JP2010183106A - インプリントリソグラフィ - Google Patents

Abstract

【課題】新規のインプリントリソグラフィ装置および方法を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ装置は、リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、リソグラフィ基板に流体を放出するように構成されたノズルを設けた複数の印刷ヘッドを備え、複数のノズルはリソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在し、複数のノズルおよびリソグラフィ基板は相互に対して相対的に移動可能である。
【選択図】図５ａ

Description

[0001] 本発明はインプリントリソグラフィに関する。

[0002] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は従来、例えば集積回路（ＩＣ）、フラットパネルディスプレイ、超高密度ハードディスク、レンズアレイ、光学的バンドギャップデバイスおよび微細構造を含む他のデバイスの製造に使用されてきた。

[0003] リソグラフィのパターンの特徴形体（feature）サイズを小さくすることが望ましい。というのは、これによって任意の基板面積上の特徴形体の密度を増大できるからである。フォトリソグラフィでは、より短い波長の放射線を使用することによって、解像度の向上を達成することができる。しかし、このような小型化に伴う問題がある。現在のシステムは、波長が１９３ｎｍの領域の光源を採用し始めているが、このレベルでも回折限界が障害になる。波長が小さくなると、材料の透明性が非常に低くなる。解像度の向上が可能な光学リソグラフィの機械は複雑な光学系および希少な材料を必要とし、その結果、非常に高価になる。

[0004] １００ｎｍ以下の特徴形体を印刷するためのインプリントリソグラフィとして知られる代替物は、物理的な型またはインプリントテンプレートを使用してパターンをインプリント可能な媒体にインプリントすることにより、パターンを基板に転写することを含む。インプリント可能な媒体は、基板または基板の表面にコートする材料でよい。インプリント可能な媒体は機能的であるか、パターンを下にある表面に転写する「マスク」として使用することができる。インプリント可能な媒体は、例えば、インプリントテンプレートによって画定されたパターンを転写すべき半導体材料などの基板に付着させるレジストとして提供することができる。したがって、インプリントリソグラフィは基本的に、インプリントテンプレートの微細構造が、基板上に生成されるパターンを画定するマイクロメータまたはナノメータ規模の成形プロセスである。パターンは、光学リソグラフィプロセスと同様に層状でよく、したがってインプリントリソグラフィは基本的に、ＩＣの製造のような用途に使用することができる。

[0005] インプリントリソグラフィの解像度は、通常、インプリントテンプレートの作製プロセスによってのみ制限される。例えば、インプリントリソグラフィは、従来の光学リソグラフィプロセスで達成可能なものと比較して解像度およびラインエッジ粗さが大幅に改善された５０ｎｍ以下の範囲の特徴形体を生成するために使用されてきた。また、インプリントプロセスは、光学リソグラフィプロセスで典型的に必要とされる高価な光学系、先進の照明源または特殊なレジスト材料を必要としない。

[0006] 現在のインプリントリソグラフィプロセスは、以下で言及するように、特にオーバレイ精度および高いスループットの達成に関して幾つかの欠点を有する。しかし、インプリントリソグラフィで達成可能な解像度およびラインエッジ粗さの大幅な改善は、以上のおよび他の問題に取り組む強力な原動力となる。

[0007] 様々なインプリントリソグラフィプロセスでは、インプリント可能な媒体の層を基板にスピンコートする。しかし、スピンコートを使用すると、基板上でインプリント可能な媒体材料の均一な厚さを維持することが困難である。また、基板の大きい区域をスピンコートで覆うと、インプリント可能な媒体の一部が別の部分とは異なる速度で硬化する可能性が増大する。例えば、ＵＶ光を使用してインプリント可能な媒体を硬化するインプリントリソグラフィプロセスでは、パターンがインプリントされる前に、スプリアスＵＶ光がインプリント可能な媒体を硬化させることがある。提案されている解決法は、印刷（例えばインクジェット印刷、バブルジェット（登録商標）印刷など、または流体の小滴を放出できる任意の印刷方法）を使用して、インプリント可能な媒体（または付着すべき任意の層）を基板に付着させることである。（例えば）インクジェット印刷技術を使用することにより、インプリント可能な媒体の小さい液滴を使用して、パターンをインプリントすべき基板の区域を覆うことができる。インプリント可能な材料の小さい区域を基板に均一に付着できるように、基板に付着するインプリント可能な材料の液滴のサイズを、正確に制御し、誘導することができる。

[0008] 使用するインプリント可能な材料の液滴のサイズは、任意の表面積を覆うのに必要な液滴の数と反比例することが知られている。しかし、インプリント可能な媒体を覆うのに使用するインプリント可能な材料の液滴のサイズが大きいほど、相互に流入するために必要な隣接する液滴が長くなる。したがって、任意の表面積に付着するのに必要な液滴の大きさは小さくなるが、より長い期間が経過するまで、表面が均一に覆われないのももっともである（つまり、液滴が相互に接触して、１つの層を形成するのに、さらに長い時間がかかる）。これらの問題を克服し、基板の均一な被覆と基板の迅速な被覆とのバランスをとるために、インプリント可能な材料の小さい液滴を付着させるが、高い周波数（例えば５ｋＨｚ）である１つのインクジェットノズル（単一ノズル液体ディスペンサとも呼ばれる）を使用することが提案されている。このアプローチの一例が米国特許第ＵＳ２００４／０００８３３４Ａ１に記載されている。提案されたこの解決法は、基板を均一に覆うことができ、液滴が相互に流入する時間も短縮するが、それでもインプリント可能な媒体が基板の区域全体に、または基板の所望の区域に付着するには長い時間がかかる。

[0009] 新規のインプリントリソグラフィ装置および方法を提供することが、本発明の目的である。

[0010] 本発明の第一の態様によれば、リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、リソグラフィ基板に流体を放出するように構成されたノズルを設けた複数の印刷ヘッドとを備えたインプリントリソグラフィ装置であって、印刷ヘッドおよびリソグラフィ基板は相互に対して相対的に移動可能であり、複数の印刷ヘッドは隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置されている、インプリントリソグラフィ装置が提供される。

