JP4659726B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (15)
- 基板より濡れない非濡れ性材料により少なくとも部分的に囲まれた目標領域をもつ前記基板を用意すること、
前記目標領域内に所定の体積のインプリント可能媒体を堆積させること、
前記インプリント可能媒体が圧縮されるようにインプリントテンプレートを前記インプリント可能媒体に接触させること、
前記目標領域における前記インプリント可能媒体のメニスカスによって加えられる界面張力を利用して、かつ、前記非濡れ性材料によって制限されることにより、前記インプリントテンプレートを前記基板の目標領域に対してアライメントすること、
前記インプリント可能媒体を化学線で照明すること、
を含むデバイス製造方法。 - 前記目標領域が、前記基板上の複数の目標領域の1つであり、前記非濡れ性材料が、前記複数の目標領域をそれぞれ少なくとも部分的に囲む、請求項1に記載のデバイス製造方法。
- 前記インプリントテンプレートが、複数のインプリントテンプレートの1つであり、異なるインプリントテンプレートが前記基板の目標領域に対してアライメントされるように構成される、請求項2に記載のデバイス製造方法。
- 前記基板が、前記インプリント可能材料に対して濡れる平坦化層を含む、請求項1〜3のいずれかに記載のデバイス製造方法。
- 前記基板を用意する工程は、
前記基板に光酸発生剤を含むポリマの層を設け、
前記基板の選択された区域を化学線で照明し、
前記選択された区域に前記非濡れ性材料を形成するために、前記ポリマ層をシリコン含有物質と反応させる、
ことを含む請求項1〜4のいずれかに記載のデバイス製造方法。 - 前記ポリマがポリ(t−ブトキシカルボニル)−ヒドロキシスチレンである、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- 前記シリコン含有物質がアルキルジメチル(ジメチルアミノ)シランまたはフッ素処理したアルキルジメチル(ジメチルアミノ)シランである、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- 前記非濡れ性材料の区域の縁部の位置が、レーザを使用して前記材料の一部を焼き取ることによって調節される、請求項5に記載のデバイス製造方法。
- 前記基板を用意する工程は、
前記基板をモノマに露出し、
前記モノマが前記基板と反応するように、前記基板の選択された区域を化学線で照明する、
ことを含む請求項1〜4のいずれかに記載のデバイス製造方法。 - 前記モノマがアルキルアクリレートまたはフッ素処理したアルキルアクリレートである、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- ダイ区域およびけがき線インプリント区域を有するように、前記目標領域が配置構成される、請求項1〜10のいずれかに記載のデバイス製造方法。
- 前記目標領域は非濡れ性材料の少なくとも1つの中間区域を備える、請求項1〜11のいずれかに記載のデバイス製造方法。
- 基板より濡れない非濡れ性材料により少なくとも部分的に囲まれた目標領域をもつ前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、
前記テンプレートホルダを保持し、前記テンプレートホルダを動作可能なアクチュエータと、
を備え、
前記テンプレートホルダ又は前記アクチュエータは、前記インプリントテンプレートが、前記目標領域における前記基板と前記インプリントテンプレート間のインプリント可能媒体のメニスカスによって加えられる界面張力の作用の下で、かつ、前記非濡れ性材料による制限の下で、前記基板の表面上で横方向に動くことを許容するために、前記インプリントテンプレート又は前記テンプレートホルダを解放するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 複数の目標領域がそれぞれ基板より濡れない非濡れ性材料により部分的に囲まれた基板を用意すること、
1つの前記目標領域内に所定の体積のインプリント可能媒体を堆積させること、
前記インプリント可能媒体が圧縮されるようにインプリントテンプレートを前記インプリント可能媒体に接触させること、
前記目標領域における前記インプリント可能媒体のメニスカスによって加えられる界面張力を利用して、かつ、前記非濡れ性材料によって制限されることにより、前記インプリントテンプレートを前記基板の目標領域に対してアライメントすること、
前記インプリント可能媒体をUV線で照明すること、
を含むデバイス製造方法。 - 複数の目標領域がそれぞれ基板より濡れない非濡れ性材料により部分的に囲まれた基板を保持するように構成された基板テーブルと、
インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダと、
前記テンプレートホルダを保持し、前記テンプレートホルダを動作可能なアクチュエータと、
を備え、
前記テンプレートホルダ又は前記アクチュエータは、前記インプリントテンプレートが、前記目標領域における前記基板と前記インプリントテンプレート間のインプリント可能媒体のメニスカスによって加えられる界面張力の作用の下で、かつ、前記非濡れ性材料による制限の下で、前記基板の表面上で横方向に動くことを許容するために、前記インプリントテンプレート又は前記テンプレートホルダを解放するように構成される、
リソグラフィ装置。
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