JP5346602B2 - 光源装置および当該光源装置を備える露光装置 - Google Patents

光源装置および当該光源装置を備える露光装置 Download PDF

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Description

この発明は、半導体、液晶基板若しくはカラーフィルタ等の露光用、および、映写機などの投影画像装置のバックライト用に使用される光源装置に関する。また、当該光源装置を備える露光装置に関する。
近年、半導体や液晶基板、更には、カラーフィルタ等の製造工程では、入力電力の大きな紫外線光源を使うことにより、処理時間の短縮化や、大面積の被処理物への一括露光等が進められている。これに伴い、紫外線光源である高圧放電ランプには、より高輝度の光を放射することが求められている。しかし、高圧放電ランプへの入力電力を単純に大きくすれば、放電容器内部に配置された電極への負荷が増大し、該電極からの蒸発物が原因となって、高圧放電ランプの黒化、短寿命が発生する、といった問題があった。
このような問題を解決するために、種々の提案がなされている。例えば、特開昭61−193385号公報(特許文献1)によれば、無電極の放電ランプを楕円反射鏡内に配置し、該楕円反射鏡の側面に設けられた穴部を通して、レーザ光を該放電ランプの放電容器内に入射させ、該放電容器内に封入された放電ガスを励起して発光させることが開示されている。この技術を用いれば、該放電ランプ中に電極が無いので、ランプ点灯中に、電極が蒸発して該放電容器の黒化が生じ、ランプ短寿命を引き起こすといった問題が解消され、長寿命の放電ランプを提供できる、といった利点がある。
ここで、該特許文献1に開示されている無電極放電ランプにレーザ光を入射する場合の構成を、従来技術の一つとして、図10に示す。図10は、レーザ励起による無電極放電ランプを用いた半導体露光装置の一例であって、該半導体露光装置101には、レーザ発振器102、該レーザ発振器102から放射されたレーザ光を所望のビーム径に調整する光学部品103、及び、光学部品104、該レーザ光を集光する集光レンズ105、該集光レンズ105によって集光したレーザ光を入射する無電極放電ランプ106、該無電極放電ランプ106から放射された紫外線を反射する楕円反射鏡107、該楕円反射鏡107で反射された紫外線を被照射物である半導体ウエハWへ照射するための光学系108から構成されている。また、該楕円反射鏡107には、該レーザ光を入射するための光取り込み穴110aと、該無電極放電ランプ106内で吸収されずに透過したレーザ光を該楕円反射鏡107外へ放射するための光取り出し穴110bが設けられ、該光取り出し穴110bから放射されたレーザ光は、光吸収板109によって吸収し、例えば、熱に変換され、該レーザ発振器102にレーザ光が戻らないようにしている。
しかし、図10に示した該特許文献1で開示されている構成では、以下の問題が発生する。該無電極放電ランプ106へのエネルギーの供給に、該楕円反射鏡107の側面に光取り込み穴110a、及び、光取り出し穴110bを設け、該穴部110a、110bを介してレーザ光を該無電極放電ランプ106へ入射している。このように、楕円反射鏡107の側面に該穴部110a、110bが設けられることにより、該無電極放電ランプから発生した紫外線を集めるといった該楕円反射鏡107の本来の機能が低下し、発生した紫外線を効率良く利用できないといった問題が生じる。
更には、該楕円反射鏡107に設ける該穴部110a、110bを小さくすると、該無電極放電ランプ106に入射するレーザ光の入射角が小さくなり、大きなエネルギーを入射する場合、放電容器を通過するレーザ光のエネルギー密度が高くなり過ぎ、該放電容器自身に穴が開く等の不具合が発生する。また、レーザ光のエネルギー密度を下げるために、レーザ光を入射するために設けた該穴部110a、110bを大きくすれば、前述したように、該無電極放電ランプ106から放射された紫外線を効率良く利用できない、といった問題が生じる。
特開昭61−193385号
この発明が解決しようとする課題は、光源から出射される光出力を高いものとするとともに、発生した光を無駄にすることなく効率良く利用することが可能な光源装置を提供することを目的とする。
本発明の光源装置は、放電媒体が封入された発光部を有するランプと、前記ランプから出射した光を反射する凹面形状の反射面と光出射方向側に設けられた開口とを有し、前記ランプから出射した光を反射して前記開口より出射する凹面反射鏡と、前記凹面反射鏡の前記開口側からレーザー光を入射させ、レーザー光を前記ランプに照射するレーザー発振器と、を備えている。
