JP4534054B2 - 有機ｅｌ表示パネルとその製法 - Google Patents

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下本明細書において、有機ＥＬという。）を用いた表示パネル及びその製法に関し、特に光取出し効率及び表示のコントラストを向上させた有機ＥＬ表示パネルに関するものである。

有機ＥＬ表示パネルを採用する有機ＥＬディスプレイは、自発光の有機ＥＬ素子をガラス等の基板上に配置させ、有機ＥＬ素子を発光させて情報を表示する。有機ＥＬディスプレイは、他の方式の薄型ディスプレイに比べ、「薄い・軽い」「高画質」「動画対応に優れる」「視野角が広い」「低消費電力」という特長を持ち、ユビキタス社会を支える次世代薄型ディスプレイとして有望視されている。

有機ＥＬ素子は、一般的にアノードとカソードの間に数層の有機層を挟んで構成される。ここで数層の有機層は、素子構造により異なる構造、層数を有するが、発光層を挟んでホール輸送層、ホール注入層、及び／又は電子輸送層、電子注入層等の３〜５層の機能層を含むことが多い。

有機ＥＬ素子の有機層を挟むアノードとカソードの２つの電極間に直流電流を供給すると、アノードから正孔が、カソードから電子が上記各機能層を介して発光層に注入される。発光層において正孔と電子が再結合を起こして発生するエネルギーによって、発光層に含まれる有機分子の電子状態が励起状態に励起される。この極めて不安定な電子状態が基底状態に落ちる際にエネルギーを光として放出し、有機ＥＬ素子が発光する。この発光原理が発光ダイオード（ＬＥＤ；Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）の発光メカニズムと共通することから、有機ＥＬ素子は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ；Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）とも呼ばれている。

有機ＥＬディスプレイの光の取り出し方にはボトム・エミッション方式とトップ・エミッション方式がある。ここでボトム・エミッション方式とは、図７（ａ）に示すように、光を絶縁基板２０１０側から取り出す方式である。また、トップ・エミッション方式とは、図７（ｂ）に示すように上面層１０１４側から光を取り出す方式である。

従来、例えばトップ・エミッション方式の有機ＥＬ表示パネルは、図４（ａ）〜（ｅ）に示すように、次のように製造されていた。（１）図４（ａ）のように、基板１１０を準備し、アノード層１１４をスパッタリング、蒸着法等で成膜する。（２）図４（ｂ）のように、アノード層１１４をフォトリソグラフ法を用いてパターニングを行い、不要な部分をエッチングにて除去して画素領域ごとにアノード１１５を形成する。（３）図４（ｃ）のようにエッジインシュレータ１１３を、スピンコート法等によって成膜後フォトリソグラフ法等によりパターニングして各アノード１１５間に形成する。（４）図４（ｄ）のように、隔壁１１８をエッジインシュレータ１１３上に、スピンコート法等によって成膜後フォトリソグラフ法等によりパターニングして形成する。（５）図４（ｅ）のように、有機ＥＬ層１２０をメタルマスクと真空蒸着法などを用いて、パターニングを行いながら成膜し、カソード１２２を抵抗加熱法やＥＢ蒸着、スパッタ法などを用いて成膜する。

ところで、有機ＥＬディスプレイの輝度を上げるためには、投入電流を増やすもしくは効率の良いパネルにする必要が生じる。そこで、効率のよい有機ＥＬ素子を作成するためには光の取出し効率（光取出し面から取り出せる光量／有機ＥＬ素子からの総発光量）をできるだけ上げる必要がある。

発光が生じる有機層の厚さは１５００Å程度までであり、発光層に限定すると数百Å程度にしかならず、発光波長よりも十分に短い。このような層内部で生じた発光は、膜内で立体角Ω＝４πのすべての方向に広がる。図８に模式的に示すように、通常、トップ・エミッション方式の有機ＥＬディスプレイ１００１ではカソード１０１４を通して発光が出て行くのと同時に、アノード１０１２側に一旦出射された発光はアノード１０１２で反射され、やはりカソード１０１４側から出てゆく。ボトム・エミッション方式の有機ＥＬディスプレイでは、トップ・エミッション方式の場合のアノード１０１２とカソード１０１４の役割が反対となるだけである。

