JP2019501494A - 傾斜吸収フィーチャを有するレーザ維持プラズマ光源 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、「バルブ及びVUV光学系の温度制御用傾斜被覆」(GRADED COATINGS FOR TEMPERATURE CONTROL OF BULBS AND VUV OPTICAL)と題しIlya Bezel、Anatoly Shchemelinin、Ken Gross、Matthew Panzer、Anant Chimmalgi、Lauren Wilson及びJoshua Wittenbergを発明者とする2015年12月6日付米国暫定特許出願第62/263663号に基づき米国特許法第119条(e)の規定による利益を主張し、且つ当該暫定特許出願の通常(非暫定)特許出願を構成する出願であるので、この参照を以て当該暫定特許出願の全容を本願に繰り入れることにする。
A[%]={max(Q)−Q}/W*100%
を用い算出することができる;式中、Wはガス収容構造103の透過素子104(例.ガラス壁)上における輻射光束の分布であり
W=Pplasma/{4π(R2+z2)}
により与えられるもの、Qはガス収容構造の透過素子104(例.ガス収容構造のガラス壁)により吸収されるパワー密度であり
Q=Aglass・W
により与えられるもの、Aglassはガス収容構造103のガラス製円筒状透過素子104の吸収率である。
Claims (35)
- レーザ維持プラズマランプであり、
ガス塊を収容しうるよう構成されたガス収容構造を備え、そのガス塊内にプラズマを発生させるためポンプレーザからポンプ照明を受光するようそのガス収容構造が構成されており、そのプラズマによって広帯域輻射が放射され、そのガス収容構造が、そのポンプレーザからのポンプ照明のうち少なくとも一部分と、そのプラズマにより放射された広帯域輻射のうち少なくとも一部分と、に対し少なくとも部分的に透明な1個又は複数個の透過性構造を有し、当該1個又は複数個の透過性構造が、そのプラズマによって放射された広帯域輻射により引き起こされる当該1個又は複数個の透過性構造の加熱を制御しうるよう傾斜吸収プロファイルを有するプラズマランプ。 - 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記傾斜吸収プロファイルが、上記1個又は複数個の透過性構造上に射突する広帯域輻射の強度プロファイルに対応しているプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記傾斜吸収プロファイルが、上記1個又は複数個の透過性構造のうち最高強度の広帯域輻射を受光している部分にて、その広帯域輻射のうち少なくとも一部分につき最低吸収率を呈するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記傾斜吸収プロファイルが、上記1個又は複数個の透過性構造のうち最低強度の広帯域輻射を受光している部分にて、その広帯域輻射のうち少なくとも一部分につき最高吸収率を呈するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記傾斜吸収プロファイルが、上記ガス収容構造の一端又は複数端にて最高吸収率、同ガス収容構造の赤道部にて最低吸収率を呈するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記傾斜吸収プロファイルが、上記1個又は複数個の透過性構造の一方向又は複数方向に沿い連続的な吸収率変化を呈するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、
1個又は複数個の透過素子と、
上記1個又は複数個の透過素子の一表面又は複数表面上に配された1個又は複数個の傾斜吸収層であり、当該1個又は複数個の透過素子に沿った位置の関数としてその吸収率が変化する1個又は複数個の傾斜吸収層と、
を備えるプラズマランプ。 - 請求項7に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過素子の上記一表面又は複数表面が、
内表面及び外表面のうち少なくとも一方を含むプラズマランプ。 - 請求項7に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の傾斜吸収層がアルミニウム、炭素及びハフニウムのうち少なくとも一種類で形成されているプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、
1個又は複数個の透過素子を備え、当該1個又は複数個の透過素子の吸収率が当該1個又は複数個の透過素子に沿った位置の関数になるよう一種類又は複数種類の吸収性素材が当該1個又は複数個の透明素子にドーピングされているプラズマランプ。 - 請求項10に記載のプラズマランプであって、上記一種類又は複数種類の吸収性素材が、アルミニウム、炭素及びハフニウムのうち少なくとも一種類を含むプラズマランプ。
- 請求項10に記載のプラズマランプであって、上記一種類又は複数種類の吸収性素材が、使用不能広帯域輻射を吸収する吸収性素材を含むプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、プラズマバルブの透明又は半透明壁のうち少なくとも1個を有するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、プラズマセルの透明又は半透明壁のうち少なくとも1個を有するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、プラズマチャンバの1個又は複数個の窓を有するプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記1個又は複数個の透過性構造が、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、結晶石英、サファイア及び融解石英のうち少なくとも一種類を含むプラズマランプ。
- 請求項1に記載のプラズマランプであって、上記ガスが、
不活性ガス、非不活性ガス、及び二種類以上のガス同士の混合物のうち、少なくとも一種類を含むプラズマランプ。 - 反射性素子及び透過素子のうち少なくとも一方を有する光学部材と、
上記反射性素子及び上記透過素子のうち少なくとも1個の一表面又は複数表面上に配された1個又は複数個の傾斜吸収層であり、プラズマにより放射された広帯域輻射により引き起こされる当該反射性素子及び当該透過素子のうち少なくとも1個の加熱を制御する、1個又は複数個の傾斜吸収層と、
を備える光学装置。 - 請求項18に記載の光学装置であって、その傾斜吸収プロファイルが、上記反射性素子及び上記透過素子のうち少なくとも1個の上に射突する広帯域輻射の強度プロファイルに対応している光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、その傾斜吸収プロファイルが、上記反射性素子及び上記透過素子のうち少なくとも1個の、最高強度の広帯域輻射を受光している部分にて、その広帯域輻射のうち少なくとも一部分につき最低吸収率を呈する光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、その傾斜吸収プロファイルが、上記反射性素子及び上記透過素子のうち少なくとも1個の、最低強度の広帯域輻射を受光している部分にて、その広帯域輻射のうち少なくとも一部分につき最高吸収率を呈する光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、その傾斜吸収プロファイルが、上記反射性素子及び上記透過素子のうち少なくとも1個の一方向又は複数方向に沿い連続的な吸収率変化を呈する光学装置。