[0011] 本発明の第二の態様によれば、流体をリソグラフィ基板に放出する流体ディスペンサであって、流体をリソグラフィ基板に放出するように構成されたノズルを有する複数の印刷ヘッドを備え、複数の印刷ヘッドは隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置されている、流体ディスペンサが提供される。

[0012] 本発明の第三の態様によれば、リソグラフィ基板を基板テーブルに設け、複数の印刷ヘッドを隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置し、それからソグラフィ基板またはリソグラフィ基板の所望のターゲット区域が流体で覆われるようにノズルから流体を放出しながら、ノズルおよびリソグラフィ基板を相互に対して相対的に移動させることを含む、インプリントリソグラフィ方法が提供される。

[0013] 本発明の第四の態様によれば、リソグラフィ基板に液滴を放出するように構成されたノズルを有する流体ディスペンサを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、さらに、液滴の特性を測定するように構成された測定装置を備える、インプリントリソグラフィ装置が提供される。

[0014] 本発明の第五の態様によれば、流体ディスペンサからリソグラフィ基板に液滴を放出することを含むインプリントリソグラフィ方法であって、流体ディスペンサからリソグラフィ基板に放出する間に液滴の特性を測定することを含む、インプリントリソグラフィ方法が提供される。

[0015] 本発明の第六の態様によれば、インプリントリソグラフィ流体ディスペンサのノズルから放出される液滴の特性を測定する測定装置であって、検出器と、ノズルとリソグラフィ基板の間を飛行中の液滴または液滴からの影または反射を検出器に結像するように構成された光学システムとを備える、測定装置が提供される。

[0016] 本発明の第七の態様によれば、リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、リソグラフィ基板に流体を放出するように構成された複数のノズルを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、複数のノズルはリソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在し、ノズルおよびリソグラフィ基板は相互に対して相対的に移動可能である、インプリントリソグラフィ装置が提供される。

[0017] 本発明の第八の態様によれば、リソグラフィ基板に流体を放出する流体ディスペンサであって、リソグラフィ基板に流体を放出するように構成された複数のノズルを備え、ノズルはリソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する、流体ディスペンサが提供される。

[0018] 本発明の第九の態様によれば、基板テーブルにリソグラフィ基板を設け、リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する複数のノズルを設け、それからリソグラフィ基板またはリソグラフィ基板の所望のターゲット区域が流体で覆われるようにノズルから流体を放出しながら、ノズルおよびリソグラフィ基板を相互に対して相対的に移動させることを含む、インプリントリソグラフィ方法が提供される。

[0019] 本発明の１つまたは複数の実施形態は、パターン化されたテンプレートを流動状態のインプリント可能な媒体にインプリントされる任意のインプリントリソグラフィプロセスに適用可能であり、例えば以下で説明するような熱およびＵＶインプリントリソグラフィに適用することができる。本発明の１つまたは複数の実施形態を理解するために、本明細書で与えられ、当技術分野で知られているよりさらに詳細なインプリントプロセスの説明は必要ない。

[0020] 本発明の１つまたは複数の実施形態のさらなる特徴は、以下の説明から明白になる。

[0021] 次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照しながら、ほんの一例として説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示している。
[0022] 従来のソフトリソグラフィプロセスの例を示す図である。 [0022] 従来の熱リソグラフィプロセスの例を示す図である。 [0022] 従来のＵＶリソグラフィプロセスの例を示す図である。 [0023] レジスト層をパターン化するために熱およびＵＶインプリントリソグラフィを使用する場合に使用される２段階エッチングプロセスを示す図である。 [0024] テンプレートおよび基板上に付着させる典型的なインプリント可能レジスト層を示す略図である。 [0025] 基板に付着させた複数のインプリント可能レジスト層を示す略図である。 [0026] 本発明の実施形態によるインプリントリソグラフィ装置を示す略図である。 [0026] 本発明の実施形態によるインプリントリソグラフィ装置を示す略図である。 [0027] ａ）からｃ）は、本発明の実施形態の動作原理を示す図である。 [0028] 本発明の別の実施形態によるインプリントリソグラフィ装置を示す略図である。 [0029] 図５および図６に示した実施形態を組み合わせるインプリントリソグラフィ装置を示す略図である。

[0030] インプリントリソグラフィには、一般的に熱インプリントリソグラフィおよびＵＶインプリントリソグラフィと呼ばれる２つの基本的アプローチがある。ソフトリソグラフィとして知られる第３のタイプの「印刷」リソグラフィもある。これらの図を図１ａから図１ｃに示す。

[0031] 図１ａは、分子１１（通常はチオールなどのインク）の層を可撓性テンプレート１０（典型的にはポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）から作製する）から基板１２と平坦化および転写層１２’との上に支持されたレジスト層１３へと転写することを含むソフトリソグラフィプロセスを示す。テンプレート１０は、その表面上に特徴形体のパターンを有し、分子層が特徴形体の上に配置されている。テンプレート１０をレジスト層１３に押しつけると、分子１１の層がレジストに付着する。テンプレート１０をレジスト１３から外すと、分子１１の層がレジスト１３に付着している。転写した分子層１１で覆われていないレジスト１３の区域は基板１２までエッチングされるように、レジストの残留層をエッチングする。

[0032] ソフトリソグラフィに使用されるテンプレートは容易に変形され得るので、例えばナノメートル規模などの高解像度の用途に適さないことがある。テンプレートの変形がインプリントされたパターンに悪影響を及ぼし得るからである。さらに、同じ領域を複数回重ね合わせる多層構造の作製時には、ソフトインプリントリソグラフィはナノメートル規模でのオーバレイ精度を提供することができない。