ここで、上記のように発光は十分に薄い層内部で生じているため、発光層と機能層又は機能層同士の界面の屈折率をよほど大きくしないと、図６に示すように、全反射する発光の割合は非常に高くなる。全反射した光は導波路を通るように有機層１２０内部を伝搬し、層間界面と平行に出射することになる。このような層間界面と平行な光はディスプレイの輝度に寄与する発光成分とはならず、入射エネルギーに対しての発光効率が悪くなる。

図５に示すように従来の構造では、有機ＥＬ素子１０３の発光エリアの周囲には、アノード１１５とカソード１２２のショートを防ぐためのエッジインシュレータ１１３や、カソード１２２を任意の位置で区切るための隔壁１１８等、多くのポリマー構造物がある。これらのポリマー構造物の中には、若干有色のものも存在するが、その多くは遮光できるほどＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）値が高いものではない。従って、ポリマー構造物に上記層間界面と平行な光が入射すると、それらのポリマー構造物は導光板のように機能してしまい、ポリマー構造物の部分がボーと光を放ってしまう。

このような光は、有機ＥＬ表示パネルを全黒対全白で評価するようなコントラストには大きくは寄与しない。しかし、ＡＮＳＩコントラストに代表されるようなチェッカーパターンや、通常の映像を出した際の数字で評価しにくい実効的なコントラスト比を損なうという問題があった。

特許文献１に、発光層より高い反射型の逆Ｖ字構造体間に有機ＥＬ素子を挟んでメサ構造とする発明が開示されている。特許文献１の発明によれば、視認性に優れた、高効率の発光性能を維持することができる画像形成装置を提供することができる。

特開２００３−２５７６５９号公報（段落[５３]〜[５６]）

しかし、メサ構造体は、構造物をすべてポリマーで形成する従来の有機ＥＬ表示パネルに比べて逆Ｖ字構造体に用いる材料選択、形成方法に対する制約が多く、製造工程が複雑で高コストとなる。また、逆Ｖ字構造体は光反射性を示す材料として金属材料や導電性材料などを例示しているが、これらでは画素周囲においてアノードとカソードがショートする欠点があり、例示された構造をそのまま用いても効率よく有機ELパネルを作成することは困難である。さらに光透過性でも構わないとされているが、これでは前段落で示した実効コントラストを上げる効果はほとんど無いことも問題である。

そこで本発明は、従来無駄となっていた電極面と平行発光成分を電極面に垂直方向な方向に外部に放出させてポリマー構造物への侵入を防ぎ、明るさとコントラストを同時に向上させることができ、しかも隔壁等の周囲の構造物をポリマーで形成すことが可能な電極構造を持つ有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、基板と、前記基板上に間隔をおいて互いに平行に延設され、断面がテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有する複数のバンクと、隣り合う前記バンク間及び該２つの隣り合うバンクの対面する側面を覆って形成された第１電極層と、前記複数のバンクの上面に該バンクに沿ってそれぞれ設けられ、断面視して上部よりも下部が幅狭であって、平面視して前記上部の端部が前記第１電極層の端部と重なる位置まで張り出して設けられる隔壁と、前記第１電極層上に該第１電極層の一部が露出するように設けられ、断面視して端部が前記第１電極層の端部上にまで設けられる絶縁膜と、前記絶縁膜上から前記第１電極層の前記露出部にかけて設けられる有機層と、前記有機層上に設けられ、平面視して前記隔壁と重ならない位置に設けられる第２電極層と、を含む。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記バンクはポリマーで形成されていてもよい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記バンクの底面と２つの側面のなす角は、４０度以上５０度以下であることが望ましい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記電極層の前記バンクの側面を覆う部分を覆って形成された絶縁膜を含み得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記絶縁膜の膜厚は、１００Å以上３０００Å以下であることが好ましい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記絶縁膜はポリマーにより形成されていてもよい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記絶縁膜は、可視光線透過率が９５％以上であることが好ましい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記絶縁膜は、アクリル系、ポリイミド系等のフォトレジストにより形成され得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記絶縁膜上及び前記電極層上に有機層及び第２電極層が順次積層され得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルは、前記第２電極層の端部は前記絶縁膜の端部よりも内側に位置していることを特徴とする。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板を準備する工程と、前記基板上に、断面がテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有する複数のバンクを、相互に間隔をおいて平行に延設する工程と、隣り合う前記バンク間及び該２つの隣り合うバンクの対面する側面を覆って第１電極層を形成する工程と、前記複数のバンクの上面に該バンクに沿って、断面視して上部よりも下部が幅狭であって、平面視して前記上部の端部が前記第１電極層の端部と重なる位置まで張り出して設けられる隔壁を形成する工程と、前記第１電極層上に該第１電極層の一部を露出するように、断面視して端部が前記第１電極層の端部上にまで設けられる絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜上から前記第１電極層の前記露出部にかけて有機層を形成する工程と、前記有機層上に、平面視して前記隔壁と重ならない位置に設けられる第２電極層を蒸着法にて形成する工程と、を含む。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記バンクはポリマーにより形成され得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記バンクの底面と２つの側面のなす角を、４０度以上５０度以下となるように形成することが好ましい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第１電極層の前記バンクの側面を覆う部分を覆って絶縁膜を形成する工程を含み得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記絶縁膜はポリマーにより形成されていてもよい。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記絶縁膜上及び前記電極層上に有機層及び第２電極層を順次積層する工程を含み得る。

