JP2010129673A - 静電チャックおよび被保持物の静電吸着方法 - Google Patents
静電チャックおよび被保持物の静電吸着方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 静電チャック10は、基体1b上に、被保持物の吸着面3を有するセラミック誘電体層1aと、被保持物の静電吸着のための電圧が印加される吸着用電極2とを備えおり、セラミック誘電体層1aは、窒化アルミニウム質セラミックスからなり、吸着用電極2に印加される電圧が500Vのときの体積固有抵抗値が5×108〜5×1010Ω・cmであり、かつ電圧が10Vのときの体積固有抵抗値が、5×1010〜5×1012Ω・cmであるとともに電圧が500Vのときの体積固有抵抗値の3倍以上である。
【選択図】 図1
Description
1a・・・セラミック誘電体層
1b・・・基体
2・・・吸着用電極
3・・・吸着面
4・・・端子
5・・・ウエハ
6・・・ガス導入孔
7・・・溝
10・・・静電チャック
Claims (4)
- 基体上に、被保持物の吸着面を有するセラミック誘電体層と、前記被保持物の静電吸着のための電圧が印加される吸着用電極とを備えた静電チャックにおいて、前記セラミック誘電体層は、窒化アルミニウム質セラミックスからなり、前記吸着用電極に印加される前記電圧が500Vのときの体積固有抵抗値が5×108〜5×1010Ω・cmであり、かつ前記電圧が10Vのときの体積固有抵抗値が、5×1010〜5×1012Ω・cmであるとともに前記電圧が500Vのときの体積固有抵抗値の3倍以上であることを特徴とする静電チャック。
- 前記窒化アルミニウム質セラミックスが焼結助剤を含む窒化アルミニウムセラミックスであることを特徴とする請求項1記載の静電チャック。
- 前記焼結助剤が酸化セリウムまたはイットリアを含むことを特徴とする請求項2記載の静電チャック。
- 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の静電チャックを用い、前記被保持物を静電吸着するために前記吸着用電極に印加する電圧を、吸着開始時に200〜2000Vとし、その後10〜500Vとする(ただし、吸着開始時の電圧が1.2倍以上となるようにする。)ことを特徴とする被保持物の静電吸着方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013062131A1 (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | 京セラ株式会社 | 流路部材、これを用いた熱交換器および半導体装置ならびに半導体製造装置 |
KR101714619B1 (ko) * | 2016-06-08 | 2017-03-09 | 주식회사하나기업 | 절연 페이스트로부터 형성된 절연층을 포함하는 정전척과 그의 제조방법 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05136254A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-06-01 | Hitachi Ltd | 静電吸着装置 |
JPH06343278A (ja) * | 1993-05-31 | 1994-12-13 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 静電吸着方法 |
JP2001163672A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-19 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム焼結体および半導体製造用部材 |
JP2001351969A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック |
JP2002270680A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-20 | Applied Materials Inc | 基板支持方法及び基板支持装置 |
JP2004002139A (ja) * | 2002-04-22 | 2004-01-08 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム材料および半導体製造用部材 |
JP2004262750A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質材料および半導体製造装置用部材 |
JP2005294648A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Ngk Insulators Ltd | 静電チャックとその製造方法 |
WO2007034955A1 (ja) * | 2005-09-26 | 2007-03-29 | Tokuyama Corporation | 発光素子搭載用セラミックス焼結体 |
JP2007326741A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 導電性酸化物粉体及び焼結体 |
WO2008018302A1 (fr) * | 2006-08-07 | 2008-02-14 | Tokuyama Corporation | Corps fritté en nitrure d'aluminium et son procédé de production |
JP2008127276A (ja) * | 2006-11-23 | 2008-06-05 | Komico Ltd | 静電チャック用窒化アルミニウム焼結体、及びその形成方法 |
JP2010080678A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Kyocera Corp | 静電チャック |
-
2008
- 2008-11-26 JP JP2008301072A patent/JP5225043B2/ja active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05136254A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-06-01 | Hitachi Ltd | 静電吸着装置 |
JPH06343278A (ja) * | 1993-05-31 | 1994-12-13 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 静電吸着方法 |
JP2001163672A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-06-19 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム焼結体および半導体製造用部材 |
JP2001351969A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 静電チャック |
JP2002270680A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-20 | Applied Materials Inc | 基板支持方法及び基板支持装置 |
JP2004002139A (ja) * | 2002-04-22 | 2004-01-08 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム材料および半導体製造用部材 |
JP2004262750A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Ngk Insulators Ltd | 窒化アルミニウム質材料および半導体製造装置用部材 |
JP2005294648A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Ngk Insulators Ltd | 静電チャックとその製造方法 |
WO2007034955A1 (ja) * | 2005-09-26 | 2007-03-29 | Tokuyama Corporation | 発光素子搭載用セラミックス焼結体 |
JP2007326741A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 導電性酸化物粉体及び焼結体 |
WO2008018302A1 (fr) * | 2006-08-07 | 2008-02-14 | Tokuyama Corporation | Corps fritté en nitrure d'aluminium et son procédé de production |
JP2008127276A (ja) * | 2006-11-23 | 2008-06-05 | Komico Ltd | 静電チャック用窒化アルミニウム焼結体、及びその形成方法 |
JP2010080678A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Kyocera Corp | 静電チャック |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013062131A1 (ja) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | 京セラ株式会社 | 流路部材、これを用いた熱交換器および半導体装置ならびに半導体製造装置 |
JPWO2013062131A1 (ja) * | 2011-10-28 | 2015-04-02 | 京セラ株式会社 | 流路部材、これを用いた熱交換器および半導体装置ならびに半導体製造装置 |
US9448014B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-09-20 | Kyocera Corporation | Channel member, and heat exchanger, semiconductor unit, and semiconductor manufacturing apparatus including the same |
KR101714619B1 (ko) * | 2016-06-08 | 2017-03-09 | 주식회사하나기업 | 절연 페이스트로부터 형성된 절연층을 포함하는 정전척과 그의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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