[0033] 熱インプリントリソグラフィ（または熱エンボス）は、ナノメートル規模で使用する場合、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）としても知られている。プロセスは、磨耗および変形に対する抵抗がより高い例えばシリコンまたはニッケルから作製したより硬質のテンプレートを使用する。これは、例えば米国特許第６，４８２，７４２号に記載され、図１ｂに図示されている。典型的なホットインプリントのプロセスでは、固体テンプレートを、基板１２の表面に注型されている熱硬化性または熱可塑性ポリマ樹脂１５にインプリントする。樹脂は、例えばスピンコートし、基板表面１２に、またはさらに典型的には（例えば図示のように）平坦化および転写層１２’にベークすることができる。「硬質」という用語は、インプリントテンプレートについて述べる場合、一般的に「硬質」材料と「軟質」材料の間と見なされている、例えば「硬質」ゴムなどの材料を含む。インプリントテンプレートとして使用するために特定の材料が適切かは、用途の要件によって決定される。

[0034] 熱硬化性ポリマ樹脂を使用する場合は、テンプレートと接触すると、樹脂がテンプレート上に画定されたパターン特徴形体に流入できるほど十分に流動可能になるような温度まで、樹脂を加熱する。次に、樹脂の温度を上昇させて樹脂を熱硬化し（例えば架橋し）、これにより固化して不可逆的に所望のパターンになる。これで、テンプレートが除去され、パターン化した樹脂が冷却される。

[0035] 熱インプリントリソグラフィプロセスに使用する熱可塑性ポリマ樹脂の例は、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン、ポリ（ベンジルメタクリレート）またはポリ（シクロヘキシルメタクリレート）である。熱可塑性樹脂は、テンプレートでインプリントする直前に自由に流動可能な状態になるように加熱される。通常は、樹脂のガラス転移温度より非常に高い温度まで熱可塑性樹脂を加熱する必要がある。テンプレートを流動可能な樹脂に押しつけ、樹脂がテンプレート上に画定された全てのパターン特徴形体に確実に流入するように、十分な圧力を加える。次に、テンプレートを所定の位置にした状態で、樹脂をガラス転移温度の下まで冷却すると、樹脂は不可逆的に所望のパターンになる。パターンは、樹脂の残留層から浮き彫りになった特徴形体で構成され、次にパターン特徴形体のみを有するように適切なエッチングプロセスでこれが除去される。

[0036] 固化した樹脂からテンプレートを除去した後、通常は図２ａから図２ｃに示すように２段階のエッチングプロセスを実行する。基板２０は、図２ａに示すように、すぐ上に平坦化および転写層２１を有している。平坦化および転写層の目的は２つある。これはテンプレートの表面と実質的に平行な表面を提供し、これはテンプレートと樹脂の間の接触部が平行であるのを保証するのに役立ち、さらに本明細書で説明するように印刷された特徴形体のアスペクト比を改善する働きもする。

[0037] テンプレートを除去した後、固化した樹脂の残留層２２が、所望のパターンに成形されて平坦化および転写層上に残される。第１エッチングは等方性で、残留層２２の一部を除去し、その結果、図２ｂで示すように形のアスペクト比が不良となり、ここでＬ１は特徴形体２３の高さである。第２エッチングは異方性（または選択的）であり、アスペクト比を改善する。異方性エッチングは、固化した樹脂で覆われていない平坦化および転写層２１の部分を除去し、図２ｃで示すように特徴形体２３のアスペクト比を（Ｌ２／Ｄ）へと増大させる。その結果、エッチング後に基板上に残った厚さのコントラストは、例えばインプリントしたポリマに十分に抵抗性がある場合にドライエッチング用マスクとして、例えばリフトオフプロセスの一ステップとして使用することができる。

[0038] 熱インプリントリソグラフィは、パターンの転写をより高い温度で実行するばかりでなく、テンプレートを除去する前に樹脂が十分固化していることを保証するために、比較的大きい温度差も必要になるという欠点を有する。３５℃から１００℃の温度差は文献から知られている。例えば基板とテンプレートとの異なる熱膨張率が、転写したパターンの歪みを引き起こすことがある。この問題は、インプリント可能な材料の粘性のせいで、インプリントステップに必要な比較的高い圧力によって悪化し、これは基板に機械的変形を誘発することがあり、これもパターンを歪める。

[0039] 他方で、ＵＶインプリントリソグラフィは、このような高い温度および温度変化を伴わず、このような粘性のインプリント可能な材料も必要としない。むしろ、ＵＶインプリントリソグラフィは、透明なテンプレートおよびＵＶ硬化性液体を使用し、これは典型的には例えばアクリレートまたはメタクリレートなどのモノマーである。概して、モノマーと開始剤の混合物のような光重合性材料を使用することができる。硬化性液体は、例えばジメチルシロキサン誘導体も含んでよい。このような材料は、熱インプリントリソグラフィで使用する熱硬化性および熱可塑性樹脂より粘性が低く、その結果、より速く移動してテンプレートパターンの特徴形体を充填する。低温および低圧の作業は、より高いスループット能力にも好都合である。「ＵＶインプリントリソグラフィ」という名称は常にＵＶ光を使用することを暗示するが、任意の適切な化学線を使用してよいことが当業者には認識される（例えば可視光を使用してよい）。したがって、本明細書でＵＶインプリントリソグラフィ、ＵＶ光、ＵＶ硬化性材料などに言及した場合、それは任意の適切な化学線を含むものと解釈され、ＵＶ光のみに制限されると解釈してはならない。化学線に関するさらなる情報は、例えばJ. Haismaの「Mold assisted nano lithography. A process for reliable pattern replication」(J. Vac. Science and Technology B14 (6) Nov/Dec 1996) を参照することができる。

[0040] ＵＶインプリントプロセスの例を図１ｃに示す。図１ｂのプロセスと同様の方法で、クォーツテンプレート１６をＵＶ硬化性樹脂１７に適用する。熱可塑性樹脂を使用する熱エンボスのように温度を上昇させるか、熱可塑性樹脂を使用した場合のように温度を循環させるのではなく、樹脂１７を重合し、したがって硬化させるために、クォーツテンプレート１６を通してこれにＵＶ光を加える。テンプレート１６を除去した後、レジストの残留層をエッチングする残りのステップは、本明細書で説明した熱エンボスプロセスと同じである。通常使用されるＵＶ硬化性樹脂は、典型的な熱可塑性樹脂より粘性がはるかに低く、したがってより低いインプリント圧力を使用することができる。より低い圧力による物理的変形の減少は、高い温度および温度変化による変形の減少とともに、ＵＶインプリントリソグラフィを高いオーバレイ精度を必要とする用途により適したものにする。また、ＵＶインプリントテンプレートの透明の性質は、インプリントと同時に光学的に位置合わせする技術に対応することができる。