本発明の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、前記第２電極層の端部を前記絶縁膜の端部よりも内側に位置することを特徴とする。

尚、以下本発明の実施形態において、バンクはポリマーバンクと、電極層はアノードと、絶縁膜は薄膜ポリマーと、第２電極層はカソードとして説明する。

本発明の有機ＥＬディスプレイは、電極面と平行な無駄な発光成分を、電極面に垂直方向な方向に外部に放出させる電極構造を開発することにより、光取出し効率を高めることができる。また、本発明に係る電極構造を採用することにより、隔壁やエッジインシュレーター等、従来よりポリマーで形成されていた構造物を従来どおりポリマーで形成しても、発光エリアの周囲のポリマー構造物へ光が侵入するのを防ぐことが可能となる。従って、本発明の有機ＥＬディスプレイは、明るさとコントラストを同時に向上させることができる。

更に、全反射条件が大幅に緩和され、光取出し効率を高めるために従来形成していた光屈折率層の必要性が薄れる。このため、発光膜構造や材料の構成、選択に関する制限が少なくなり、より発光効率や寿命、色純度など本来の素子特性の向上を目指した開発が可能となる。

本発明の有機ＥＬ表示パネル１は、図１（ａ）に示すように、基板１０と、基板１０上に間隔をおいて互いに平行に延設される複数のポリマーバンク１２（バンクに相当）を含む。ポリマーバンク１２は短手方向の断面が基板１０の上方向に細いテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有しており、底面と２つの側面のなす角は好ましくは４０度以上５０度以下、更に好ましくは４５度前後が好適である。複数のポリマーバンク１２は、一方向にストライプ状に互いに平行に延設されてもよいが、図１（ｅ）に示す有機ＥＬ素子３を囲んでマトリクス状に縦横に延設されてもよい。尚、ポリマーバンク１２は、従来のエッジインシュレータとして使用していたポリマーで代用可能である。

また、本実施形態の有機ＥＬ表示パネル１は、図１（ｃ）に示すように隣り合うポリマーバンク１２間の基板１０上及び該２つの隣り合うポリマーバンク１２の対面する側面を覆って斜め構造のアノード１４（電極層に相当）が形成される。斜め構造のアノード１４は、薄膜ポリマー１６（絶縁膜に相当）で覆う。この薄膜ポリマー１６はカソード２２（第２電極層に相当）と、アノード１４とが有機層２０の形成領域外でショートするのを防ぐためのものであり、薄膜ポリマー１６の端部はカソード２２の端部よりも外側（隔壁側）に位置している。尚、ポリマーバンク１２が上記マトリクス状に有機ＥＬ素子３を囲んで形成される場合は、有機ＥＬ素子３を囲む４方のポリマーバンク１２の側面に、アノード１４及び薄膜ポリマー１６が積層される。

更に、ポリマーバンク１２の上面に隔壁１８がポリマーバンク１２に沿って形成され、基板１０の一面に有機層２０とカソード２２が、例えば真空蒸着により成膜される。尚、ポリマーバンク１２の高さは、基板１０上に積層されたアノード１４、有機層２０及びカソード２２の膜厚より十分に高く、１０００ｎｍ以上とする。

本実施形態の有機ＥＬ表示パネル１はトップエミッション型であり、基板１０は例えば無アルカリガラス等の絶縁基板（基板に相当）を用い、アノード１４は光反射性のＡｌ混合物、Ｃｒ等で形成される。カソード２２は光取出し面であるため透明電極とし、ＭｇＡｇ薄膜等とＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等から形成される。

