JP2010073700A - 有機elデバイスおよび有機elディスプレイパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と;駆動TFTと;前記基板上に配置され、前記駆動TFTと接続した第一電極と;前記陽極上に配置された有機発光層と;前記有機発光層の配置領域を規定し、フッ素含有樹脂を含むバンクと;前記有機発光層および前記バンクを覆う第二電極と、を有するアクティブマトリックス型の有機ELデバイスであって、1)前記バンクのフッ素濃度は、底面から上面に向って高くなり、2)前記バンクの上面には、前記有機発光層の配置領域の縁に沿う溝が形成され、3)前記溝は前記有機発光層の上面の縁を規定する、ことを特徴とする有機ELデバイスを提供する。
【選択図】図3
Description
高分子有機発光層は、例えば、有機発光材料および溶媒を含むポリマーインクを、インクジェットなどで各画素の陽極上に塗布することで、各画素に配置される。各画素に有機発光材料を含むインクを塗布する場合、隣り合う画素にインクが浸入しないようにする必要がある。
[1]基板と;駆動TFTと;前記基板上に配置され、前記駆動TFTと接続した第一電極と;前記陽極上に配置された有機発光層と;前記有機発光層の配置領域を規定し、フッ素含有樹脂を含むバンクと;前記有機発光層および前記バンクを覆う第二電極と、を有するアクティブマトリックス型の有機ELデバイスであって、
前記バンクのフッ素濃度は、底面から上面に向って高くなり、
前記バンクの上面には、前記有機発光層の配置領域の縁に沿う溝が形成され、
前記溝は前記有機発光層の上面の縁を規定する有機ELデバイス。
[2]前記バンクの上面に形成された溝の幅は、10〜100μmであり、深さは、0.1〜2.0μmである、[1]に記載の有機ELデバイス。
[3]前記バンクの底面と、前記バンクの上面との距離は、0.1〜2.0μmである、[1]に記載の有機ELデバイス。
[4]前記有機発光層の厚さは50〜100nmである、[1]に記載の有機ELデバイス。
[5]同一平面に配置された2以上の[1]に記載の有機ELデバイスを有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記バンクは、ライン状の領域を規定し、
前記ライン状の領域には、前記2以上の有機ELデバイスが一列に配列されている、有機ELディスプレイパネル。
[6]同一平面に配置された2以上の[1]に記載の有機ELデバイスを有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記バンクは、それぞれの前記有機ELデバイスの有機発光層を独立して規定する、有機ELディスプレイパネル。
本発明の有機ELデバイスは、基板と、基板上に配置された陽極と、陽極上に配置された有機発光層と、有機発光層を規定するバンクと、を有する。
一方、有機ELデバイスがトップエミッション型の場合には、基板が透明である必要はないので、基板の材料は絶縁体であれば任意である。
一方、有機ELデバイスがトップエミッション型の場合には、陽極に光反射性が求められるので、陽極の材料の例には、APC合金(銀、パラジウム、銅の合金)やARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などが含まれる。陽極の厚さは、通常、100〜500nmであり、約150nmでありうる。
正孔注入層の厚さは、通常、10nm〜100nmであり、約50nmでありうる。
このようなフッ素含有樹脂の例には、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリメタアクリル樹脂、含フッ素フェノール・ノボラック系樹脂などが含まれる。
一方、本発明の有機ELデバイスがボトムエミッション型の場合、陰極の材料は特に限定されないが、例えば、BaやBaO、Alなどである。
2.有機ELディスプレイパネルについて
本発明の有機ELデバイスを1の基板上にマトリクス状に複数個配置し、有機ELディスプレイパネルを構成してもよい(図9〜図13参照)。有機ELディスプレイパネルでは、それぞれの有機ELデバイスは画素として機能する。
陽極の形状は、本発明の有機ELディスプレイパネルが、パッシブマトリクス型かアクティブマトリクス型かによって異なる。
有機ELディスプレイパネルがパッシブマトリクス型である場合、複数のライン状の陽極が基板上に配置される。ライン状の陽極は、互いに並行であることが好ましい。有機ELディスプレイパネルがアクティブマトリクス型である場合、陽極は基板上に画素ごとに独立して配置される。
バンクは、個々の画素(有機ELデバイス)を規定していてもよいし(図12)、一列に配列された画素を規定してもよい(図9)。
バンクが一列に並んだ画素を規定する場合、バンクは基板上にライン状に複数本形成され、基板上にライン状の領域を規定する(図9参照)。ライン状のバンクが規定したライン状の領域には、2以上の画素が一列に配列される。ライン状のバンクは互いに並行であることが好ましい。また、陽極がライン状である場合、ライン状のバンクのラインの方向と、陽極のラインの方向とは直交することが好ましい。
本発明の有機ELディスプレイパネルでは、複数の画素が1の正孔注入層を共有してもよいし、正孔注入層は画素ごとに独立して配置されてもよい。