[0041] このタイプのインプリントリソグラフィは主にＵＶ硬化性材料を使用し、したがって一般的にＵＶインプリントリソグラフィと呼ばれるが、他の波長の放射を使用して、適切に選択した材料を硬化する（例えば重合または架橋反応を活性化する）ことができる。概して、適切なインプリント可能な材料が使用可能であれば、このような化学反応を開始可能な任意の放射を使用することができる。代替的な「活性化放射」は、例えば可視光、赤外線光、ｘ線放射および電子ビーム放射を含む。以上および以下の全体的な説明では、ＵＶインプリントリソグラフィへの言及およびＵＶ光の使用は、以上および他の活性化放射の可能性を排除するものではない。

[0042] 基板表面に実質的に平行に維持される平面テンプレートを使用するインプリントシステムの代替物として、ローラインプリントシステムが開発されている。テンプレートをローラ上に形成するが、それ以外はインプリントプロセスが平面テンプレートを使用するインプリントに非常に類似した熱およびＵＶローラインプリントシステムが提案されている。

[0043] ＩＣ製造業者などが従来使用している光学ステッパと同様の方法で基板を小さいステップでパターン化するために使用できるステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィ（例えば米国特許第ＵＳ２００４／０１２４５６６号参照）として知られるＵＶインプリント技術が、特に開発されている。これは、テンプレートをＵＶ硬化性樹脂にインプリントすることによって、１回に基板の小さい区域に印刷し、テンプレートを通してＵＶ光を「フラッシュ」してテンプレートの下の樹脂を硬化させ、テンプレートを除去し、基板の隣接領域へとステップを進め、作業を繰り返すことを含む。このような逐次移動式プロセスの小さいフィールドサイズは、パターンの歪みおよびＣＤの変動を最小限に抑え、したがってＳＦＩＬはＩＣおよび高いオーバレイ精度を必要とする他のデバイスの製造に特に適している。

[0044] 原則的にはＵＶ硬化性樹脂を例えばスピンコートなどによって基板表面全体に適用することができるが、これは、ＵＶ硬化性樹脂の揮発性のせいで問題になる。

[0045] この問題に取り組む１つのアプローチは、テンプレートでインプリントする直前に樹脂を小滴にして基板のターゲット部分に配量する、いわゆる「ドロップオンデマンド」プロセスである。液体の配量は、基板の特定のターゲット部分に特定の体積の液体が付着するように制御される。液体は、様々なパターンで配量することができ、注意深く制御した液体の体積とパターンの配置との組合せを使用して、パターン化をターゲット区域に限定することができる。

[0046] 上述したようにオンデマンドで樹脂を配量することは、些細なことではない。小滴のサイズおよび間隔は、テンプレートの特徴形体を充填するために十分な樹脂があり、それと同時に延びて望ましくない厚さまたは不均一な樹脂層になる可能性がある余分な樹脂を最小限に抑えることを保証するために注意深く制御される。というのは、隣接する液滴が流体に接触するとすぐに、樹脂に流れる場所がなくなるからである。過剰に厚い、または不均一な残留層に伴う問題について、以下で検討する。

[0047] 図３は、テンプレート、インプリント可能な材料（硬化性モノマー、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂など）、および基板の相対的寸法を示す。硬化性樹脂層の厚さｔに対する基板の幅Ｄの比率は、約１０⁶である。特徴形体がテンプレートから突出して基板を損傷するのを回避するために、寸法ｔはテンプレート上に突出する特徴形体の深さより大きいことが認識される。

[0048] スタンピング後に残った残留層は、下にある基板の保護に有用であるが、本明細書で言及するように、特に高い解像度および／またはオーバレイ精度が望ましい場合に問題の発生源になる。第１「ブレークスルー」エッチは等方性（非選択的）であり、したがってある程度残留層ばかりでなくインプリントされた特徴形体も腐食する。これは、残留層が過度に厚いおよび／または不均一である場合に悪化し得る。

[0049] この問題は、例えば下にある基板に最終的に形成される線の太さの変動（つまり微小寸法の変動）につながる。第２異方性エッチで転写層にエッチングされる線の太さの均一性は、樹脂に残された特徴形体のアスペクト比および形状の完全性に依存する。残留樹脂層が不均一な場合、非選択的な第１エッチは、頂部が「丸まった」状態でこれらの特徴形体の幾つかを残すことがあり、したがって第２およびその後のエッチングプロセスで線太さの良好な均一性を保証するほど十分に良く画定されない。

[0050] 原則的に、上記の問題は、残留層が可能な限り薄いことを保証することによって軽減することができるが、これには望ましくないほど大きい圧力（基板の変形を増大させる）および比較的長いインプリント時間（スループットを減少させる）を加える必要があることがある。

[0051] テンプレートは、インプリントリソグラフィシステムの重大な構成要素である。以上で述べたように、テンプレート表面上の特徴形体の解像度は、基板上に印刷される特徴形体で達成可能な解像度の制限要素である。熱およびＵＶリソグラフィに使用するテンプレートは一般的に、２段階のプロセスで形成される。最初に、例えば電子ビームの書き込みを使用して所望のパターンを書き込み、レジストに高解像度のパターンを与える。次に、レジストパターンをクロムの薄い層に転写し、これはパターンをテンプレートの母材に転写する最終的な異方性エッチングステップのためのマスクを形成する。例えばイオンビームリソグラフィ、Ｘ線リソグラフィ、極ＵＶリソグラフィ、エピタキシャル成長、薄膜蒸着、化学的エッチング、プラズマエッチング、イオンエッチングまたはイオンミリングなどの他の技術を使用してもよい。一般的に、非常に高い解像度が可能な技術が好ましい。というのは、テンプレートが事実上１倍のマスクであり、転写されるパターンの解像度はテンプレート上のパターンの解像度によって制限されるからである。