ポリマーバンク１２及び隔壁１８は、例えばポリマー系統のアクリル系、ポリイミド系等のフォトレジストで形成される。上記のように、これらのポリマー構造物の中には若干有色のものも存在するが、その多くは遮光できるほどＯＤ値が高いものではない。従って、ポリマーバンク１２及び隔壁１８等のポリマー構造物に光が入射すると、これらのポリマー構造物は導光板のように機能してしまい、ポリマー構造物の部分がボーと光を放ってしまう。

薄膜ポリマー１６は、アクリル系、ポリイミド系等のフォトレジストで形成される。また、薄膜ポリマー１６は、１００Å以上３０００Å以下であることが望ましい。その理由は、薄膜ポリマー１６の厚みが１００Åよりも薄いと、膜厚均一性が不安定になりやすく、電気的な絶縁効果が低くなる傾向にあり、一方、薄膜ポリマー１６の厚みが３０００Åよりも厚いと、可視光線透過率が低くなるという問題を誘発する可能性があるからである。
また、薄膜ポリマー１６の可視光線透過率は、９５％以上であることが望まれる。その理由は、薄膜ポリマー１６の直下領域に位置するアノード1４で反射した光の多くを外部へ効率的に取り出すためである。なお、可視光線透過率を９５％以上とするためには、使用材料、薄膜ポリマー１６の膜厚を調整すればよく、有色成分が少ないほど、膜厚が小さいほど可視光線透過率が高くなる。例えば、可視光線透過率を９５％以上とするには、薄膜ポリマー１６としてアクリル系等の材料を採用するか、有色成分を十分少ないノボラック系、ポリイミド系などの材料を採用したり、あるいは、多少着色がある材料の場合は膜厚を薄く塗布できるような低粘度材料の採用、印刷等の塗布方法を採用すればよい。

以上のような構成の有機ＥＬ表示パネル１において、アノード１４と透明電極のカソード２２間に発光閾値電流以上の適当な電流を供給すると、各有機ＥＬ表示パネル層２０が蛍光または燐光を発光する。この発光した光は、立体角Ω＝４πのすべての方向に広がって放出される。基板１０に略垂直に放出された光(以下、垂直出射成分という。)は、アノード１４及びカソード２２方向に伝搬し、カソード２２方向の垂直出射成分はカソード２２から外部に取り出される。アノード１４方向の直進光は、反射性材料からなるアノード１４で反射し、カソード２２方向に伝搬してやはりカソード２２から外部に取り出される。このアノード１４で反射した反射光は、有機層２０からカソード２２方向へ放射された光と強め合ってカソード２２から外部に取り出されるよう、有機層２０を構成する発光層、機能層の膜厚、屈折率は好適な範囲に設定される。

また、上記のように等方的に放出された光のうち、発光層と機能層又は機能層同士の界面で全反射した光は、上記のように、有機層２０から基板１０と略平行に出射する光(以下、平行出射成分という。)となる。この平行出射成分は、図３のようにポリマーバンク１２の側面にも形成された斜め構造のアノード１４でカソード２２方向に反射し、図２に示すように透明電極であるカソード２２から外部に取り出される。したがって、ポリマーバンク１２及び隔壁１８等のポリマー構造物に光が入射することを良好に抑制できる。なお、光を外部に効率的に取り出すためには、上記のようにポリマーバンク１２の側面は基板１０と４５°前後の角度をなすことが好ましい。

上記構造の本実施形態の有機ＥＬ表示パネル１は、下記のような工程で製造される。以下に、図１（ａ）〜図１（ｅ）を参照して有機ＥＬ表示パネル１の製造手順を説明する。

（１）図１（ａ）のように、基板１０を準備し、ポリマーバンク１２を例えばフォトリソグラフ法により形成する。
（２）アノード層を一面に成膜し、図１（ｂ）のように、公知の方法でエッチングして画素領域ごとにアノード１４を形成する。
（３）同様に十分薄い薄膜ポリマー１６を成膜し、図１（ｃ）のように、ポリマーバンク１２の側面を覆って形成されたアノード１４部分を覆うように薄膜ポリマー１６をエッチングし、所定パターンに加工する。
（４）図１（ｄ）のように、隔壁１８をポリマーバンク１２の上面に、フォトリソグラフ法等により形成する。
（５）図１（ｅ）のように、薄膜ポリマー１６及びアノード１４上に有機ＥＬ層２０、カソード２２を真空蒸着により順次積層する。このとき、カソード２２は薄膜ポリマー１６の端部よりも内側に位置するように成膜すれば、カソード２２とアノード１４との短絡を確実に防止できるという利点がある。

