JP2010276724A - 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - Google Patents

多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 Download PDF

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TW099111153A TWI461837B (zh) 2009-05-26 2010-04-09 多調式光罩、多調式光罩之製造方法、及圖案轉印方法
KR1020100048480A KR101171504B1 (ko) 2009-05-26 2010-05-25 다계조 포토마스크, 다계조 포토마스크의 제조 방법, 및 패턴 전사 방법
CN2010101898165A CN101900932B (zh) 2009-05-26 2010-05-26 多色调光掩模、多色调光掩模制造方法以及图案转印方法

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013148892A (ja) * 2011-12-21 2013-08-01 Dainippon Printing Co Ltd 大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法
CN113249699A (zh) * 2021-05-13 2021-08-13 沈阳仪表科学研究院有限公司 基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置
JP2022135083A (ja) * 2021-03-04 2022-09-15 株式会社エスケーエレクトロニクス 多階調フォトマスクの製造方法及び多階調フォトマスク
JP2023182942A (ja) * 2022-06-15 2023-12-27 Hoya株式会社 転写用マスク、および、表示装置の製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102426411A (zh) * 2011-07-01 2012-04-25 上海华力微电子有限公司 一种保护掩模板的方法
CN102707575B (zh) * 2012-05-18 2015-02-25 北京京东方光电科技有限公司 掩模板及制造阵列基板的方法
JP5635577B2 (ja) * 2012-09-26 2014-12-03 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
JP6157832B2 (ja) * 2012-10-12 2017-07-05 Hoya株式会社 電子デバイスの製造方法、表示装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク
KR102170761B1 (ko) 2013-07-22 2020-10-27 삼성전자주식회사 반도체 소자의 패턴 형성 방법
JP6586344B2 (ja) * 2015-10-20 2019-10-02 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、および、表示装置の製造方法
JP6259509B1 (ja) * 2016-12-28 2018-01-10 株式会社エスケーエレクトロニクス ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法
KR20210016814A (ko) * 2019-08-05 2021-02-17 주식회사 포트로닉스 천안 3-톤 이상의 마스크 제조 방법
CN119861525B (zh) * 2025-01-20 2025-10-28 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000181048A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Sharp Corp フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法
JP2007249198A (ja) * 2006-02-20 2007-09-27 Hoya Corp ４階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク
JP2010032737A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Hoya Corp 多階調フォトマスク及びパターン転写方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3080023B2 (ja) * 1997-02-20 2000-08-21 日本電気株式会社 露光用フォトマスク
US5935736A (en) * 1997-10-24 1999-08-10 Taiwan Semiconductors Manufacturing Company Ltd. Mask and method to eliminate side-lobe effects in attenuated phase shifting masks
TW363147B (en) * 1997-11-22 1999-07-01 United Microelectronics Corp Phase shifting mask
JP2002365784A (ja) * 2001-06-05 2002-12-18 Sony Corp 多階調マスク、レジストパターンの形成方法、及び光学素子の製造方法
KR20060120613A (ko) * 2003-09-05 2006-11-27 쇼오트 아게 감쇄 위상 편이 마스크 블랭크 및 포토 마스크
JP4446395B2 (ja) * 2006-02-02 2010-04-07 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥修正方法、及びグレートーンマスク
KR101255616B1 (ko) * 2006-07-28 2013-04-16 삼성디스플레이 주식회사 다중톤 광마스크, 이의 제조방법 및 이를 이용한박막트랜지스터 기판의 제조방법
TWI422962B (zh) * 2006-12-05 2014-01-11 Hoya Corp 灰階光罩之檢查方法、液晶裝置製造用灰階光罩之製造方法以及圖案轉印方法
JP5036328B2 (ja) * 2007-01-24 2012-09-26 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスク及びパターン転写方法
JP5036349B2 (ja) * 2007-02-28 2012-09-26 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥修正方法及びグレートーンマスクの製造方法
JP5057866B2 (ja) * 2007-07-03 2012-10-24 Ｈｏｙａ株式会社 グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法
KR20090009618A (ko) * 2007-07-20 2009-01-23 엘지디스플레이 주식회사 3톤 노광 마스크
KR20090044513A (ko) * 2007-10-31 2009-05-07 주식회사 에스앤에스텍 그레이톤 블랭크 마스크 및 그레이톤 포토마스크의제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000181048A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Sharp Corp フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法
JP2007249198A (ja) * 2006-02-20 2007-09-27 Hoya Corp ４階調フォトマスクの製造方法、及びフォトマスクブランク
JP2010032737A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Hoya Corp 多階調フォトマスク及びパターン転写方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013148892A (ja) * 2011-12-21 2013-08-01 Dainippon Printing Co Ltd 大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法
JP2022135083A (ja) * 2021-03-04 2022-09-15 株式会社エスケーエレクトロニクス 多階調フォトマスクの製造方法及び多階調フォトマスク
JP7570255B2 (ja) 2021-03-04 2024-10-21 株式会社エスケーエレクトロニクス 多階調フォトマスクの製造方法及び多階調フォトマスク
CN113249699A (zh) * 2021-05-13 2021-08-13 沈阳仪表科学研究院有限公司 基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置
CN113249699B (zh) * 2021-05-13 2022-11-04 沈阳仪表科学研究院有限公司 基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置
JP2023182942A (ja) * 2022-06-15 2023-12-27 Hoya株式会社 転写用マスク、および、表示装置の製造方法

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