JP2010181886A - 高時間分解能による関心領域(roi)走査のための方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも一つの光源の照射光ビームを用いて、試料を走査するための方法であって、第1照射条件の照射光ビームで試料の所望部分を走査して第1走査線21を生じさせ、その後に第2照射条件の照射光ビームで前記所望部分を走査して第2走査線22を生じさせる走査工程を、前記所望部分を変えながら複数工程繰り返して行い、取得した複数の第1走査線21に基づいて第1表示20aを取得し、複数の第2走査線22に基づいて第2表示20bを取得する。
【選択図】図3
Description
少なくとも一つの光源(1,2)の照射光ビーム(4)を用いて、試料(11)を走査するための方法であって、
第1照射条件の照射光ビーム(4)で試料(11)の所望部分を走査して第1走査線(21)を生じさせ、その後に第2照射条件の照射光ビーム(4)で前記所望部分を走査して第2走査線(22)を生じさせる走査工程を備え、
前記所望部分を変えながら前記走査工程を繰り返して行い、複数の第1走査線(21)に基づいて第1表示(20a)を取得し、複数の第2走査線(22)に基づいて第2表示(20b)を取得する。
本願の請求項1に係る方法は、少なくとも一つの光源の照射光ビームを用いて、試料を走査するための方法であって、試料の走査枠において、少なくとも一つの関心領域(ROI)を定義するステップと、走査パターンと少なくとも一つの関心領域との交差によって、第1の複数の第1走査線および第2の複数の第2走査線を提供するステップと、少なくとも一つの関心領域の第1走査線において、第1の照射条件で試料を照射し、関心領域の外側の試料の領域は第2の照射条件で照射されるステップと、少なくとも一つの関心領域の第2走査線において、第3の照射条件で試料を照射し、関心領域の外側の試料の領域は第4の照射条件で照射されるステップと、を含んでいるので、この発明によると、本願の目的、すなわち、時間分解能を根本的に改善し、容易でかつ試料に関連した照射条件の変更を可能にする方法を提供することができる。
ビームダンプ、 8 ビームスプリッタ、 9 走査装置、10 対物レンズ、 11 試料、 12 検出器、 13 制御装置、 14 コンピュータ、 15 デイスプレ、
20 走査枠、 20a 第1表示、 20b 第2表示、 21 第1走査線、 22 第2走査線、 23 走査パターン、 23a 走査線、 24 第1関心領域、 25
第2関心領域、 26 第1パラメータ設定、 27 第2パラメータ設定
Claims (4)
- 少なくとも一つの光源(1,2)の照射光ビーム(4)を用いて、試料(11)を走査するための方法であって、
第1照射条件の照射光ビーム(4)で試料(11)の所望部分を走査して第1走査線(21)を生じさせ、その後に第2照射条件の照射光ビーム(4)で前記所望部分を走査して第2走査線(22)を生じさせる走査工程を備え、
前記所望部分を変えながら前記走査工程を繰り返して行い、複数の第1走査線(21)に基づいて第1表示(20a)を取得し、複数の第2走査線(22)に基づいて第2表示(20b)を取得すること
を特徴とする方法。 - 前記第1照射条件及び前記第2照射条件には波長と照射強度とが含まれること
を特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記第1照射条件において、試料(11)の中の関心領域の内側と外側とで照射条件を区別し、前記第2照射条件において、試料(11)の中の関心領域の内側と外側とで照射条件を区別すること
を特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記第1照射条件において、試料(11)の中の関心領域の内側と外側とで照射条件を区別し、前記第2照射条件において、試料(11)の中の関心領域の内側と外側とで照射条件を区別し、
前記第1照射条件及び前記第2照射条件には照射強度が含まれ、
前記第2照射条件における試料(12)の中の関心領域の内側の照射強度を、前記第1照射条件における試料(11)の中の関心領域の内側の照射強度よりも小さくすること
を特徴とする請求項1に記載の方法。
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