上記本発明に係る有機ＥＬ表示パネル１の特徴は、アノード１４がポリマーバンク１２の側面にも形成され、その側面上の斜め構造のアノード１４は基板１０と４５°前後の角度がついていることである。平行出射成分は、この斜め構造のアノードにて反射を受け、有機層２０の垂直方向へ発光成分が方向を変えるため、光取出し効率が著しく上昇する。更に、全反射条件が大幅に緩和され、光取出し効率を高めるために形成していた光屈折率層の必要性が薄れる。このため、発光膜構造や材料の構成、選択に関する制限が少なくなり、より発光効率や寿命、色純度など本来の素子特性の向上を目指した開発が可能となる。

また、斜め構造のアノード１４にて平行出射成分は反射されるので、ポリマーバンク１２及び隔壁１８等のポリマー構造への光の漏れがなくなるため、コントラストが向上する。

以上、本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの実施形態について説明したが、本発明の有機ＥＬディスプレイは上記実施形態に限定されるものではない。基板の上にカソードを形成し、有機層を電子注入層及び／又は電子輸送層及び発光層及び／又はホール輸送層及び／又はホール注入層と積層し、アノードを上面に形成してもよい。この場合、カソードは光反射性の材料で、また、アノードは透明電極とする必要がある。

また、本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの有機層は低分子系、高分子系のいずれの有機材料で形成されてもよい。すべてのトップエミッション型の有機EL表示パネルに本発明は適用し得る。

また、本発明に係る有機ＥＬ表示パネルは白黒等の２色表示型パネルでもよく、ＲＧＢのフルカラー表示であってもよい。あるいは、各サブピクセルにおける発光色の種類が４種類以上であっても、本発明は適用し得る。

更に、本発明の有機ＥＬ表示パネルにおいて、機能層はホール輸送層、ホール注入層、電子輸送層及び電子注入層の全てが必要であるわけではなく、特に高分子系の発光層である場合には、特に上記機能層は必要ではない。

また、本発明の有機ＥＬ表示パネルは、パッシブ方式でもアクティブ方式でもよい。いずれの方式の有機ＥＬ表示パネルであっても本発明は適用し得る。

更に、本発明の有機ＥＬ表示パネルの各構成要素を形成する材料は、上記記載の材料に限定されない。上記各構成要素の特性を再現できるすべての材料が本願発明の範囲に含まれる。

また更に、上述の実施形態においては、基板の表面側より、アノード、有機層、カソードの順に積層するようにしたが、これに代えて、基板の表面側より、カソード、有機層、アノードの順に積層するようにしても良く、この場合、上述の実施形態とは異なり、隣り合うポリマーバンクの対面する側面を覆うように形成されるのはアノードではなく、カソードであり、電極層がカソード、第２電極層がアノードとなる。

更にまた、上述の実施形態においては、バンクとしてポリマーバンクを、絶縁膜として薄膜ポリマーを採用したが、バンク及び絶縁膜共にポリマー以外の絶縁材料であっても良い。尚、絶縁膜は絶縁材料であって、かつ光透過性の良い材料により形成されていることが好ましい。

その他、本発明は、その主旨を逸脱しない範囲で当業者の知識に基づき種々の改良、修正、変更を加えた態様で実施できるものである。

本発明の有機ＥＬディスプレイは、テレビやパソコンに用いる薄型ディスプレイとして、あるいは、携帯電話やカーナビ、ＰＤＡ等に使用される小型のディスプレイに利用し得る。更には、薄型の照明としても利用が期待できる。

（ａ）本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの第１の製造工程をあらわす断面図である。（ｂ）本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの第２の製造工程をあらわす断面図である。（ｃ）本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの第３の製造工程をあらわす断面図である。（ｄ）本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの第４の製造工程をあらわす断面図である。（ｅ）本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの第５の製造工程をあらわす断面図である。 本発明に係る有機ＥＬ表示パネルの単位画素領域の断面図である。 本発明に係る有機ＥＬ表示素子内の光の光路を表す断面図である。 （ａ）従来の有機ＥＬ表示パネルの第１の製造工程をあらわす断面図である。（ｂ）従来の有機ＥＬ表示パネルの第２の製造工程をあらわす断面図である。（ｃ）従来の有機ＥＬ表示パネルの第３の製造工程をあらわす断面図である。（ｄ）従来の有機ＥＬ表示パネルの第４の製造工程をあらわす断面図である。（ｅ）従来の係る有機ＥＬ表示パネルの第５の製造工程をあらわす断面図である。 従来の有機ＥＬ表示パネルの単位画素領域の断面図である。 従来の有機ＥＬ表示素子内の全反射の様子を表す断面図である。 （ａ）ボトムエミッション型のアクティブ型有機ＥＬディスプレイの発光方法を表す断面図である。（ｂ）トップエミッション型のアクティブ型有機ＥＬディスプレイの発光方法を表す断面図である。 （ａ）従来の有機ＥＬディスプレイの発光光路を表す断面図である。（ｂ）本発明に係る第１の実施形態の有機ＥＬディスプレイの発光光路を表す断面図である。

