JPH05136254A - 静電吸着装置 - Google Patents
静電吸着装置Info
- Publication number
- JPH05136254A JPH05136254A JP29702791A JP29702791A JPH05136254A JP H05136254 A JPH05136254 A JP H05136254A JP 29702791 A JP29702791 A JP 29702791A JP 29702791 A JP29702791 A JP 29702791A JP H05136254 A JPH05136254 A JP H05136254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- electrostatic
- electrostatic chuck
- sample
- attraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体集積回路の製造検査工程で使用される電
子ビーム描画装置の試料保持装置に係り、静電吸着力を
利用する静電チャックの発熱の問題を解決する。 【構成】静電チャック板２の印加電圧は信号発生回路７
によって変化させ、吸着開始より一定時間後に初期印加
電圧より低下させる。 【効果】吸着開始時には反った試料をも吸着できるよう
に十分高い印加電圧とし、その後、吸着状態を保持でき
る限度まで印加電圧を低下させることにより、静電チャ
ック部の発熱を減少させることができ、試料の熱膨張の
問題を解決することができる。
子ビーム描画装置の試料保持装置に係り、静電吸着力を
利用する静電チャックの発熱の問題を解決する。 【構成】静電チャック板２の印加電圧は信号発生回路７
によって変化させ、吸着開始より一定時間後に初期印加
電圧より低下させる。 【効果】吸着開始時には反った試料をも吸着できるよう
に十分高い印加電圧とし、その後、吸着状態を保持でき
る限度まで印加電圧を低下させることにより、静電チャ
ック部の発熱を減少させることができ、試料の熱膨張の
問題を解決することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子ビーム描画装置や電
子ビーム測長器などの試料固定に係り、特に静電吸着を
用いて試料チャック装置に関する。
子ビーム測長器などの試料固定に係り、特に静電吸着を
用いて試料チャック装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の製造、検査工程で用い
られる電子ビーム描画装置や電子ビーム測長器では、高
真空中で半導体ウェハを試料移動ステージに固定する必
要があり、例えば、特開昭６３−２９９１３７号公報に
示されるような、ウェハ表面に接触してごみを発生する
ことのない静電吸着法などが用いられる。ところが静電
吸着力を発生させるための誘電体には、わずかながら電
流が流れるため発熱を生じ、半導体ウェハを熱変形させ
る大きな原因となっていた。
られる電子ビーム描画装置や電子ビーム測長器では、高
真空中で半導体ウェハを試料移動ステージに固定する必
要があり、例えば、特開昭６３−２９９１３７号公報に
示されるような、ウェハ表面に接触してごみを発生する
ことのない静電吸着法などが用いられる。ところが静電
吸着力を発生させるための誘電体には、わずかながら電
流が流れるため発熱を生じ、半導体ウェハを熱変形させ
る大きな原因となっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
な吸着機能を保持しながら発熱の少ない静電吸着装置を
提供することにある。
な吸着機能を保持しながら発熱の少ない静電吸着装置を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般に、そり
のある半導体ウェハを確実に吸着するには、十分高い印
加電圧を誘電体に加える必要があるが、ウェハ吸着後に
はそれ以下の印加電圧としても吸着状態を保持できると
いう現象に着目してなされたものである。
のある半導体ウェハを確実に吸着するには、十分高い印
加電圧を誘電体に加える必要があるが、ウェハ吸着後に
はそれ以下の印加電圧としても吸着状態を保持できると
いう現象に着目してなされたものである。
【０００５】具体的には吸着開始時には十分高い電圧を
誘電体に印加し、その直後から印加電圧を低くして誘電
体中からの発熱を押えることを特徴とする。
誘電体に印加し、その直後から印加電圧を低くして誘電
体中からの発熱を押えることを特徴とする。
【０００６】
【作用】試料吸着用誘電体への電圧印加手段として直流