このような光源装置は、凹面反射鏡の前記開口側からレーザー光を照射するため、レーザー光が前記ランプの発光部或いは光出射側に配置された封止部に照射されて吸収されることにより、一対の電極間に照射されるレーザー光の出力が低下する結果として、ランプから出射される光の出力が低下する場合がある。
そこで、本発明においては、レーザー光の形状を中抜き(リング)形状に成形するための成形部材を備え、これにより、ランプの発光部或いは光出射側に配置された封止部にレーザー光が照射されることが無いようにして、一対の電極間に対し十分な出力のレーザー光が照射されるようにしている。
すなわち、本発明は、次のようにして前記課題を解決した。
(1)
光源装置であって、放電媒体が封入された発光部を有するランプと、前記ランプから出射した光を反射する凹面形状の反射面と光出射方向側に設けられた開口とを有し、前記ランプから出射した光を反射して前記開口より出射する凹面反射鏡と、前記凹面反射鏡の前記開口側からレーザー光を入射させ、レーザー光を前記ランプに照射するレーザー発振器と、前記レーザー発振器から出射したレーザー光の形状をリング状に成形するための成形部材と、を備える。
(2)
前記(1)において、前記ランプは、一対の電極が対向して配置される発光部と前記発光部の両端のそれぞれに連続して管軸方向外方に伸びるロッド状の封止部とで構成され、前記凹面反射鏡の光軸と前記ランプの管軸とが一直線上に並ぶように配置されている。
(3)
前記(1)において、前記凹面反射鏡は、前記反射面が回転楕円面形状を有し、
前記成形部材は、前記レーザー光が、前記凹面反射鏡の第二焦点を通過して前記ランプの発光部に接する外接線と、前記凹面反射鏡の第二焦点と前記凹面反射鏡の開口端部とを通過する仮想線とで挟まれた領域のみに出射されるように、前記レーザー光を成形する。
(4)
前記(1)において、前記光成形部材がコーンレンズである。
(5)
前記(4)において、前記光成形部材は、複数の前記コーンレンズを各コーンレンズのそれぞれの頂部が対向するとともに、前記レーザー光照射機構から出射したレーザー光が、一方のコーンレンズの底面から入射して他方のコーンレンズの底面から出射するように配置されている。
(6)
前記(1)において、前記ランプの光出射方向側に配置された封止部に装着された口金が、管軸方向外方に向かうに従って外径が次第に縮小するテーパー部を有する。
(7)
前記(1)の光源装置を備える露光装置であって、前記光源から出射した光を当該光の進行方向とは異なる方向に反射する一方で、前記成形手段によりリング状に成形されたレーザー光を透過する波長選択式反射鏡を備える。
(8)
前記(1)の光源装置を備える露光装置であって、前記光源から出射した光を当該光の進行方向とは異なる方向に反射するとともに、前記成形手段によりリング状に成形されたレーザー光を前記光源の方向に反射する平面反射鏡と、前記光源から出射した光を透過する一方で、前記成形手段によりリング状に成形されたレーザー光を前記光源の方向に反射する波長選択式反射鏡と、を備える。
本発明においては、凹面反射鏡に形成された開口側からレーザー光を入射するので、凹面反射鏡内にレーザー光を導くための開口を凹面反射鏡に形成する必要が無いので、凹面反射鏡の本来の機能を失うことなく光の利用効率が向上する。
しかも、レーザー光を中抜き(リング)形状に成形するための成形部材を備えているので、凹面反射鏡の開口側から入射したレーザー光がランプに無駄無く供給されるため、高い放射束の光を得ることができる。
本発明の光源装置の概略構成を示す。 図1のランプの概略構成を示す。 レーザー光の照射領域を示す。 本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。 成形部材の構成の概略を示す。 本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。 本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。 本発明の露光装置の概略構成を示す。 本発明の露光装置の他の実施形態の概略構成を示す。 従来の露光装置の概略構成を示す。
図1は、本発明の光源装置の概略構成を示す。光源装置は、光源1と、光源1におけるランプ11に対してレーザー光を照射するレーザー発振器21を含むレーザー光照射機構2とを備えて構成されている。この光源装置10は、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1を光源1(ランプ11)に照射することにより、光源1(ランプ11)から高出力の光を出射させるものである。