[0052] テンプレートの剥離特徴も重要な考慮事項になり得る。テンプレートは、例えば表面処理材料で処理して、小さい表面エネルギを有するテンプレート上に薄い剥離層を形成することができる（薄い剥離層は基板にも付着させることができる）。

[0053] 以上ではＵＶ硬化性液体を基板の付着させることについて言及しているが、液体はテンプレートに付着させてもよく、概して同じ技術および考慮事項が当てはまる。

[0054] インプリントリソグラフィの開発における別の重要な考慮事項は、テンプレートの機械的耐久性である。テンプレートは、レジストのスタンピング中に大きい力を受け、熱リソグラフィの場合には、極端な圧力および温度にも曝される。これはテンプレートの磨耗を引き起こし、基板上にインプリントされるパターンの形状に悪影響を及ぼし得る。

[0055] 熱インプリントリソグラフィでは、パターン化すべき基板と同じ、または同様の材料のテンプレートを使用することには、２つの間の熱膨張率の差を縮小するために潜在的な利点がある。ＵＶインプリントリソグラフィでは、テンプレートは少なくとも部分的に化学線に対して透明であり、往々にしてクォーツのテンプレートが使用される。本文ではＩＣの製造におけるインプリントリソグラフィの使用に特に言及しているが、説明されたインプリント装置および方法には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導および検出パターン、ハードディスク磁気媒体、フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどである。

[0056] 以上の説明では、事実上レジストとして作用するインプリント可能な樹脂を介してテンプレートパターンを基板に転写するためのインプリントリソグラフィの使用に言及しているが、場合によってはインプリント可能な材料自体が機能的材料で、例えば特に電気または熱伝導性、光学的直線または非直線応答などの機能を有してよい。例えば機能的材料は伝導層、半導体層、誘電層または別の望ましい機械的、電気的または光学的特性を有する層を形成することができる。幾つかの有機物質も適切な機能的材料になる。このような応用は、本発明の実施形態の範囲に入る。

[0057] インプリントリソグラフィプロセスの問題の１つは、パターンをインプリント可能な媒体にインプリントできる速度である。パターンのインプリントにかかる時間は、様々な状況に依存する。例えばインプリント可能な媒体を基板に付着させるのにかかる時間、いったん付着したインプリント可能な媒体がインプリント可能な状態に到達する（例えばインプリント可能な媒体の液滴が合体する）のにかかる時間、インプリント可能な媒体にインプリントしたら、インプリント可能な媒体がパターン化したテンプレートの周囲およびその中に流れるのにかかる時間、およびパターンが自身内に形成された後、インプリント可能な媒体の効果にかかる時間などである。上述したように、基板に付着する媒体の量および位置を正確に制御できるように、インプリント可能な媒体を液滴の形態で基板に付着させることができる。これは、インプリント可能な媒体が、インプリントの準備が整う状態（例えば液滴が合体した時）になるのに必要な時間を短縮することができる。上述したように、インプリント可能な媒体の液滴が合体する時間を短縮し、一方で基板がインプリント可能な媒体で良好に被覆されるのを保証するために、非常に小さい液滴を使用することが提案されている。しかし、基板の大きい区域を被覆する必要があるか、その基板の複数の区域をインプリント可能な媒体で覆う必要がある場合は、１つのインクジェットノズルでは必要な量のインプリント可能な媒体を基板に付着させるのに長い時間がかかることがある。同様に、１列のインクジェットノズルでは、必要な量のインプリント可能な媒体を基板に付着させるのに長い時間がかかることがある。

[0058] インプリントリソグラフィ処理のスループットを改善するために、インプリント可能な媒体の複数の区域を基板に付着させ、これらの区域を、自身上に配置した複数のテンプレートを有するスタンプで同時にインプリントし、テンプレートの位置が、基板に付着させるインプリント可能な媒体の区域の位置に対応することが提案されている。図４は、自身上にインプリント可能な媒体の複数の区域２が付着した基板１を示す。複数の区域を同時にインプリントすることにより、１つのスタンププロセスで、より多数のインプリントを達成することができる。このプロセスが有効であるために、インプリント可能な媒体を、短期間で基板の必要な複数の区域に付着させ、スループットが最大になることを保証する必要がある。しかし、１つのインクジェットノズルを使用するか、１列のインクジェットノズルを使用すると、必要なインプリント可能な媒体を基板に適用するのに長い期間がかかる。

[0051] 図５ａは本発明の一実施形態を示す。図５ａは、可動な基板テーブル（図示せず）によって支持された基板を示す。インプリント可能な媒体は、基板１０の図の点線で画定されたターゲット区域１１に付着させる。基板１０は、複数の印刷ヘッド１２を備える流体ディスペンサに対して相対的に移動可能である。各印刷ヘッド１２はインプリント可能な媒体が放出される複数のノズル１３を備える。複数の印刷ヘッド１２は、基板１０の運動方向に対して角度θで配列するように配置される。この構成の重要性については、以降でさらに詳細に説明する。複数の印刷ヘッド１２は、ノズル１３が基板１０の直径と実質的に等しい（またはそれより大きい）距離にわたって延在するように構成される。「基板の直径に実質的に等しい」という用語は、基板の直径と等しいかまたはインプリント可能な媒体を受けるよう意図された基板の部分の直径に等しいことを意味するよう意図される。例えば、基板がインプリント可能な媒体を受けるよう意図されていない縁部を含む場合、ノズル１３は、その縁部に延在しないように構成することができる。あるいは、幾つかのノズル１３は縁部に延在するが、インプリント可能な媒体を放出しないようにオフに切り換えることができる。

[0061] 基板１０が印刷ヘッド１２の下で移動するにつれ、印刷ヘッド１２は、インプリント可能な媒体の液滴を基板１０のターゲット区域１１上に放出するように配置構成される。印刷ヘッド１２は基板１０の直径にわたって延在するので、印刷ヘッド１２に対する基板１０の１回のスキャン運動で、基板１０の所望のターゲット区域１１全部にインプリント可能な媒体を付着させることができる。これは、例えば印刷ヘッド１２の下のスキャン運動で基板１０を移動させることによって達成することができる。