アンプと信号制御回路を用い、信号制御回路は、吸着開
始時には十分高い電圧を印加し、一定時間を経た後に印
加電圧を減少させるように上記直流アンプの入力信号を
制御する。これにより、吸着機能を確保しながら誘電体
からの発熱を減少させることができる。
アンプと信号制御回路を用い、信号制御回路は、吸着開
始時には十分高い電圧を印加し、一定時間を経た後に印
加電圧を減少させるように上記直流アンプの入力信号を
制御する。これにより、吸着機能を確保しながら誘電体
からの発熱を減少させることができる。
【０００７】
【実施例】以下、実施例を用いて詳細に説明する。図１
に本発明の一実施例を示す。電子ビーム描画装置の試料
移動テーブル１上には、炭化ケイ素（ＳｉＣ）などの半
導電性誘電材料で作られた円板上の静電チャック板２が
設けられており、試料ウェハ３を吸着固定する。吸着す
るためには、静電チャック板２の裏面に設けられた電極
板４と試料ウェハ３上に接触している導電ピン６の間に
５００Ｖ程度の直流電圧を印加する。５００Ｖを印加す
ることにより、試料ウェハ３が数十μｍ程度反っていて
も、確実に吸引，固着することができる。しかし、５０
０Ｖを印加するとウェハ３と静電チャック板２の中には
１ｍＡ程度の電流が流れ、０.５Ｗの発熱を生じる。こ
の発熱量は試料ウェハ３を熱膨張させ、集積回路パター
ンとして無視できない寸法ひずみの原因となる。
に本発明の一実施例を示す。電子ビーム描画装置の試料
移動テーブル１上には、炭化ケイ素（ＳｉＣ）などの半
導電性誘電材料で作られた円板上の静電チャック板２が
設けられており、試料ウェハ３を吸着固定する。吸着す
るためには、静電チャック板２の裏面に設けられた電極
板４と試料ウェハ３上に接触している導電ピン６の間に
５００Ｖ程度の直流電圧を印加する。５００Ｖを印加す
ることにより、試料ウェハ３が数十μｍ程度反っていて
も、確実に吸引，固着することができる。しかし、５０
０Ｖを印加するとウェハ３と静電チャック板２の中には
１ｍＡ程度の電流が流れ、０.５Ｗの発熱を生じる。こ
の発熱量は試料ウェハ３を熱膨張させ、集積回路パター
ンとして無視できない寸法ひずみの原因となる。
【０００８】本発明では、直流電圧を印加する手段とし
て高圧アンプ５を用い、誘電体への印加電圧Ｅfを制御
可能とする。すなわち、静電チャックとしての吸着機能
開始信号Ｓが信号発生回路７に与えられると、図２に示
すように信号発生回路７はただちに高圧アンプ５の出力
電圧Ｅfが５００Ｖになるような信号を発生し、試料ウ
ェハ３の吸着動作を始める。通常、試料ウェハは多少反
っているが、０.１〜０.２秒程度の後には完全に吸着さ
れる。そこで本実施例では、吸着開始後０.３秒を経過
してから印加電圧Ｅfを５００Ｖから２００Ｖへ低下さ
せ、試料ウェハ及び静電チャック板２中に流れる電流を
１ｍＡから０.４ｍＡに減少させ、発熱量を０.０８Ｗに
押える。印加電圧２００Ｖは吸着力を保持させるに十分
な値であり、かつ発熱量０.０８Ｗは試料ウェハの熱膨
張の影響を無視し得る値である。
て高圧アンプ５を用い、誘電体への印加電圧Ｅfを制御
可能とする。すなわち、静電チャックとしての吸着機能
開始信号Ｓが信号発生回路７に与えられると、図２に示
すように信号発生回路７はただちに高圧アンプ５の出力
電圧Ｅfが５００Ｖになるような信号を発生し、試料ウ
ェハ３の吸着動作を始める。通常、試料ウェハは多少反
っているが、０.１〜０.２秒程度の後には完全に吸着さ
れる。そこで本実施例では、吸着開始後０.３秒を経過
してから印加電圧Ｅfを５００Ｖから２００Ｖへ低下さ
せ、試料ウェハ及び静電チャック板２中に流れる電流を
１ｍＡから０.４ｍＡに減少させ、発熱量を０.０８Ｗに
押える。印加電圧２００Ｖは吸着力を保持させるに十分
な値であり、かつ発熱量０.０８Ｗは試料ウェハの熱膨
張の影響を無視し得る値である。
【０００９】信号回路７は、例えば、パルス幅０.３秒
のワンショットパルス発生回路等を利用して容易に作成
できる。さらにもっと簡単には、図３に示すような充放
電回路を用いても構成できる。Ｅ1は５００Ｖの直流電
流であり、常時は抵抗Ｒ1を介してコンデンサＣ2を５０
０Ｖまで充電しておく。静電吸着開始命令によりスイッ
チＳＷが閉じられると、このコンデンサＣ2に蓄えられ
ていた電荷は静電チャック板２に流れ込む。静電チャッ
ク板２は電気的にはコンデンサＣ5と抵抗Ｒｆを並列結
合したものと等価であるので、スイッチＳＷを閉じた直
後には静電チャック２の両端には電圧５００Ｖが印加さ
れ、コンデンサＣ2の電荷が十分放電された後には、静
電チャック２の両端の電圧Ｅｆは次式で示される値に落
ち着く。
のワンショットパルス発生回路等を利用して容易に作成
できる。さらにもっと簡単には、図３に示すような充放
