JP2010152298A - 薄膜トランジスタ及びその製造方法並びに画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決方法】実質的に透明な基板と、基板上に形成された実質的に透明なゲート電極と、ゲート電極の同一層に隔離して形成された実質的に透明なキャパシタ電極と、ゲート電極及びキャパシタ電極を覆うように形成された実質的に透明なゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された実質的に透明な半導体層と、半導体層に跨って形成された実質的に透明なソース電極及び実質的に透明なドレイン電極と、ソース電極またはドレイン電極上に貫通孔を設けて形成された実質的に透明な層間絶縁層と、ソース電極またはドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続され、導電性着色材料により形成された画素電極と、を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【選択図】図1
Description
Claims (16)
- 実質的に透明な基板と、
前記基板上に形成された実質的に透明なゲート電極と、
前記ゲート電極の同一層に隔離して形成された実質的に透明なキャパシタ電極と、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように形成された実質的に透明なゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された実質的に透明な半導体層と、
前記半導体層に跨って形成された実質的に透明なソース電極及び実質的に透明なドレイン電極と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に貫通孔を設けて形成された実質的に透明な層間絶縁層と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続され、導電性着色材料により形成された画素電極と、
を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 実質的に透明な基板と、
前記基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の同一層に隔離して形成されたキャパシタ電極と、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように形成された実質的に透明なゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された実質的に透明な半導体層と、
前記半導体層に跨って形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に貫通孔を設けて形成された実質的に透明な層間絶縁層と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された画素電極と、を備え、
前記ゲート電極、前記キャパシタ電極、前記ソース電極、前記ドレイン電極のいずれか一つの電極が導電性着色材料により形成され、前記導電性着色材料で形成されている電極以外の電極は全て実質的に透明な材料により形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 実質的に透明な基板と、
前記基板上に形成された実質的に透明なゲート電極と、
前記ゲート電極の同一層に隔離して形成された実質的に透明なキャパシタ電極と、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように形成された実質的に透明なゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された実質的に透明な半導体層と、
前記半導体層に跨って形成された実質的に透明なソース電極及び実質的に透明なドレイン電極と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に貫通孔を設けて形成された実質的に透明な層間絶縁層と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された実質的に透明な画素電極と、
前記画素電極の上部または下部が導電性着色材料により形成された第1の導電性着色層と、を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 実質的に透明な基板と、
前記基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極の同一層に隔離して形成されたキャパシタ電極と、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように形成された実質的に透明なゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された実質的に透明な半導体層と、
前記半導体層に跨って形成されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に貫通孔を設けて形成された実質的に透明な層間絶縁層と、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された画素電極と、を備え、
前記ゲート電極、前記キャパシタ電極、前記ソース電極、前記ドレイン電極のいずれか一つの電極の上部または下部が導電性着色材料により形成され、前記導電性着色材料で形成されている電極以外の電極は全て実質的に透明な材料により形成されていることを特徴とする薄膜トランジタ。 - 前記半導体層が金属酸化物を主成分とする材料からなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の薄膜トランジスタ。
- 前記半導体層が有機物を主成分とする材料からなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の薄膜トランジスタ。
- 前記半導体層上を覆うように実質的に透明な材料で形成された保護膜を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の薄膜トランジスタ。
- 実質的に透明な基板を準備し、
前記基板上に実質的に透明なゲート電極を形成し、
前記ゲート電極の同一層に隔離して実質的に透明なキャパシタ電極を形成し、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように実質的に透明なゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に実質的に透明な半導体層を形成し、
前記半導体層に跨って、実質的に透明なソース電極及び実質的に透明なドレイン電極を形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に実質的に透明な層間絶縁層を貫通孔を設けて形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された画素電極を導電性着色材料により形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 実質的に透明な基板を準備し、
前記基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極の同一層に隔離してキャパシタ電極を形成し、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように実質的に透明なゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に実質的に透明な半導体層を形成し、
前記半導体層に跨って形成されたソース電極及びドレイン電極を形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に実質的に透明な層間絶縁層を貫通孔を設けて形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された画素電極を形成し、
前記ゲート電極、前記キャパシタ電極、前記ソース電極、前記ドレイン電極のいずれか一つの電極を導電性着色材料により形成して、前記導電性着色材料で形成する電極以外の電極は全て実質的に透明な材料により形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 実質的に透明な基板を準備し、
前記基板上に実質的に透明なゲート電極を形成し、
前記ゲート電極の同一層に隔離して実質的に透明なキャパシタ電極を形成し、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように実質的に透明なゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に実質的に透明な半導体層を形成し、
前記半導体層に跨って、実質的に透明なソース電極及び実質的に透明なドレイン電極を形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に実質的に透明な層間絶縁層を貫通孔を設けて形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在され、電極領域に電気的に接続された画素電極を形成し、
前記画素電極の上部または下部が導電性着色材料により形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 実質的に透明な基板を準備し、
前記基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極の同一層に隔離してキャパシタ電極を形成し、
前記ゲート電極及び前記キャパシタ電極を覆うように実質的に透明なゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上に実質的に透明な半導体層を形成し、
前記半導体層に跨って形成されたソース電極及びドレイン電極を形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極上に実質的に透明な層間絶縁層を貫通孔を設けて形成し、
前記ソース電極または前記ドレイン電極のいずれかにより延在された電極領域に電気的に接続された画素電極を形成し、
前記ゲート電極、前記キャパシタ電極、前記ソース電極、前記ドレイン電極のいずれか一つの電極の上部または下部を導電性着色材料により形成して、前記導電性着色材料で形成する電極以外の電極は全て実質的に透明な材料により形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記半導体層が金属酸化物を主成分とする材料からなることを特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記半導体層が有機物を主成分とする材料からなることを特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記半導体層上を覆うように実質的に透明な材料で形成された保護膜を備えることを特徴とする請求項8乃至請求項13のいずれかに記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタアレイを備えたことを特徴とする画像表示装置。
- 前記画像表示装置が電子ペーパ、液晶ディスプレイまたは有機エレクトロルミネッセンスのいずれかであることを特徴とする請求項15に記載の画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008297420 | 2008-11-21 | ||
JP2008297420 | 2008-11-21 | ||
JP2009089758A JP5509659B2 (ja) | 2008-11-21 | 2009-04-02 | 薄膜トランジスタ及びその製造方法並びに画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010152298A true JP2010152298A (ja) | 2010-07-08 |
JP5509659B2 JP5509659B2 (ja) | 2014-06-04 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130227 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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