光源1は、ショートアーク型のランプ11と、ランプ11から出射した光を集光する凹面反射鏡12とで構成される。レーザー光照射機構2は、レーザー光を出射するレーザー発振器21と、レーザー発振器21から出射したレーザー光を所望のビーム径に調整するビームエキスパンダー22と、レーザー光を所望の形状に成形する成形部材23と、成形されたレーザー光を平行にする(凹面反射鏡12の第二焦点F2と一致する焦点に集光し、点線L1と実線L2の間に収まる広がりとビーム形状にする)レンズ24と、レーザー光を所望の方向へ反射する平面反射鏡25とで構成される。なお、ビームエキスパンダー22は、ビーム径および平行度がそれぞれ所望の範囲内とされたレーザー光を出射するレーザー発振器21を使用した場合は必要ない。
図2は、図1のランプの概略構成を示す。
ランプ11は、発光部111と発光部111のそれぞれの両端に連続して管軸方向外方に向けて伸びるロッド状の封止部112、113と、発光部111内に例えば1〜3mmの距離を隔てて対向して配置される一対の電極114、115と、各封止部112、113に装着された給電用の口金116、117とで構成される。各電極114、115は、それぞれ各口金116、117に電気的に接続されている。
このランプ11は、発光部111内に放電媒体として水銀が封入されており、不図示の給電装置によって一対の電極間に電力を供給して一対の電極間にプラズマPを形成して得られる、例えば波長365nmのi線を出射するものである。なお、放電媒体として、水銀に代えてキセノンガスを用いることもできる。
凹面反射鏡12は、図1に示すように、全体が凹面状であって、前端縁に形成された光出射口121と、ランプ11から出射した光を反射する回転楕円反射面122を備える。回転楕円反射面122は、ランプ11から出射する例えばi線などの紫外光を反射するために、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層してなる誘電体多層膜、例えばHfO(酸化ハフニウム)とSiO(酸化シリコン)を交互に積層してなる誘電体多層膜、或いは、Ta(酸化タンタル)とSiO(酸化シリコン)を交互に積層してなる誘電多層膜等で構成される。
このようなショートアーク型のランプ11と凹面反射鏡12とは、凹面反射鏡12の第一焦点F1がランプ11における一対の電極114、115の中間点に概ね一致するとともに、凹面反射鏡12の光軸Mとランプ11の管軸Lとが概ね一直線上に並ぶように配置され、これにより、光源1が構成される。
ここに、ランプ11の管軸とは、ランプ11の各電極114、115の中心を共に通過する仮想線を意味し、凹面反射鏡12の光軸とは、凹面反射鏡12の第一焦点F1と第二焦点F2とを共に通過する仮想線を意味する。
ランプ11の光出射側に位置する封止部112に装着された口金116は、光出射方向に向かうに従い次第に外径が縮小するテーパー部116Aを有している。このようにテーパー部116Aを光出射側に配置することにより、図1のレーザー発振器21から出射する光が封止部112に照射されることを防止し易くなる。
凹面反射鏡12から出射するランプ11からの光は、前記のとおり、水銀を励起させることによって得られる例えば波長365nmの紫外光である。一方、レーザー発振器21から出射するレーザー光の波長は、放電媒体が封入されたランプ11の発光部111より放射される露光用の光の波長以外の波長域であることが好ましく、例えば、809nm、或いは1μm以上の赤外波長域にピークを有する。
レーザー光照射機構2のレーザー発振器21は、ランプ11における一対の電極114、115間に形成されるプラズマPに向けてレーザー光を照射する。レーザー光は、波長809nm、或いは1μm以上の赤外波長域にピーク波長を有するレーザー光である。レーザー光は、ガスレーザー、固体レーザー、液体レーザー、半導体レーザーなどのうちから適宜選択することができる。また、レーザーの発振方式は、CW(連続波)発振方式でも、パルス式発振方式でも、また、これらを兼ねたものでもよい。
レーザー発振器21から出射したレーザー光L1は、図1に示すように、ビームエキスパンダー22、成形部材23、レンズ24、平面反射鏡25を介して光源1方向に反射され、凹面反射鏡12により反射されてランプ11に照射される。レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22、成形部材23およびレンズ24の光軸は、凹面反射鏡12の光軸に対し一致している。このレーザー光L1は、凹面反射鏡12の第一焦点とランプ11の一対の電極114、115の極間とが概ね一致しているので、ランプ11の一対の電極間に形成されるプラズマPの管軸方向における概ね中央位置に照射される。