電回路を用いても構成できる。Ｅ1は５００Ｖの直流電
流であり、常時は抵抗Ｒ1を介してコンデンサＣ2を５０
０Ｖまで充電しておく。静電吸着開始命令によりスイッ
チＳＷが閉じられると、このコンデンサＣ2に蓄えられ
ていた電荷は静電チャック板２に流れ込む。静電チャッ
ク板２は電気的にはコンデンサＣ5と抵抗Ｒｆを並列結
合したものと等価であるので、スイッチＳＷを閉じた直
後には静電チャック２の両端には電圧５００Ｖが印加さ
れ、コンデンサＣ2の電荷が十分放電された後には、静
電チャック２の両端の電圧Ｅｆは次式で示される値に落
ち着く。
【００１０】
【数１】
【００１１】そこで、静電チャック２板の静電容量：Ｃ
ｆ，および電気抵抗：Ｒｆに合わせてＲ1，Ｃ2を適当に
設定することにより、約０.３秒後に５００Ｖから２０
０Ｖに低下するような特性を得ることができる。
ｆ，および電気抵抗：Ｒｆに合わせてＲ1，Ｃ2を適当に
設定することにより、約０.３秒後に５００Ｖから２０
０Ｖに低下するような特性を得ることができる。
【００１２】これらの例のほか、信号発生回路７の構成
法には種々のものが考えられる。
法には種々のものが考えられる。
【００１３】このように、静電吸着開始時には十分高い
電圧を印加して反りのある試料ウェハでも確実に吸引
し、その後、印加電圧を低下させることにより発熱量を
低減させながら吸着力を保持することができる。
電圧を印加して反りのある試料ウェハでも確実に吸引
し、その後、印加電圧を低下させることにより発熱量を
低減させながら吸着力を保持することができる。
【００１４】なお、実施例では静電チャックへの印加信
号を直流としているが、これを交流信号としたり、ある
いはパルス状に変化する信号としても良く、要はそれら
信号の振幅あるいはパルス幅等を変化させ、静電チャッ
ク部の発熱量を減少させれば良い。
号を直流としているが、これを交流信号としたり、ある
いはパルス状に変化する信号としても良く、要はそれら
信号の振幅あるいはパルス幅等を変化させ、静電チャッ
ク部の発熱量を減少させれば良い。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、十分な吸着機能を持ち
ながら発熱の少ない静電吸着装置を提供することができ
る。
ながら発熱の少ない静電吸着装置を提供することができ
る。
【図１】本発明の一実施例を示す回路図。
【図２】静電チャックへの印加信号の説明図。
【図３】本発明の一実施例の信号発生回路図。
２…静電チャック板、３…試料ウェハ、５…高圧アン
プ、７…信号発生回路。
プ、７…信号発生回路。
Claims (4)
- 【請求項１】試料を静電力によって吸着固定する静電チ
ャック装置において、吸着のための印加電圧を変化させ
る手段を設けたことを特徴とする静電吸着装置。 - 【請求項２】請求項１において、吸着開始後一定時間を
経てから印加電圧を低下させる電圧可変手段を設けた静
電吸着装置。 - 【請求項３】請求項１において、前記電圧変化手段がパ
ルス状の信号で吸着を開始した後にパルス幅を変化させ
る静電吸着装置。 - 【請求項４】請求項２において、一定時間後に印加電圧
を低下させるための電圧可変手段がコンデンサと抵抗か
らなる充放電回路で構成される静電吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29702791A JPH05136254A (ja) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | 静電吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29702791A JPH05136254A (ja) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | 静電吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05136254A true JPH05136254A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=17841279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29702791A Pending JPH05136254A (ja) | 1991-11-13 | 1991-11-13 | 静電吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05136254A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010129673A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Kyocera Corp | 静電チャックおよび被保持物の静電吸着方法 |
