. 前記プラズマ発生容器に導入されるレーザ光は、パルスレーザからなるプラズマ始動用レーザ光とパルスレーザ又はCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であることを特徴とする請求項6に記載の光源装置。
  9. 前記プラズマ発生容器に導入されるレーザ光は、パルスレーザ又はCWレーザからなるプラズマ維持用レーザ光であることを特徴とする請求項7に記載の光源装置。
  10. 前記プラズマ発生容器は、加熱手段を有することを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1つの請求項に記載の光源装置。
  11. 前記加熱手段は、プラズマ発生容器内に埋設されたレーザ光を吸収して発熱する発熱体であることを特徴とする請求項10に記載の光源装置。
JP2009284872A 2008-12-27 2009-12-16 光源装置 Active JP5182958B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009284872A JP5182958B2 (ja) 2008-12-27 2009-12-16 光源装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008335360 2008-12-27
JP2008335360 2008-12-27
JP2009284872A JP5182958B2 (ja) 2008-12-27 2009-12-16 光源装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010170112A JP2010170112A (ja) 2010-08-05
JP5182958B2 true JP5182958B2 (ja) 2013-04-17

Family

ID=41571507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009284872A Active JP5182958B2 (ja) 2008-12-27 2009-12-16 光源装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8651701B2 (ja)
EP (1) EP2202780B1 (ja)
JP (1) JP5182958B2 (ja)
KR (1) KR101278425B1 (ja)
CN (1) CN101769478B (ja)
TW (1) TWI427672B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5180854B2 (ja) * 2009-01-23 2013-04-10 ウシオ電機株式会社 光源装置および当該光源装置を備える露光装置
JP2011049513A (ja) * 2009-07-30 2011-03-10 Ushio Inc 光源装置
KR101877468B1 (ko) * 2011-12-29 2018-07-12 삼성전자주식회사 광원 장치 및 광 생성 방법
KR102088363B1 (ko) 2013-12-05 2020-04-14 삼성전자주식회사 플라즈마 광원 장치 및 플라즈마 광 생성 방법
JP5661169B2 (ja) * 2013-12-26 2015-01-28 ウシオ電機株式会社 光源装置
KR102345537B1 (ko) * 2014-12-11 2021-12-30 삼성전자주식회사 플라즈마 광원, 및 그 광원을 포함하는 검사 장치
WO2017145662A1 (ja) 2016-02-23 2017-08-31 ウシオ電機株式会社 レーザ駆動ランプ
JP2019029272A (ja) 2017-08-02 2019-02-21 ウシオ電機株式会社 レーザ駆動ランプ
US11011366B2 (en) 2019-06-06 2021-05-18 Kla Corporation Broadband ultraviolet illumination sources

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1165499B (it) * 1983-12-20 1987-04-22 Alfa Romeo Auto Spa Sisteam per la composizione flessibile di fasci laser
JPS61193358A (ja) * 1985-02-22 1986-08-27 Canon Inc 光源装置
IL127587A (en) * 1996-07-09 2001-06-14 Lumpp & Consultants Device for transmitting / returning electromagnetic radiation, system and process using this device
JP2000091096A (ja) * 1998-09-14 2000-03-31 Nikon Corp X線発生装置
US7439530B2 (en) * 2005-06-29 2008-10-21 Cymer, Inc. LPP EUV light source drive laser system
JP2005234120A (ja) * 2004-02-18 2005-09-02 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置及び露光方法
JP2006202671A (ja) * 2005-01-24 2006-08-03 Ushio Inc 極端紫外光光源装置及び極端紫外光光源装置で発生するデブリの除去方法
JP2007229682A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Harison Toshiba Lighting Corp 紫外線照射装置
US7989786B2 (en) * 2006-03-31 2011-08-02 Energetiq Technology, Inc. Laser-driven light source
US7435982B2 (en) 2006-03-31 2008-10-14 Energetiq Technology, Inc. Laser-driven light source
US7705331B1 (en) * 2006-06-29 2010-04-27 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for providing illumination of a specimen for a process performed on the specimen
JP2010087388A (ja) * 2008-10-02 2010-04-15 Ushio Inc 露光装置
TWI457715B (zh) * 2008-12-27 2014-10-21 Ushio Electric Inc Light source device
JP5142217B2 (ja) * 2008-12-27 2013-02-13 ウシオ電機株式会社 露光装置
JP5322217B2 (ja) * 2008-12-27 2013-10-23 ウシオ電機株式会社 光源装置
JP5346602B2 (ja) * 2009-01-22 2013-11-20 ウシオ電機株式会社 光源装置および当該光源装置を備える露光装置
JP5180854B2 (ja) * 2009-01-23 2013-04-10 ウシオ電機株式会社 光源装置および当該光源装置を備える露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP2202780A3 (en) 2012-02-29
EP2202780A2 (en) 2010-06-30
US20100164347A1 (en) 2010-07-01
CN101769478B (zh) 2013-09-25
KR101278425B1 (ko) 2013-06-24
US8651701B2 (en) 2014-02-18
CN101769478A (zh) 2010-07-07
TWI427672B (zh) 2014-02-21
JP2010170112A (ja) 2010-08-05
KR20100077120A (ko) 2010-07-07
EP2202780B1 (en) 2017-02-01
TW201025413A (en) 2010-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5322231B2 (ja) 光源装置
JP5182958B2 (ja) 光源装置
TWI467629B (zh) Laser-driven light source
JP5322217B2 (ja) 光源装置
JP6887388B2 (ja) 無電極単一cwレーザ駆動キセノンランプ
US20110026547A1 (en) Light source device
US8358069B2 (en) Lighting method of light source apparatus
US20190021158A1 (en) Laser-driven light source device
JP2017220319A (ja) レーザ駆動光源装置
JP5142217B2 (ja) 露光装置
JP2017220439A (ja) レーザ駆動光源装置
WO2017212710A1 (ja) レーザ駆動光源装置
WO2017212683A1 (ja) レーザ駆動光源装置
JP6390863B2 (ja) レーザ駆動光源装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20110809

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110922

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130111

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5182958

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160125

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250