- 請求項22に記載の光学装置であって、上記1個又は複数個の透過素子の上記一表面又は複数表面が、
内表面及び外表面のうち少なくとも一方を含む光学装置。 - 請求項18に記載の光学装置であって、上記1個又は複数個の傾斜吸収層が、アルミニウム、炭素及びハフニウムのうち少なくとも一種類で形成されている光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、上記一種類又は複数種類の吸収性素材が、使用不能広帯域輻射を吸収する吸収性素材を含む光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、上記透過素子が、プラズマバルブ、プラズマセル、プラズマチャンバの窓、レンズ及びビームスプリッタのうち少なくとも1個を備える光学装置。
- 請求項18に記載の光学装置であって、上記反射性素子が、鏡及びビームスプリッタのうち少なくとも1個を備える光学装置。
- 広帯域レーザ維持プラズマ光を生成するシステムであって、
照明を生成するよう構成された1個又は複数個のポンプレーザと、
ガス塊を収容しうるよう構成されたガス収容構造を有するプラズマランプであり、そのガス塊内にプラズマを発生させるためポンプレーザからポンプ照明を受光するようそのガス収容構造が構成されており、そのプラズマにより広帯域輻射が放射され、そのガス収容構造が、そのポンプレーザからのポンプ照明のうち少なくとも一部分と、そのプラズマにより放射された広帯域輻射のうち少なくとも一部分と、に対し少なくとも部分的に透明な1個又は複数個の透過性構造を有し、当該1個又は複数個の透過性構造が、そのプラズマによって放射された広帯域輻射により引き起こされる当該1個又は複数個の透過性構造の加熱を制御しうるよう傾斜吸収プロファイルを有するプラズマランプと、
上記プラズマランプ内に収容されているガス塊内でプラズマを発生させるべく、上記1個又は複数個のポンプレーザからの照明をそのガス塊内に集束させるよう構成された1個又は複数個のランプ光学系と、
を備えるシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のランプ光学系が、発生したプラズマにより放射された広帯域輻射のうち少なくとも一部分を集光し、その広帯域輻射を1個又は複数個の付加的光学素子へと差し向けるよう、構成されているシステム。
- 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のランプ光学系が、
楕円体形集光器素子を有するシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のポンプレーザが、
1個又は複数個の赤外レーザを含むシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のポンプレーザが、
連続波レーザを含むシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のポンプレーザが、
パルスレーザを含むシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記1個又は複数個のポンプレーザが、
変調レーザを含むシステム。 - 請求項28に記載のシステムであって、上記ガスが、
不活性ガス、非不活性ガス、及び二種類以上のガス同士の混合物のうち、少なくとも一種類を含むシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021119800A JP7192056B2 (ja) | 2015-12-06 | 2021-07-20 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562263663P | 2015-12-06 | 2015-12-06 | |
US62/263,663 | 2015-12-06 | ||
US15/360,397 | 2016-11-23 | ||
US15/360,397 US10283342B2 (en) | 2015-12-06 | 2016-11-23 | Laser sustained plasma light source with graded absorption features |
PCT/US2016/064980 WO2017100130A1 (en) | 2015-12-06 | 2016-12-05 | Laser sustained plasma light source with graded absorption features |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021119800A Division JP7192056B2 (ja) | 2015-12-06 | 2021-07-20 | 光学装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019501494A true JP2019501494A (ja) | 2019-01-17 |
JP2019501494A5 JP2019501494A5 (ja) | 2019-12-26 |
JP6917992B2 JP6917992B2 (ja) | 2021-08-11 |
Family
ID=58798714
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018529104A Active JP6917992B2 (ja) | 2015-12-06 | 2016-12-05 | 傾斜吸収フィーチャを有するレーザ維持プラズマ光源 |
JP2021119800A Active JP7192056B2 (ja) | 2015-12-06 | 2021-07-20 | 光学装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021119800A Active JP7192056B2 (ja) | 2015-12-06 | 2021-07-20 | 光学装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10283342B2 (ja) |
EP (1) | EP3357081B1 (ja) |
JP (2) | JP6917992B2 (ja) |
CN (1) | CN108369891B (ja) |
WO (1) | WO2017100130A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10690589B2 (en) * | 2017-07-28 | 2020-06-23 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with forced flow through natural convection |