成形部材23は、円錐形状を有するコーンレンズである。コーンレンズ23は、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22およびレンズ24と同一光軸上に配置される。コーンレンズ23は、ビームエキスパンダー22により所望のビーム径となるように調整されたレーザー光が底面232側から入射して、頂部231付近を通過するときに、レーザー光がリング状に成形される。
成形部材23により成形された中抜き光(リング状のビーム)は、レンズ24、平面反射鏡25を介して凹面反射鏡12方向に出射され、凹面反射鏡12の第二焦点F2を通過するとともに、凹面反射鏡12に入射し、凹面反射鏡12で反射されてランプ11内に入射される。中抜き光(リング状のビーム)は、図3に示すように、ランプ11および凹面反射鏡12をそれぞれの管軸方向および光軸方向に切断した断面において、凹面反射鏡12の第二焦点F2を通過しランプ11における発光部111に接する外接線T1と、凹面反射鏡12の第二焦点F2を通過し凹面反射鏡12の開口端121Aとを結ぶ仮想線T2とで挟まれる領域のみに出射するように成形される。図3の斜線領域は、中抜き光(リング状のビーム)が照射される範囲を示す。このような中抜き光(リング状のビーム)は、ランプの仕様、凹面反射鏡の焦点間距離の長さ等に応じて、コーンレンズ23の形状を適宜設計することにより、発光部111および光出射側に位置する封止部112にレーザー光が照射されないように、所望の形状に成形される。
上記の光源装置の動作の一例について、図1を用いて次に説明する。
ランプ用の給電装置(不図示)により、ランプ11に電力が供給される。これにより、ランプ11が点灯駆動され、一対の電極114と115との間にプラズマPが形成される。その後、レーザー発振器21を駆動してレーザー光を出射する。レーザー発振器21から出射したレーザー光は、ビームエキスパンダー22、成形部材23、レンズ24、平面反射鏡25に順次に入射し、凹面反射鏡12で反射されて最終的にランプ11の一対の電極114と115との間に形成されたプラズマPに照射され、プラズマPにエネルギーを供給して高温化する。
なお、ランプ11の駆動のタイミングと、レーザー発振器21の駆動のタイミングに関しては、同時であっても良いし、ランプ11、レーザー発振器21の何れかを先に駆動しても良い。また、ランプ11の一対の電極114、115の間にプラズマPが形成された後は、ランプ11への電力供給を停止した状態でプラズマPに対してレーザー光を照射するようにしても良い。
このような本発明の光源装置10においては、次のような効果を期待することができる。レーザー発振器21から出射したレーザー光をランプ11における一対の電極間に形成されるプラズマPに照射するので、プラズマPがレーザー光の供給を受けて高温化されることにより、プラズマPから出射する光の出力が向上する。
また、レーザー光を凹面反射鏡12の光出射口121から入射するため、従来のように凹面反射鏡12の側面にレーザー光を入射するための開口を設ける必要が無いので、光の利用効率が高いものとなる。
さらに、レーザー光の形状をリング状に成形するための成形部材23を備えるので、凹面反射鏡12とランプ11とがそれぞれの光軸Mと管軸Lとが一直線上に並ぶように配置されていても、凹面反射鏡12の光出射口121から入射したレーザー光L1が、発光部111および光出射側に位置する封止部112に照射されることがない。したがって、ランプ11における一対の電極間に形成されるプラズマPに対しレーザー光L1を無駄無く照射することができる結果、ランプ11から出射する光の出力を高いものとすることができ、しかも、封止部112の温度が過剰に高くなる惧れがない。
図4は、本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。図4では、図1と共通する構成について、図1と同一符号を付すことにより説明は省略する。図5は、成形部材の概略構成を示す。
図4の光源装置40は、ランプ11、凹面反射鏡12を備える光源1と、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22、成形部材43、レンズ24および平面反射鏡25を備えるレーザー光照射機構42と、を備えて構成される。