| EP2727863A1 (en) * | 2012-10-30 | 2014-05-07 | Aoi Seiki Co., Ltd. | Chucking apparatus |
| JP2021130162A (ja) * | 2020-02-19 | 2021-09-09 | Smc株式会社 | 非接触搬送装置 |
-
1991
- 1991-11-13 JP JP29702791A patent/JPH05136254A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010129673A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Kyocera Corp | 静電チャックおよび被保持物の静電吸着方法 |
| EP2727863A1 (en) * | 2012-10-30 | 2014-05-07 | Aoi Seiki Co., Ltd. | Chucking apparatus |
| US9016743B2 (en) | 2012-10-30 | 2015-04-28 | Aoi Seiki Co., Ltd. | Chucking apparatus |
| JP2021130162A (ja) * | 2020-02-19 | 2021-09-09 | Smc株式会社 | 非接触搬送装置 |
| US11541554B2 (en) | 2020-02-19 | 2023-01-03 | Smc Corporation | Non-contact transport device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5790365A (en) | Method and apparatus for releasing a workpiece from and electrostatic chuck | |
| JPH0729968A (ja) | 改良された静電チヤック | |
| JPH077074A (ja) | ウエハを解放する方法及び装置 | |
| JP2001298072A (ja) | 静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 | |
| JP2001007191A (ja) | ヒステリシス放電サイクルを用いる静電チャックからの半導体ウエハ高速デチャック | |
| TW561794B (en) | Dechucking with N2/O2 plasma | |
| JP2017123354A (ja) | 試料の離脱方法およびプラズマ処理装置 | |
| US8593779B2 (en) | Hybrid electrostatic chuck | |
| JP6708358B2 (ja) | プラズマ処理装置及び試料の離脱方法 | |
| WO2012090430A1 (ja) | 静電吸着装置 | |
| JPH05136254A (ja) | 静電吸着装置 | |
| JP2978470B2 (ja) | 静電吸着装置および被吸着物離脱方法 | |
| JPH08191099A (ja) | 静電チャック及びその製造方法 | |
| KR100483737B1 (ko) | 기판흡착방법 및 그 장치 | |
| GB2293689A (en) | Electrostatic chuck | |
| JP2574066B2 (ja) | 静電吸着装置 | |
| JP3123956B2 (ja) | 静電吸着装置及びそれを用いた電子線描画装置 | |
| JPH0263304B2 (ja) | ||
| JPS59132139A (ja) | 静電チヤツク板 | |
| JP2002222850A (ja) | 静電チャックにおける被吸着物の離脱方法 | |
| JP3121893B2 (ja) | 静電チャック | |
| JPH07211769A (ja) | プラズマ処理方法および装置 | |
| US6453496B1 (en) | Apparatus for removing contaminant particles on a photomask | |
| JP2000100917A (ja) | 静電チャック装置 | |
| JP4099028B2 (ja) | 静電吸着装置及びそれを用いた半導体製造装置 |