[0061] 図５ｂは、基板１０を印刷ヘッド１２の下で移動させた後に、ターゲット区域１１がインプリント可能な媒体１４によって覆われることを示す。インプリント可能な媒体１４は、複数の印刷ヘッド１２を使用して、基板１０に迅速かつ正確に適用されている。本発明を使用して、複数のターゲット区域１１を迅速かつ均一に覆うことができる。例えば、基板の１回のスキャンで、２５のターゲット区域を覆うことができる。これより多い、または少ないターゲット区域も覆うことができることが理解される。

[0062] ノズル１３を複数の印刷ヘッド１２に設けることは必須ではないことが理解される。例えば、基板１０の幅と実質的に等しい（またはこれより大きい）距離にわたって延在する１つの印刷ヘッド１２に、複数のノズル１３を設けることができる。しかし、このような印刷ヘッドを製造することは実際的ではい。印刷ヘッドの長さにわたって全てのノズルを相互に対して正確に配置するのを保証することが困難だからである。複数の印刷ヘッド１２を使用し、必要な距離にわたって延在するように、これを配置構成するほうが高い費用効果が得られる。印刷ヘッド１２の適切な配置構成の例が図６ａから図６ｃに図示されている。図６は、印刷ヘッドの可能な全ての配置構成を表すものではなく、他の配置構成も当業者には明白である。

[0063] 図６ａは、直線状に（つまり直線のアレイで）配置構成された複数の印刷ヘッド１２を示す。印刷ヘッド１２は、基板（図示せず）の運動方向に垂直な方向に配列される。図６ａに示すように、任意の１つの印刷ヘッド１２の隣接するノズル１３間の間隔ｄ１は、隣接する印刷ヘッド１２の共通端部にあるノズル１３間の間隔ｄ２とは異なる可能性がある。このような間隔の差は、基板１０のターゲット区域１１がインプリント可能な媒体によって均一に覆われるのを妨げることがある。隣接する印刷ヘッド１２のノズル１３間の間隔が増大すると、これらのノズル１３によって放出された液滴が合体するのに必要な時間が長くなり、それによってテンプレートをインプリント可能な媒体にインプリントできるように印刷可能な媒体の均一な層を形成するのにかかる時間が長くなることがある。

[0064] 図６ｂは、印刷ヘッド１２の改善された配置構成を示す。離間された印刷ヘッド１２の第一列Ａが、離間された印刷ヘッド１２の第二列Ｂに隣接し、第一列Ａおよび第二列Ｂはともに、基板（図示せず）の運動方向に対して垂直な方向に延在する。第一列Ａの印刷ヘッド１２の間のスペースは、第二列Ｂの印刷ヘッド１２の位置に対応する。印刷ヘッド１２をこのように配置構成することにより、隣接する印刷ヘッド１２を重ねる（オーバーラップさせる）ことができ、したがって任意の印刷ヘッドのノズル１３間の間隔d3が、隣接する印刷ヘッド１２の共通端部にあるノズル１３間の間隔ｄ３と等しくなる。これを達成するために隣接する印刷ヘッド１２のフットプリントが重なる。「フットプリント」という用語は、基板の運動方向に対して垂直に任意の印刷ヘッド１２が占有する長さを意味するものとする。印刷ヘッド１２は、相互に対するその位置を調節可能であるように装着することができる。

[0065] 図６ｃは、直線のアレイに配置された印刷ヘッド１２の別の改善された配置構成を示す。図６ｃは、印刷ヘッド１２が基板の運動方向に対して角度θで配列されていることを示す。これは、隣接する印刷ヘッド１２のフットプリントが重なるという効果を有する。印刷ヘッド１２を傾けることにより、任意の印刷ヘッド１２の隣接するノズル１３の間隔ｄ４が、隣接する印刷ヘッド１２の共通端部の隣接ノズル１３の間隔と同じであることが分かる。この特定の実施形態では、隣接ノズル１３の間隔ｄ４が印刷ヘッド１２を傾ける角度θの関数であることも分かる。したがって、隣接ノズルの間隔は、角度θを変更することによって容易に制御することができる。隣接印刷ヘッド１２の間隔も変更することができる。印刷ヘッド１２は、隣接印刷ヘッド間の角度θおよび間隔を調節できるように、調節可能な取付け部に装着することができる。角度θは、印刷可能な媒体の液滴を２次元で等間隔で基板１０の表面に放出するように選択してよい。放出された液滴の基板１０の運動方向の間隔は、基板の運動速度、および液滴がノズル１３から放出される頻度に依存する。

[0066] どの構成を採用しても、印刷ヘッド１２は、そのノズル１２が基板の幅（または長さ、直径など）全体にわたって延在するように配置構成することが最も好ましい。これによって基板またはそのターゲット区域が、ノズル１３に対する基板の１回の連続的動作で、ノズル１３から放出されたインプリント可能な媒体によって覆うことができる。

[0067] 上述したように、基板に付着したインプリント可能な媒体の液滴が合体し、したがって連続層を形成するのにかかる時間は、液滴の初期間隔とともに液滴のサイズにも依存する。インプリント可能な媒体の液滴が基板１０に付着してから、パターンをインプリント可能な媒体にインプリントするまでの遅延などの処理時間は、液滴の特性から決定される。したがって、液滴の形状が変化するか、または隣接する液滴の間隔が変化するか、または１つのノズルが故障すると、液滴が合体し、したがってインプリントすることができるように連続層を形成するのにかかる時間が変化する。１つまたは複数のノズルが故障すると、層の均一性を損なうことがある。したがって、液滴がノズル１３から放出された場合に、それを監視することが有利である。図７は、液滴がノズル１３から放出された場合に、その特性を示す特性を測定する測定装置を示す。「液滴の特性」という用語は、例えば体積、直線性および速度のうち１つまたは複数を含むものとする。液滴に可能な追加の特性は、１つまたは複数の追加の液滴が存在することである。