成形部材43は、図4および図5に示すように、それぞれの頂部431A、432Aが対向して配置された一対のコーンレンズ431と432とにより構成される。コーンレンズ431、432は、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22およびレンズ24と同一光軸上に配置される。成形部材43は、図5に示すように、一方のコーンレンズ431の底面431B側から入射したレーザー光を、当該コーンレンズの頂部431Aおよび斜面部431Cからレーザー光を入射することで、レーザー光はリング状に成形され、広がりながら他方のコーンレンズ432に入射される。他方のコーンレンズ432の斜面部432Cから入射したレーザー光を、当該コーンレンズの底面432Bから出射することにより、平行度のある中抜き光(リング状のビーム)が形成される。このような一対のコーンレンズを使用することによっても、レーザー光の形状を所望の形状の中抜き光(リング状のビーム)に成形することができる。
図4の光源装置40においては、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1が、ビームエキスパンダー22により所望のビーム径に調整され、所望のビーム径とされたレーザー光L1が、成形部材43により中抜き光(リング状のビーム)に成形されるとともに、レンズ24、平面反射鏡25により凹面反射鏡12の方向に反射され、凹面反射鏡12に入射する。
図4の光源装置40においては、成形部材43により図3に示す斜線領域のみに照射されるように成形された中抜き光(リング状のビーム)が、凹面反射鏡12の回転楕円形状の反射面122に入射して、当該反射面122で反射した光L1がランプ11における一対の電極114、115間に形成されるプラズマPに照射される。そして、成形部材43を備えることにより、レーザー光が所望のリング状に成形され、光出射側に位置する封止部112に照射されることがない。したがって、レーザー光を無駄なく一対の電極間のプラズマPに照射させることができる結果、ランプ11から出射する光の出力が高いものとなり、しかも、光出射側に位置する封止部112の温度が過剰に高くなる惧れがない。
図6は、本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。図6は、図4と共通する構成について、図4と同一符号を付すことにより説明は省略する。図6は、凹面反射鏡として、放物面形状を有する反射面を備える凹面反射鏡16を用いた実施形態を示す。
図6の光源装置60は、ランプ11および凹面反射鏡16を備える光源61、並びに、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22、成形部材43および平面反射鏡25を備えるレーザー光照射機構62を備えて構成される。成形部材43は、図4に示すものと同様であり、一対のコーンレンズ431、432で構成される。凹面反射鏡16の反射面は、放物面形状を有している。
図6の光源装置60においては、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1が、ビームエキスパンダー22により所望のビーム径に調整され、平面反射鏡25により凹面反射鏡16の方向に反射され、所望のビーム径とされたレーザー光L1が成形部材43により中抜き光(リング状のビーム)に成形される。成形部材43により成形された中抜き光(リング状のビーム)L1は、凹面反射鏡16に入射する。図6において、65、66は、成形部材43により中抜き(リング)形状に成形されたレーザー光L1の径を拡張するために使用されるビームエキスパンダーである。ビームエキスパンダー65、66は、凹面反射鏡16の光出射側の開口径とレーザー発振器21から出射したレーザー光L1のビーム径とが同程度の大きさで、リング状のビームの中抜き部分の大きさがランプ11の外径以上であれば、省略しても良い。
図6の光源装置60においては、成形部材43により成形された中抜き光(リング状のビーム)L1が、凹面反射鏡16の反射面162に入射して、当該反射面162で反射した光がランプ11における一対の電極間に形成されるプラズマPに照射される。成形部材43により成形される中抜き光(リング状のビーム)L1は、ランプ11の発光部111および光出射側に位置する封止部112に照射されることのないように、例えば円筒形状を有している。したがって、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1が、発光部111および光出射側に位置する封止部112に照射されることがない。したがって、レーザー光を無駄なく一対の電極間のプラズマPに照射させることができる結果、ランプ11から出射する光の出力が高いものとなり、しかも、発光部111および光出射側に位置する封止部112の温度が過剰に高くなる惧れがない。
図7は、本発明の光源装置の他の実施形態の概略構成を示す。図7は、無電極ランプをを用いた光源装置に係る実施形態である。図7の光源装置は、図1、4等に示すレーザー光照射機構を用いている。