中間層は、バンクによって規定された領域に配置される。すなわち、バンクが個々の画素を規定している場合、中間層は画素ごとに独立して配置される。一方、バンクが一列に並んだ画素を規定している場合、中間層は、ライン状の領域内にライン状に形成される。この場合、ライン状の領域内の画素が1のライン状の中間層を共有する。
有機発光層は、バンクによって規定された領域に配置される。すなわち、バンクが個々の画素を規定している場合、有機発光層は画素ごとに独立して配置される。一方、バンクが一列に並んだ画素を規定している場合、有機発光層は、ライン状の領域内にライン状に形成される。この場合、ライン状の領域内の画素が1のライン状の有機発光層を共有する。
また有機ELディスプレイパネルに含まれる全ての有機ELデバイスの有機発光層の縁は、バンク上に形成された溝によって規定される。
陰極の形状は、有機ELディスプレイパネルがアクティブマトリクス型かパッシブマトリクス型かによって異なる。有機ELディスプレイパネルがアクティブマトリクス型の場合、陰極を複数の画素が共有していてもよい。アクティブマトリクス型の有機ELディスプレイパネルでは、各画素は独立したTFTによって駆動されるからである。一方、有機ELディスプレイパネルがパッシブマトリクス型の場合、複数のライン状の陰極がパネル上に配置される。ライン状の陰極は、互いに並行であることが好ましい。またライン状の陰極のライン方向は、ライン状の陽極のライン方向と直交することが好ましい。
本発明の有機ELデバイスは、本発明の効果を損なわない限り、任意の方法で製造され得る。
また、図4Eでは、インク107は溝106の外縁によって規定された領域まで塗布される例を示したが、インク107は、溝106の内縁まで塗布されてもよい。インク107が溝106の内縁まで塗布される場合、インク107は溝106内には塗布されない。インクを溝の外縁まで塗布するか、内縁まで塗布するかは、塗布するインクの量を調節することによって選択することができる。
図5は実施の形態1の有機ELデバイス100の断面図である。
ドレイン電極205と陽極103とは、コンタクトホール209を通して接続される。
実施の形態1では、中間層の縁を規定する溝と、有機発光層の縁を規定する溝とが異なった例について説明した。実施の形態2では、中間層の縁を規定する溝と、有機発光層の縁を規定する溝とが同じである例について説明する。
実施の形態1および2では、バンクの上面に溝が形成された有機ELデバイスについて説明した。実施の形態3では、バンクの上面に突起が形成された有機ELデバイスについて説明する。
実施の形態4ではアクティブマトリクス型の有機ELディスプレイパネルについて説明する。
実施の形態では、発色領域内の陽極と陽極との間に、無機膜が形成される例について説明する。本実施の形態の有機ELデバイスの平面図は、実施の形態4の有機ELデバイス400と同じである。したがって、図9Aは、本実施の形態の有機ELデバイスの平面図でもある。
実施の形態4および5では、有機ELディスプレイパネルが有する画素が全て発光する有機ELディスプレイパネルについて説明した。実施の形態6では、有機ELディスプレイパネルが有する複数の画素の一部を意図的に発光させないようにした例について説明する。
実施の形態4〜6では、ライン状のバンクが複数の画素からなる発色領域を規定する例について説明した。実施の形態7では、バンクが各画素の有機発光層を規定する有機ELディスプレイパネルについて説明する。
実施の形態7では、第2バンクが各画素を規定する例について説明した。本実施の形態では、第2バンクが隣接する画素同士を連通する溝を有する例について説明する。
Claims (6)
- 基板と;駆動TFTと;前記基板上に配置され、前記駆動TFTと接続した第一電極と;前記陽極上に配置された有機発光層と;前記有機発光層の配置領域を規定し、フッ素含有樹脂を含むバンクと;前記有機発光層および前記バンクを覆う第二電極と、を有するアクティブマトリックス型の有機ELデバイスであって、
前記バンクのフッ素濃度は、底面から上面に向って高くなり、
前記バンクの上面には、前記有機発光層の配置領域の縁に沿う溝が形成され、
前記溝は前記有機発光層の上面の縁を規定する有機ELデバイス。 - 前記バンクの上面に形成された溝の幅は、10〜100μmであり、深さは、0.1〜2.0μmである、請求項1に記載の有機ELデバイス。
- 前記バンクの底面と、前記バンクの上面との距離は、0.1〜2.0μmである、請求項1に記載の有機ELデバイス。
- 前記有機発光層の厚さは50〜100nmである、請求項1に記載の有機ELデバイス。
- 同一平面に配置された2以上の請求項1に記載の有機ELデバイスを有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記バンクは、ライン状の領域を規定し、
前記ライン状の領域には、前記2以上の有機ELデバイスが一列に配列されている、有機ELディスプレイパネル。 - 同一平面に配置された2以上の請求項1に記載の有機ELデバイスを有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記バンクは、それぞれの前記有機ELデバイスの有機発光層を独立して規定する、有機ELディスプレイパネル。
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