[0068] 図７は、インプリント可能な媒体の液滴１５を放出したノズル１３を示す。液滴１５は、ノズル１３から放出されてから基板１０に衝突する前までの間の位置で図示されている。顕微鏡１６を使用して、液滴１５を観察する。顕微鏡１６の観察結果は、ＣＣＤカメラ１７を使用して記録し、その後に測定することができる。液滴１５を観察する位置は、ノズルを作動させた後（ノズルは電気的に作動させてよい）、所定の時間に光のフラッシュ１９を発するストロボ光１８を使用して決定することができる。光のフラッシュ１９は、液滴５１がノズルから放出されてから基板１０に衝突するまでの中間で観察されるようなタイミングにしてよい。例えば、液滴がノズルから特定の周波数で放出される場合、ストロボ光１８は、その周波数で、および液滴がノズルから放出されてから基板に衝突するまでの中間で飛行中に観察されるような位相で光のフラッシュを発するように調節することができる。

[0069] この時間で液滴を観察することにより、液滴１５の寸法特性（例えばサイズ、形状、体積など）ばかりでなく、液滴１５の軌跡も測定することができる。液滴１５の軌跡は、飛行中の液滴の位置と液滴を放出したノズル１３の位置とを比較することによって決定することができる（ノズルに対する測定装置の位置は分かっている）。液滴の寸法特性および軌跡の変化は、ノズル１３および印刷ヘッド１２に必要な任意の保守の表示を与えるために使用するか、ノズル１３に対する基板１０の動作、印刷ヘッド１２が配置される角度θ、ノズル１３から放出すべき液滴の体積などのような動作パラメータを変更するために使用することができる。リソグラフィ装置内で使用可能なスペースに応じて、液滴１５を直接的または間接的に（例えば基板１０上で液滴の影または反射を観察することなどによって）観察可能にすることができる。

[0070] 液滴の光学的観察は必須でないことが理解される。液滴の特性を求めるために、任意の適切な測定技術を使用することができる。

[0071] 図８は、図５ａおよび図５bの印刷の実施形態と図７の液滴測定の実施形態との組合せを示す。図８は、複数の印刷ヘッド１２に対して相対的に運動可能な基板１０を示す。印刷ヘッド１２には、インプリント可能な媒体を基板１０のターゲット区域１１に放出するための複数のノズル１３を設ける。図５ａおよび図５ｂに関して上述したように、複数のノズル１３を備えた流体ディスペンサを提供する本発明によると、インプリント可能な媒体は、迅速かつ正確な方法で基板１０のターゲット区域１１に付着させることができる。印刷を実行中に、任意の印刷ヘッド１２のノズル１３から放出された液滴を観察し、測定できるように、顕微鏡１６、ＣＣＤカメラ１７およびストロボ光１８を備えた測定装置を、複数の印刷ヘッド１２に対して、それに沿って（矢印で示すように）移動することができる。液滴の観察は、印刷の進行中に実行する必要はなく、校正ステップで実行してよいことが理解される。

[0072] 顕微鏡１６およびＣＣＤカメラ１７は、カメラ１７および顕微鏡１６の特性に応じて、１つのノズル１３からの液滴または幾つかのノズルからの液滴を観察することができる。例えば、ＣＣＤカメラ１７は、約６ｍｍ幅のアレイを有してよく、顕微鏡は約６ｍｍの視野を有してよい。ノズルが差し渡し０．２５ｍｍの場合、これは１の倍率を使用すると同時に約２４個の液滴を結像できることになる。特性をさらに正確に求めるために、例えば１個の液滴を見るようにさらに高い倍率を使用することができる。これを実行する場合は、ＣＣＤカメラに結像される液滴の数が減少する。

[0073] 図７に示す顕微鏡１６、ＣＣＤカメラ１７および顕微鏡１８の配置構成を複数の位置に設けてよいことが理解される。例えば、各印刷ヘッド１２に１つの構成を設けてよい。例えば放出された全ての液滴を観察できるように、同時に全部のノズルを観察可能にするために、印刷ヘッド毎に複数の構成を設けてもよい。

[0074] 液滴の特性は、直接的または間接的に測定することができる。例えば、液滴の特性を示す特性は、液滴の影のサイズ、または液滴の反射から求めることができる。測定される特性は、液滴の寸法特性および液滴の軌跡を含んでよい。

[0075] 以上の説明は、インプリント可能な媒体を基板上に放出することに言及しているが、基板上に放出される媒体はインプリント可能な媒体である必要はないことが認識される。任意の適切な流体を付着させてよい。例えば、流体は、平坦化層またはインプリントリソグラフィに使用される他の流体を備えることができる。液滴は、１００ピコリットル（ｐｌ）未満の体積、５００ｐｌ未満の体積、２５０ｐｌ未満の体積、１００ｐｌ未満の体積、５０ｐｌ未満の体積、２５ｐｌ未満の体積、１０ｐｌ未満の体積、または１ｐｌ未満の体積でもよい。

[0076] 以上の説明は、概ね印刷ヘッド１２が固定され、基板１０が基板を印刷ヘッドに対して相対的に移動させるよう配置構成された基板テーブルに保持されているものとして説明してきた。印刷ヘッド１２は代替的または追加的に、基板テーブルに対して移動可能でよいことが認識される。

[0077] 「基板」という用語は、付着した層がない基板、または１つまたは複数の層が既に付着した基板と解釈することができる。

[0078] 本発明の特定の例について以上で説明してきたが、説明とは異なる方法で本発明を実践できることが認識される。この説明は本発明を制限するものではない。

Claims (37)

1. リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、前記リソグラフィ基板に流体を放出するように構成されたノズルを設けた複数の印刷ヘッドとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、
   前記印刷ヘッドおよび前記リソグラフィ基板は、相互に対して相対的に移動可能であり、
   前記複数の印刷ヘッドは隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置される、
   インプリントリソグラフィ装置。
2. 前記複数の印刷ヘッドは、前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する、
   請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
3. 前記複数の印刷ヘッドは、前記印刷ヘッドと前記リソグラフィ基板との相対運動の方向に対して垂直な方向に延在する、
   請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
4. 前記複数の印刷ヘッドは、前記印刷ヘッドと前記リソグラフィ基板との相対運動の方向に対してある角度で傾斜する、
   請求項３に記載のインプリントリソグラフィ装置。
5. 前記印刷ヘッドは、前記角度を調節できるように調節可能な取付け部に装着される、
   請求項４に記載のインプリントリソグラフィ装置。
6. 前記印刷ヘッドは、隣接する印刷ヘッドの前記フットプリント間の前記重なりを調節できるように調節可能な取付け部に装着される、
   請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
7. 前記印刷ヘッドは、２列以上配置される、
   請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
8. 任意の列の隣接する印刷ヘッド間にスペースが設けられ、前記スペースは、第一列のスペースが第二列の印刷ヘッドと対応するように構成される、
   請求項７に記載のインプリントリソグラフィ装置。
9. 前記ノズルは、１００ピコリットル未満の体積を有する液滴を放出するように配置構成される、
   請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
10. 前記液滴は、１０ピコリットル未満の体積を有する、
    請求項９に記載のインプリントリソグラフィ装置。
11. 前記流体は、インプリント可能な媒体である、
    請求項１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
12. リソグラフィ基板に流体を放出する流体ディスペンサであって、
    流体を前記リソグラフィ基板に放出するように構成されたノズルを有する複数の印刷ヘッドを備え、
    前記複数の印刷ヘッドは、隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置される、
    流体ディスペンサ。
13. 前記印刷ヘッドは、調節可能な取付け部に装着される、
    請求項１２に記載の流体ディスペンサ。
14. 前記印刷ヘッドは、前記流体ディスペンサの延在する方向に対してある角度で傾斜する、
    請求項１２に記載の流体ディスペンサ。
15. 前記印刷ヘッドは、前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する、
    請求項１２に記載の流体ディスペンサ。
16. リソグラフィ基板を基板テーブルに設け、
    複数の印刷ヘッドを隣接する印刷ヘッドのフットプリントが重なるように配置し、
    前記リソグラフィ基板または前記リソグラフィ基板の所望のターゲット区域が流体で覆われるように前記ノズルから流体を放出しながら、前記ノズルおよび前記リソグラフィ基板を相互に対して相対的に移動させる、
    ことを含むインプリントリソグラフィ方法。
17. 前記印刷ヘッドは、前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する、
    請求項１６に記載のインプリントリソグラフィ方法。
18. 前記ノズルと前記リソグラフィ基板の相対運動が１方向である、
    請求項１６に記載のインプリントリソグラフィ方法。
19. 前記ノズルが固定され、前記基板テーブルが前記ノズルに対して移動する、
    請求項１６に記載のインプリントリソグラフィ方法。
20. リソグラフィ基板に液滴を放出するように構成されたノズルを有する流体ディスペンサを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、
    前記液滴の特性を測定するように構成された測定装置を備える、
    インプリントリソグラフィ装置。
21. 前記測定装置は、検出器と、前記ノズルと前記リソグラフィ基板の間を飛行中の液滴または前記液滴からの影または反射を前記検出器に結像するように構成された光学システムとを備える、
    請求項２０に記載のインプリントリソグラフィ装置。
22. 前記検出器は、ＣＣＤカメラを備える、
    請求項２１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
23. 前記測定装置は、飛行中に前記液滴を照明するように構成されたストロボ光を備える、
    請求項２１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
24. 前記測定装置は、前記流体ディスペンサに対して移動可能である、
    請求項２０に記載のインプリントリソグラフィ装置。
25. 前記測定装置は、複数の測定装置の１つである、
    請求項２０に記載のインプリントリソグラフィ装置。
26. 前記測定装置は、複数の測定装置の１つである、
    請求項２１に記載のインプリントリソグラフィ装置。
27. 流体ディスペンサからリソグラフィ基板に液滴を放出することを含むインプリントリソグラフィの方法であって、
    前記流体ディスペンサから前記リソグラフィ基板に液滴を放出する間に前記液滴の特性を測定することを含む、
    インプリントリソグラフィ方法。
28. 前記測定することが、前記ノズルと前記リソグラフィ基板の間を飛行中の前記液滴または前記液滴の影または反射を検出器に結像することを含む、
    請求項２７に記載のインプリントリソグラフィ方法。
29. 測定が、前記液滴の１つまたは複数の寸法特性の測定を示す、
    請求項２８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
30. 測定が、前記液滴の軌跡の測定を示す、
    請求項２８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
31. 前記ノズルと前記リソグラフィ基板の間を飛行中に前記液滴を照明するストロボ光を使用することを含む、
    請求項２８に記載のインプリントリソグラフィ方法。
32. インプリントリソグラフィ流体ディスペンサのノズルから放出される液滴の特性を測定する測定装置であって、
    検出器と、前記ノズルと前記リソグラフィ基板の間を飛行中の液滴または前記液滴の影または反射を前記検出器に結像するように構成された光学システムとを備える、
    測定装置。
33. リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、前記リソグラフィ基板に流体を放出するように構成された複数のノズルとを備えるインプリントリソグラフィ装置であって、
    前記複数のノズルは、前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在し、
    前記ノズルおよびリソグラフィ基板は、相互に対して相対的に移動可能である、
    インプリントリソグラフィ装置。
34. 前記ノズルは、単一の印刷ヘッドに設けられる、
    請求項３３に記載のインプリントリソグラフィ装置。
35. 前記ノズルは、複数の印刷ヘッドに設けられる、
    請求項３３に記載のインプリントリソグラフィ装置。
36. リソグラフィ基板に流体を放出する流体ディスペンサであって、
    前記リソグラフィ基板に流体を放出するように構成された複数のノズルを備え、
    前記ノズルは、前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する、
    流体ディスペンサ。
37. 基板テーブルにリソグラフィ基板を設け、
    前記リソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在する複数のノズルを設け、
    前記リソグラフィ基板または前記リソグラフィ基板の所望のターゲット区域が流体で覆われるように前記ノズルから流体を放出しながら、前記ノズルおよび前記リソグラフィ基板を相互に対して相対的に移動させる、
    ことを含むインプリントリソグラフィ方法。