図7の光源装置70は、無電極ランプ71と凹面反射鏡72とからなる光源7と、レーザー光照射機構2とを備える。無電極ランプ71は、略球状の発光部71Aの内部に、例えば、水銀などの放電媒体が封入され、波長365nmのi線を出射するものである。凹面反射鏡72は、無電極ランプ71の光を出射する開口721と、回転楕円面形状或いは放物面形状を有し、無電極ランプ71から出射した光を反射する反射面722とを有する。
図7の光源装置の動作について以下に説明する。レーザー発振器21を駆動してレーザー光を出射させる。レーザー発振器21から出射したレーザー光L1は、ビームエキスパンダー22、成形部材23、レンズ24、平面反射鏡25に順次に入射し、凹面反射鏡72の開口721側から入射し、反射面722で反射されて、発光部71Aに照射される。これにより、無電極ランプ71の発光部71A内にプラズマPが形成される。
図7の光源装置においては、レーザー光を中抜き光(リング状のビーム)に成形するための成形部材23を備えるので、凹面反射鏡72の光出射口721から入射したレーザー光L1が、凹面反射鏡71を介することなく発光部71Aに照射される、といったことがない。したがって、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1が、発光部71Aに直接的に照射されて発光部71Aによって吸収されることなく、凹面反射鏡72の反射面722で反射されて発光部71Aに照射される。したがって、発光部71Aに対しレーザー光L1を無駄無く照射することができる結果、無電極ランプ71から出射する光L2の出力を高いものとすることができる。
図8は、図1の光源装置を備える露光装置の概略構成を示す。
露光装置100は、図1に示す光源装置10と露光用の光学素子80とを備える。光学素子80は、光源1からの光を反射する一方でレーザー光照射機構2からのレーザー光を透過する波長選択式反射鏡81と、凹面反射鏡12の第二焦点F2を通過する光のみを通過させ、凹面反射鏡12の第二焦点F2を通過しない光をカットするためのアパーチャー82と、アパーチャー82を通過した光を平行化するレンズ83と、レンズ83により平行化された光を所望の形状に調整するインテグレータレンズ84と、所望の方向に光を反射する平面反射鏡85とを備えて構成される。光源1から出射した光は、このような光学素子80を介することにより、所望の形状に成形されてワーク86の表面に照射される。
図8に示す波長選択式反射鏡81は、ランプ11の管軸L並びに凹面反射鏡12の光軸Mに対して斜めに交差するように配置され、凹面反射鏡12の光出射口121から出射した光を、当該光の進行方向とは異なる方向に反射するものである。波長選択式反射鏡81は、凹面反射鏡12から出射した光を前記した方向に反射する一方で、レーザー光照射機構2のレーザー発振器21から出射したレーザー光を透過させる、という波長選択機能を有する。
波長選択式反射鏡81は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層してなる誘電体多層膜、例えば、TiO(酸化チタン)およびSiO(酸化シリコン)を交互に重ねた誘電体多層膜からなる反射面が形成されている。この反射面は、誘電体多層膜の膜厚と膜の総数を適宜設定することによって前記した特定の波長域の光を選択的に反射する機能を有している。
図8の露光装置は、以下のように動作する。ランプ用の給電装置(不図示)により、ランプ11に電力が供給される。これにより、ランプ11が点灯駆動され、一対の電極114と115との間にプラズマPが形成される。その後、レーザー発振器21を駆動してレーザー光L1を出射する。レーザー発振器21から出射したレーザー光L1は、ビームエキスパンダー22、成形部材23、レンズ24、平面反射鏡25に順次に入射し、凹面反射鏡12で反射されて最終的にランプ11の一対の電極114と115との間に形成されたプラズマPに照射され、プラズマPにエネルギーを供給して高温化する。
光源1から出射する光L2は、前記のとおり、例えば波長365nmの紫外光であり、レーザー発振器21から出射するレーザー光L1は、例えば波長809nmや波長1μm以上の赤外波長領域にピークを有する。
ランプ11のプラズマPから出射した光L2は、凹面面反射鏡12の反射面122で反射して、光出射口121から出射する。ランプ11からの光L2は、図8の実線で示すように、波長選択式反射鏡81により反射されて光路が変更された後、アパーチャー82を通過する。そのときに、第二焦点F2を通過しない光はアパーチャー82によってカットされる。アパーチャー82を通過した光は、レンズ83、インテグレータレンズ84、平面ミラー85に順次に入射し、平面ミラー85で反射されて光路が変更された後、ワーク86の表面に照射される。