符号の説明

１、１０１、１００１、２００１：有機ＥＬ表示パネル
３、１０３：有機ＥＬ素子
１０、１１０、１０１０、２０１０：基板
１２：ポリマーバンク
１４、１１４、１０１２、２０１２：アノード
１６、１１６：薄膜ポリマー
１８、１１８：隔壁
２０、１２０、１０１６、２０１６：有機層
２２、１２２、１０１４、２０１４：カソード
１１３：エッジインシュレータ
１１５：アノード
２０１８：発光層
１０２０：ホール注入層
１０２２：ホール輸送層
１０２４：電子輸送層
１０２６：電子注入層

Claims (14)

1. 基板と、
   前記基板上に間隔をおいて互いに平行に延設され、断面がテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有する複数のバンクと、
   隣り合う前記バンク間及び該２つの隣り合うバンクの対面する側面を覆って形成された第１電極層と、
   前記複数のバンクの上面に該バンクに沿ってそれぞれ設けられ、断面視して上部よりも下部が幅狭であって、平面視して前記上部の端部が前記第１電極層の端部と重なる位置まで張り出して設けられる隔壁と、
   前記第１電極層上に該第１電極層の一部が露出するように設けられ、断面視して端部が前記第１電極層の端部上にまで設けられる絶縁膜と、
   前記絶縁膜上から前記第１電極層の前記露出部にかけて設けられる有機層と、
   前記有機層上に設けられ、平面視して前記隔壁と重ならない位置に設けられる第２電極層と、
   を含む、有機ＥＬ表示パネル。
2. 前記バンクはポリマーで形成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
3. 前記バンクの底面と２つの側面のなす角は、４０度以上５０度以下である、請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
4. 前記絶縁膜の膜厚は、１００Å以上３０００Å以下である、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
5. 前記絶縁膜はポリマーにより形成されている、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
6. 前記絶縁膜は、可視光線透過率が９５％以上である、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
7. 前記絶縁膜は、アクリル系、ポリイミド系等のフォトレジストにより形成されている、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
8. 前記第２電極層の端部は前記絶縁膜の端部よりも内側に位置していることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
9. 基板を準備する工程と、
   前記基板上に、断面がテーパ状となる上面と底面と２つの側面を有する複数のバンクを、相互に間隔をおいて平行に延設する工程と、
   隣り合う前記バンク間及び該２つの隣り合うバンクの対面する側面を覆って第１電極層を形成する工程と、
   前記複数のバンクの上面に該バンクに沿って、断面視して上部よりも下部が幅狭であって、平面視して前記上部の端部が前記第１電極層の端部と重なる位置まで張り出して設けられる隔壁を形成する工程と、
   前記第１電極層上に該第１電極層の一部を露出するように、断面視して端部が前記第１電極層の端部上にまで設けられる絶縁膜を形成する工程と、
   前記絶縁膜上から前記第１電極層の前記露出部にかけて有機層を形成する工程と、
   前記有機層上に、平面視して前記隔壁と重ならない位置に設けられる第２電極層を蒸着法にて形成する工程と、
   を含む、有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
10. 前記バンクはポリマーにより形成されている、請求項９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
11. 前記バンクの底面と２つの側面のなす角を、４０度以上５０度以下となるように形成する、請求項９または請求項１０に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
12. 前記第１電極層の前記バンクの側面を覆う部分を覆って絶縁膜を形成する工程を含む、請求項９乃至請求項１１のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
13. 前記絶縁膜はポリマーにより形成されている、請求項９乃至請求項１２のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
14. 前記第２電極層の端部を前記絶縁膜の端部よりも内側に位置することを特徴とする請求項９乃至請求項１３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。

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