US10568195B2 (en) | 2018-05-30 | 2020-02-18 | Kla-Tencor Corporation | System and method for pumping laser sustained plasma with a frequency converted illumination source |
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JP2016513351A (ja) * | 2013-02-22 | 2016-05-12 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3907041B2 (ja) | 2001-10-11 | 2007-04-18 | 日本碍子株式会社 | 高圧放電灯用放電管および高圧放電灯 |
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US7989786B2 (en) | 2006-03-31 | 2011-08-02 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7435982B2 (en) | 2006-03-31 | 2008-10-14 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US8525138B2 (en) | 2006-03-31 | 2013-09-03 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7705331B1 (en) | 2006-06-29 | 2010-04-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for providing illumination of a specimen for a process performed on the specimen |
TWI457715B (zh) | 2008-12-27 | 2014-10-21 | Ushio Electric Inc | Light source device |
US9099292B1 (en) | 2009-05-28 | 2015-08-04 | Kla-Tencor Corporation | Laser-sustained plasma light source |
US8035285B2 (en) | 2009-07-08 | 2011-10-11 | General Electric Company | Hybrid interference coatings, lamps, and methods |
US9579662B2 (en) | 2010-08-27 | 2017-02-28 | Aerosol Dynamics Inc. | Condensation-evaporator nanoparticle charger |
US9318311B2 (en) | 2011-10-11 | 2016-04-19 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for laser-sustained plasma light source |
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US9390902B2 (en) | 2013-03-29 | 2016-07-12 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convective flow in a light-sustained plasma |
US9185788B2 (en) | 2013-05-29 | 2015-11-10 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convection within a plasma cell |
US9723703B2 (en) * | 2014-04-01 | 2017-08-01 | Kla-Tencor Corporation | System and method for transverse pumping of laser-sustained plasma |
US10887974B2 (en) | 2015-06-22 | 2021-01-05 | Kla Corporation | High efficiency laser-sustained plasma light source |
-
2016
- 2016-11-23 US US15/360,397 patent/US10283342B2/en active Active
- 2016-12-05 EP EP16873646.0A patent/EP3357081B1/en active Active
- 2016-12-05 JP JP2018529104A patent/JP6917992B2/ja active Active
- 2016-12-05 CN CN201680071090.0A patent/CN108369891B/zh active Active
- 2016-12-05 WO PCT/US2016/064980 patent/WO2017100130A1/en active Application Filing
-
2021
- 2021-07-20 JP JP2021119800A patent/JP7192056B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013539592A (ja) * | 2010-08-30 | 2013-10-24 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 段階的な吸収被覆を具備するランプ |
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JP2016513351A (ja) * | 2013-02-22 | 2016-05-12 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108369891B (zh) | 2021-06-18 |
US20170164457A1 (en) | 2017-06-08 |
CN108369891A (zh) | 2018-08-03 |
EP3357081A1 (en) | 2018-08-08 |
JP6917992B2 (ja) | 2021-08-11 |
WO2017100130A1 (en) | 2017-06-15 |
EP3357081A4 (en) | 2019-06-12 |
JP7192056B2 (ja) | 2022-12-19 |
EP3357081B1 (en) | 2020-04-29 |
US10283342B2 (en) | 2019-05-07 |
JP2021170548A (ja) | 2021-10-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191115 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
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