以上の図8に示す露光装置は、ランプ11のプラズマPに対してレーザー光L1を照射してプラズマPを高温化させることにより、プラズマPの放射強度が高くなる。したがって、ワーク86における放射照度が高いものとなり、処理時間を大幅に短縮することができ、また、大面積の被処理物に対する一括露光が可能となる。
しかも成形部材23を備えることにより、レーザー光L1が所望のリング状に成形され、発光部111並びに光出射側に位置する封止部112に照射されることがない。したがって、レーザー光L1を無駄無く一対の電極間のプラズマPに照射させることができる結果、ランプ11から出射する光L2の出力が高いものとなり、しかも、光出射側に位置する封止部112の温度が過剰に高くなる惧れがない。
図9は、本発明の露光装置の他の実施形態の概略構成を示す。図9では、図1、8と共通する構成について、図1、8と同一符号を付すことにより説明は省略する。図9の露光装置200は、光源1と、レーザー光照射機構92と、光学素子90とを備えて構成される。
光源1は、ランプ11、凹面反射鏡12を備える。レーザー光照射機構92は、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22、平面反射鏡25および成形部材43を備える。光学素子90は、光源1からの光およびレーザー発振器21からのレーザー光を反射する平面反射鏡91、アパーチャー82、レンズ83、インテグレータレンズ84、レンズ83とインテグレータレンズ84の間の光路上に配置された波長選択式反射鏡94および平面反射鏡85を備える。
図9の露光装置200は、ランプ11から出射した光L2が、凹面反射鏡12で反射されて光出射口121から出射するとともに、凹面反射鏡12から出射した光L2の光路上に配置された平面反射鏡91によって、凹面反射鏡12から出射した光の進行方向とは異なる方向に反射され、光学素子90を介して半導体基板或いは液晶基板などのワーク86上に照射されるものである。
平面反射鏡91は、凹面反射鏡12の光出射口121から出射した光L2を光学素子90の方向へ反射し、さらに、レーザー発振器21からのレーザー光L1を凹面反射鏡12の方向へ反射する機能を有する。平面反射鏡91は、高屈折材料(例えば、TiO:酸化チタン)からなる層と低屈折材料(例えば、SiO:酸化シリコン)からなる層を交互に重ねることにより、膜厚と膜の総数が適宜に設定された誘電体多層膜からなる反射面が形成されている。
波長選択式反射鏡94は、平面反射鏡91により反射された光源1の光を透過する一方で、成形部材43により成形されたリング状のレーザー光L1を、平面反射鏡91の方向に反射する機能を有する。波長選択式反射鏡94は、例えば、高屈折材料(例えば、TiO:酸化チタン)からなる層と低屈折材料(例えば、SiO:酸化シリコン)からなる層を交互に重ねることにより、膜厚と膜の総数が適宜に設定された誘電体多層膜からなる反射面が形成されている。
成形部材43は、それぞれの頂部が対向して配置された一対のコーンレンズ431と432とにより構成される。コーンレンズ431と432は、それぞれの焦点が凹面反射鏡12の第二焦点F2に概ね一致するように配置される。コーンレンズ431、432は、レーザー発振器21およびビームエキスパンダー22の光軸に対し直交する方向に伸びる光路上に配置される。成形部材43は、図4、5と同様にして中抜き光(リング状のビーム)を形成する。
図9の露光装置200においては、レーザー発振器21から出射したレーザー光L1が、ビームエキスパンダー22により所望のビーム径に調整され、所望のビーム径とされたレーザー光L1が平面反射鏡25により、レーザー発振器21およびビームエキスパンダー22の光軸に概ね直交する方向に反射されて、成形部材43により所望のリング状ビームに成形される。成形部材43によりリング状に成形されたレーザー光は、波長選択式反射鏡94により平面反射鏡91の方向へ反射され、レンズ83、アパーチャー82および平面反射鏡91を介して凹面反射鏡12方向へ導かれ、ランプ11における一対の電極間に形成されたプラズマPに照射される。
そして、図9の露光装置200によれば、成形部材43を備えることにより、レーザー光L1が所望のリング状に成形され、発光部111並びに光出射側に位置する封止部112に照射されることがない。したがって、レーザー光L1を無駄無く一対の電極間のプラズマPに照射させることができる結果、ランプ11から出射する光L2の出力が高いものとなり、しかも、光出射側に位置する封止部112の温度が過剰に高くなる惧れがない。
以上説明したように、本発明の光源装置によれば、レーザー光照射機構から出射したレーザー光を中抜き(リング)形状に成形する成形部材を備え、この成形部材によって中抜き(リング)形状に成形したレーザー光を凹面反射鏡の開口側から入射している。レーザー光の形状を所望の中抜き(リング)形状に成形する成形部材を使用することにより、光出射側に位置する封止部や発光部にレーザー光が照射されることを防止することができる。
なお、本発明は、上記した実施形態に限らず、必要に応じて種々の設計変更が可能である。例えば、光源のランプは、ショートアーク型に限らず、ロングアーク型とすることもできる。
また、上記実施形態においては、レーザー発振器21から出射した光を平面反射鏡25を利用して反射することにより、比較的自由度の高いレーザー光の取り回しが実現可能な構成としている。一方、平面反射鏡25を介せず、凹面反射鏡12の光軸上に、レーザー発振器21、ビームエキスパンダー22、成形部材23、レンズ24を並べた構成とすることも可能である。
さらに、レーザーで生成されるプラズマからの光の輝度で十分であれば、ランプの起動時に生成されたプラズマPと凹面反射鏡12の焦点とが必ずしも一致している必要は無く、レーザーにより生成されるプラズマからの光を凹面反射鏡で取り出すようにしても良い。
1 光源
10 光源装置
11 ランプ
111 発光部
112、113 封止部
114、115 電極
116、117 口金
12 凹面反射鏡
121 光出射口
122 回転楕円反射面
2 レーザー光照射機構
21 レーザー発振器
22 ビームエキスパンダー
23 成形部材
231 コーンレンズ
232 コーンレンズ
24 レンズ
25 平面反射鏡
43 成形部材
431、432 コーンレンズ
63 成形部材
631、632 コーンレンズ
100 露光装置
71 無電極ランプ
72 凹面反射鏡
80 光学素子
81 波長選択式反射鏡
82 アパーチャー
83 レンズ
84 インテグレータレンズ
85 平面反射鏡
86 ワーク
91 平面反射鏡
92 波長選択式反射鏡

Claims (7)

  1. 放電媒体が封入され、一対の電極が対向して配置される発光部と前記発光部の両端のそれぞれに連続して管軸方向外方に伸びるロッド状の封止部とで構成されるランプと、
    前記ランプから出射した光を反射する凹面形状の反射面と光出射方向側に設けられた開口とを有し、前記ランプから出射した光を反射して前記開口より出射する凹面反射鏡と、
    前記凹面反射鏡の前記開口側からレーザー光を入射させ、レーザー光を前記ランプに照射するレーザー発振器と、
    前記レーザー発振器から出射したレーザー光の形状をリング状に成形するための成形部材と、を備え、
    前記凹面反射鏡の光軸と前記ランプの管軸とが一直線上に並ぶように配置されていることを特徴とする光源装置。
  2. 前記凹面反射鏡は、前記反射面が回転楕円面形状を有し、
    前記成形部材は、前記レーザー光が、前記凹面反射鏡の第二焦点を通過して前記ランプの発光部に接する外接線と、前記凹面反射鏡の第二焦点と前記凹面反射鏡の開口端部とを通過する仮想線とで挟まれた領域のみに出射されるように、前記レーザー光を成形することを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記成形部材がコーンレンズであることを特徴とする請求項1記載の光源装置。
  4. 前記成形部材は、複数の前記コーンレンズを各コーンレンズのそれぞれの頂部が対向するとともに、前記レーザー発振器から出射したレーザー光が、一方のコーンレンズの底面から入射して他方のコーンレンズの底面から出射するように配置されていることを特徴とする請求項3に記載の光源装置。
  5. 前記ランプの光出射方向側に配置された封止部に装着された口金が、管軸方向外方に向かうに従って外径が次第に縮小するテーパー部を有することを特徴とする請求項1記載の光源装置。
  6. 請求項1記載の光源装置を備える露光装置であって、
    前記光源から出射した光を当該光の進行方向とは異なる方向に反射する一方で、前記成形部材によりリング状に成形されたエネルギービームを透過する波長選択式反射鏡を備えることを特徴とする露光装置。
  7. 請求項1記載の光源装置を備える露光装置であって、
    前記光源から出射した光を当該光の進行方向とは異なる方向に反射するとともに、前記成形部材によりリング状に成形されたエネルギービームを前記光源の方向に反射する平面反射鏡と、
    前記光源から出射した光を透過する一方で、前記成形部材によりリング状に成形されたエネルギービームを前記光源の方向に反射する波長選択式反射鏡と、を備えることを特徴とする露光装置。
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